进气结构与沉积装置制造方法及图纸

技术编号:38219941 阅读:7 留言:0更新日期:2023-07-25 17:51
本发明专利技术公开了一种进气结构与沉积装置,进气结构包括第一仓体、第二仓体与第一分散部件,第一仓体具有第一腔室与连通第一腔室的第一进气口,第二仓体连接于第二仓体,具有与第一腔室连通的第二腔室;第一分散部件设置于第一腔室内,朝向第一进气口凸出设置,沿气体相对第一分散部件流动的第一流动方向,第一分散部件具有多组第一通道,各组第一通道的通气面积逐渐缩小,和/或,各组第一通道之间的距离逐渐增加。第一分散部件朝第一进气口突出设置,能够引导气体朝远离第一进气口的流动,避免气体聚集在靠近第一进气口的位置,同时结合第一分散部件上第一通道的差异化设计,降低第一分散部件远离第一进气口一端的通气能力,从而实现提高气体整体分布的均匀性。现提高气体整体分布的均匀性。现提高气体整体分布的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
进气结构与沉积装置


[0001]本专利技术涉及真空沉积
,尤其是涉及一种进气结构与沉积装置。

技术介绍

[0002]在镀膜工艺中需要将气体(例如工艺气体或吹扫隔离气体)通入仓体中,其中,远离进气口的位置需要通过气体的扩散才能到达,对于大型仓体容易产生气体分布不均匀的问题。相关技术中通过设置分散板的方式解决这一问题,分散板具有多个通气孔,气体被分散板阻挡后将沿着分散板流动并从不同位置的通气孔通过分散板,然而目前分散板为垂直于进气方向的平板状结构,气体与分散板碰撞后速度损失较大,导致气体还是主要集中在靠近进气口的位置,分散效果有限。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本专利技术提出一种进气结构,能够提高对气体的分散效果。
[0004]本专利技术还提出了一种应用该进气结构的沉积装置。
[0005]根据本专利技术第一实施例中的进气结构,包括:
[0006]第一仓体,具有第一腔室与连通所述第一腔室的第一进气口;
[0007]第二仓体,连接于所述第二仓体,具有与所述第一腔室连通的第二腔室;
[0008]第一分散部件,设置于所述第一腔室内,所述第一分散部件朝向所述进气口凸出设置,沿气体相对所述第一分散部件流动的第一流动方向,所述第一分散部件具有多组第一通道,且沿所述第一流动方向,各组所述第一通道的通气面积逐渐缩小,和/或,各组所述第一通道之间的距离逐渐增加。
[0009]根据本专利技术实施例的进气结构,至少具有如下有益效果:
[0010]第一分散部件朝第一进气口突出设置,能够引导气体朝远离第一进气口的流动,避免气体聚集在靠近第一进气口的位置,同时结合第一分散部件上第一通道的差异化设计,降低第一分散部件远离第一进气口一端的通气能力,从而实现提高气体整体分布的均匀性。
[0011]在本专利技术的其他实施例中,所述进气结构还包括第二分散部件,所述第二分散部件设置于所述第一腔室内,并位于所述第一分散部件远离所述第一进气口的一侧,所述第二分散部件具有多组第二通道,至少部分所述第一通道与所述第二通道相互错开。
[0012]在本专利技术的其他实施例中,所述第二分散部件朝向所述第一进气口凸出设置,沿气体相对所述第二分散部件流动的第二流动方向,各组所述第二通道的通气面积逐渐缩小,和/或,各组所述第二通道之间的距离逐渐增加。
[0013]在本专利技术的其他实施例中,所述第一分散部件远离所述第一进气口的一侧限定出第一凹陷空间,所述第二分散部件部分位于所述第一凹陷空间内。
[0014]在本专利技术的其他实施例中,所述第二分散部件远离所述第一分散部件的一侧限定
出第二凹陷空间,所述进气结构还包括第三分散部件,所述第三分散部件具有多个第三通道,所述第三分散部件至少部分位于所述第二凹陷空间内。
[0015]在本专利技术的其他实施例中,沿气体通过所述第一通道的方向,所述第一通道的通气面积逐渐增加,或者,沿所述第一流动方向,至少部分第一通道倾斜设置,且相邻倾斜设置的所述第一通道的倾斜方向相反。
[0016]在本专利技术的其他实施例中,所述第一腔室的宽度小于长度与高度,所述第一分散部件至少连接于所述第一腔室宽度方向的两个腔壁。
[0017]在本专利技术的其他实施例中,所述进气结构还包括可拆卸连接于所述第一腔室与所述第二腔室之间的调节部件,所述调节部件具有第四通道,所述第一仓体与所述第二仓体能够相对打开,以使所述调节部件处于可拆卸状态。
[0018]在本专利技术的其他实施例中,所述进气结构还包括两组导气部件,所述导气部件可拆卸地设置于所述第二腔室内,两组所述导气部件之间形成放置待处理的基材的间隙,所述导气部件的形状适应于所述基材的形状,所述第一仓体与所述第二仓体能够相对打开,以使所述导气部件处于可拆卸状态。
