一种用于微通道反应器的原子层沉积设备制造技术

本实用新型专利技术涉及化工反应设备表面处理技术领域，公开了一种用于微通道反应器的原子层沉积设备，包括微通道反应器进料管和微通道反应器出料管；所述微通道反应器进料管的出口端用于连接微通道反应器进口，进口端与一个或多个进料管的出口端连通；所述进料管上设有载气进气口，所述进料管的出口端与载气进气口之间设有一个或多个反应物进料口；所述微通道反应器出料管的进口端用于连接微通道反应器出口，出口端与真空泵连通。本发明专利技术的原子层沉积设备能够有针对性地对微通道反应器的内部通道进行原子层沉积，将沉积局限在反应器的通道内壁上，具有沉积效率高、形成的沉积层均一、前驱体原料浪费较少的优点。原料浪费较少的优点。原料浪费较少的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种用于微通道反应器的原子层沉积设备


[0001]本技术涉及化工反应设备表面处理
，尤其涉及一种用于微通道反应器的原子层沉积设备。

技术介绍

[0002]原子层沉积(Atomic layer deposition，ALD)又称为原子层外延，是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面的方法，其原理是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器，使其在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜。由于ALD具有高反应活性和精度，且具有优异的沉积均匀性和一致性，可实现在原子水平上精确控制膜厚度，因此其具有良好的发展前景和广泛的应用潜力。
[0003]近年来，ALD技术在微电子、光电子、光学、纳米技术、微机械系统、能源、催化、生物医用、显示器、耐腐蚀及密封涂层等领域的研究方兴未艾，呈现爆发式增长，ALD设备和ALD材料市场也正经历着快速的发展和成长。而原子层沉积制备的材料种类和数量正变得越来越丰富，除了单质、氧化物、氮化物、硫化物、氟化物、硒化物、碲化物、碳化物等以外，已经从传统的无机材料扩展到聚合物、有机
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无机杂化材料，从简单的双元化合物扩展到复杂的三元、四元化合物和合金，形式由非晶(多晶)、外延薄膜扩展到特定的纳米结构、超晶格、纳水图形、金属有机骨架结构等。
[0004]微通道反应器是一种借助于特殊微加工技术以固体基质制造的可用于进行化学反应的三维结构元件。微通道反应器以小尺寸的微通道为核心，减小了流体的分散尺度，加快了传质和传热速率，能够缩短反应时间，同时还能够实现反应过程中温度的精准控制，此外，微通道反应器还具有集成度高、连续性强、能在小空间内实现反应的连续化放大、抗干扰能力强等优点。微通道反应器由于极大的比表面积，若对其微通道内表面进行原子层沉积，则能起到改善内表面粗糙度、提高耐腐蚀性或负载上催化剂等作用，进而极大地体现微通道反应器的优势。
[0005]目前已报道过很多ALD设备，但是都是采用一个真空腔的设计，里面可以用来放基板(平板或晶圆等)等进行原子层沉积。例如，专利CN202211109129.7公开了一种原子层沉积设备，在操作时将需要沉积的衬底片置于反应室中，再将前驱体输送到反应室，实现衬底片上的原子层沉积。这些ALD设备能够用于实现整个腔室的共沉积，同时主要沉积在腔室内工件的表面，但当用于微通道反应器时，难以实现反应器内部微通道内表面上的快速均匀沉积。

技术实现思路

[0006]为了解决现有的ALD设备难以实现微通道反应器内部的快速均匀沉积的技术问题，本技术提供了一种用于微通道反应器的原子层沉积设备。该设备能够有针对性地对微通道反应器的内部通道进行原子层沉积，将沉积局限在反应器的通道内壁上，具有沉积效率高、形成的沉积层均一、前驱体原料浪费较少的优点。
[0007]本技术的具体技术方案为：
[0008]一种用于微通道反应器的原子层沉积设备，包括微通道反应器进料管和微通道反应器出料管；所述微通道反应器进料管的出口端用于连接微通道反应器进口，进口端与一个或多个进料管的出口端连通；所述进料管上设有载气进气口，所述进料管的出口端与载气进气口之间设有一个或多个反应物进料口；所述微通道反应器出料管的进口端用于连接微通道反应器出口，出口端与真空泵连通。
[0009]本技术的原子层沉积设备工作过程如下：利用载气输送，将前驱体经由进料管和微通道反应器进料管通入微通道反应器中的微通道内，前驱体在微通道内表面上附着并反应，从而在微通道内表面上实现原子层沉积，多余的载气和气体经由微通道反应器出料管被真空泵排出；而后通入载气并抽真空，用于去除管路中残余的前驱体，避免管路堵塞。当需要用到多种前驱体时，可在每种前驱体沉积后，通入载气并抽真空去除管路中的残余前驱体，而后再通入另一种前驱体，以避免在管路中形成沉积而堵塞管路。
[0010]本技术采用微通道反应器进料管和微通道反应器出料管分别连接微通道反应器的进出口，能够将传统的ALD设备整个腔室的沉积限制在反应器微通道内部，有效地解决了微通道反应器在传统腔室中沉积时，前驱体原料很难扩散至反应器整个内部通道中(或扩散很缓慢)的弊端，大大提高了微通道反应器内部沉积的效率和均一性，且能减小前驱体原料的用量，避免浪费。
[0011]作为优选，所述原子层沉积设备包括主体腔室和用于放置微通道反应器的加热腔室；所述微通道反应器进料管的出口端和微通道反应器出料管的进口端设于加热腔室内；所述微通道反应器进料管的进口端、微通道反应器出料管的出口端和进料管设于主体腔室内。
[0012]在进行原子层沉积时，往往需要通过加热来实现前驱体的反应。利用微通道反应器内部的换热通道，可通入换热液对微通道进行加热，从而使前驱体反应，但本专利技术团队关注到，这种加热方式仅适用于反应温度较低(50～200℃)的原子层沉积。因此，本技术在原子层沉积设备中设置了加热腔室，在进行原子层沉积时，将微通道反应器置于加热腔室内，利用整个腔室内部的高温能够实现微通道内的加热，这种加热方式能够满足反应温度较高(可达500℃)的原子层沉积需要，此外还能用于不带有换热通道的微通道反应器内部的原子层沉积。
[0013]此外，由于微通道反应器具有不同的规格，其尺寸是不固定的，故本技术将加热腔室独立于主体腔室设计，便于根据微通道反应器的尺寸单独更换加热腔室，使其体积上更适配。
[0014]作为优选，所述反应物进料口的数量为多个，包括一个或多个金属源进料口和一个或多个氧化源进料口；所述进料管的数量为两个，所述金属源进料口设于其中一个进料管上，所述氧化源进料口设于另一个进料管上，每个进料管上均设有载气进气口。
[0015]采用上述带有金属源进料口和氧化源进料口的原子层沉积设备，能够在微通道反应器中负载上金属氧化物，这些金属氧化物可发挥改善微通道内表面粗糙度、提高耐腐蚀性、催化微通道内的反应等作用。本技术将多个金属源进料口设置在同一进料管上，能够减少进料管路对空间的占用，且不会对ALD沉积过程产生过大影响。
[0016]作为优选，所述微通道反应器包括反应器主体，还包括设于反应器主体内的微通
道和换热通道；所述微通道的两端分别设有微通道进口和微通道出口；所述换热通道的两端分别设有换热液进口和换热液出口。
[0017]通过在微通道反应器内部设置换热通道，能够满足反应温度较低(50～200℃)的原子层沉积需要，这种加热方式能够使微通道受热更加均匀，从而提高沉积层的均一性。
[0018]作为优选，所述载气进气口与载气进气管连通；所述载气进气管上设有流量控制器和载气进气阀门。
[0019]在对微通道反应器进行原子层沉积的过程中，若前驱体原料通入微通道内的速度控制不佳，则易造成微通道内壁上形成的沉积层形貌难以控制，进而造成微通道堵塞。为此，本专利技术在载气进气管上设置了流量控制器，通过控制载气流速来严格控制前驱体通入微通道内的速度，避免生成的沉积层堵塞微通道。
[0020]作为优选，所述反应物进料口与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于微通道反应器的原子层沉积设备，其特征在于，包括微通道反应器进料管（5）和微通道反应器出料管（6）；所述微通道反应器进料管（5）的出口端用于连接微通道反应器进口，进口端与一个或多个进料管（11）的出口端连通；所述进料管（11）上设有载气进气口（111），所述进料管（11）的出口端与载气进气口（111）之间设有一个或多个反应物进料口；所述微通道反应器出料管（6）的进口端用于连接微通道反应器出口，出口端与真空泵（7）连通。2.如权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备包括主体腔室和用于放置微通道反应器的加热腔室（3）；所述微通道反应器进料管（5）的出口端和微通道反应器出料管（6）的进口端设于加热腔室（3）内；所述微通道反应器进料管（5）的进口端、微通道反应器出料管（6）的出口端和进料管（11）设于主体腔室内。3.如权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述反应物进料口的数量为多个，包括一个或多个金属源进料口（112）和一个或多个氧化源进料口（113）；所述进料管（11）的数量为两个，所述金属源进料口（112）设于其中一个进料管（11）上，所述氧化源进料口（113）设于另一个进料管（11）上，每个进料管（11）上均设有载气进气口（111）。4.如权利要求1或2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：马文超，邹益波，黄迪辉，张达，
申请(专利权)人：宁波九胜创新医药科技有限公司，
类型：新型
国别省市：