[0019]在本专利技术的其他实施例中,所述进气结构还包括第三仓体,所述第三仓体具有与所述第一腔室连通的第三腔室,以及与所述第三腔室连通的第二进气口,所述第三仓体环绕所述第一仓体设置,其中,所述第一进气口用于通入第一气体,所述第二进气口用于通入第二气体,所述所述第三仓体用于在所述第二腔室内形成约束所述第一气体的气幕。
[0020]根据本专利技术第二实施例中的沉积装置,包括:
[0021]所述的进气结构;
[0022]加热装置,至少与所述进气结构导热连接,用于对所述第一腔室内的气体进行加热;
[0023]进气管道,连接于所述第一进气口;
[0024]流量调节装置,连接于所述进气管道;
[0025]控制器,用于记录与工艺信息对应的气体的预设流量信息以及加热装置的预设温度信息,响应于输入的所述工艺信息,所述控制器通过所述流量调节装置调节进气流量,以及通过所述加热装置调节加热温度。
[0026]在本专利技术的其他实施例中,所述沉积装置还包括温度检测装置,所述温度检测装置用于检测所述第一腔室的气体的温度,所述控制器用于获得所述加热装置的第一温度、流入所述第一腔室的气体的流量以及所述温度检测装置检测的第二温度,当所述第二温度满足对应当前所述工艺信息所需的气体温度时,将所述第一温度记录为对应当前所述工艺信息以及当前所述流量信息的所述预设温度信息。
[0027]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0028]下面结合附图和实施例对本专利技术做进一步的说明,其中:
[0029]图1为本专利技术实施例中进气结构的剖视图;
[0030]图2为图1中进气结构的立体示意图,图中隐藏第二仓体;
[0031]图3为本专利技术另一实施例中第一仓体的示意图;
[0032]图4为本专利技术另一实施例中进气结构的剖视图;
[0033]图5为本专利技术实施例第一通道的放大示意图;
[0034]图6为本专利技术另一实施例第一通道的放大示意图;
[0035]图7为图1中进气结构的第一仓体与第二仓体处于关闭状态的剖视图;
[0036]图8为图1中进气结构的第一仓体与第二仓体处于打开状态的剖视图;
[0037]图9为图1中进气结构的第一仓体的侧视图;
[0038]图10为本专利技术另一实施例中第一仓体与第三仓体连接的正视图;
[0039]图11为图10中第三仓体的立体示意图;
[0040]图12为本专利技术另一实施例中第一仓体的后视图;
[0041]图13为图12中第一仓体的立体示意图;
[0042]图14为本专利技术另一实施例中多个第一仓体连接的后视图;
[0043]图15为本专利技术沉积装置的系统示意图。
[0044]附图标记:
[0045]第一仓体100、第一腔室110、第一进气口120;
[0046]第二仓体200、第二腔室210;
[0047]第一分散部件300、第一通道310、第一凹陷空间320;
[0048]第二分散本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.进气结构,其特征在于,包括:第一仓体,具有第一腔室与连通所述第一腔室的第一进气口;第二仓体,连接于所述第一仓体,具有与所述第一腔室连通的第二腔室;第一分散部件,设置于所述第一腔室内,所述第一分散部件朝向所述进气口凸出设置,沿气体相对所述第一分散部件流动的第一流动方向,所述第一分散部件具有多组第一通道,且沿所述第一流动方向,各组所述第一通道的通气面积逐渐缩小,和/或,各组所述第一通道之间的距离逐渐增加。2.根据权利要求1所述的进气结构,其特征在于,所述进气结构还包括第二分散部件,所述第二分散部件设置于所述第一腔室内,并位于所述第一分散部件远离所述第一进气口的一侧,所述第二分散部件具有多组第二通道,至少部分所述第一通道与所述第二通道相互错开。3.根据权利要求2所述的进气结构,其特征在于,所述第二分散部件朝向所述第一进气口凸出设置,沿气体相对所述第二分散部件流动的第二流动方向,各组所述第二通道的通气面积逐渐缩小,和/或,各组所述第二通道之间的距离逐渐增加。4.根据权利要求2所述的进气结构,其特征在于,所述第一分散部件远离所述第一进气口的一侧限定出第一凹陷空间,所述第二分散部件部分位于所述第一凹陷空间内。5.根据权利要求4所述的进气结构,其特征在于,所述第二分散部件远离所述第一分散部件的一侧限定出第二凹陷空间,所述进气结构还包括第三分散部件,所述第三分散部件具有多个第三通道,所述第三分散部件至少部分位于所述第二凹陷空间内。6.根据权利要求1所述的进气结构,其特征在于,沿气体通过所述第一通道的方向,所述第一通道的通气面积逐渐增加,或者,沿所述第一流动方向,至少部分第一通道倾斜设置,且相邻倾斜设置的所述第一通道的倾斜方向相反。7.根据权利要求1所述的进气结构,其特征在于,所述第一腔室的宽度小于长度与高度,所述第一分散部件至少连接于所述第一腔室宽度方向的两个腔壁。8.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名
申请(专利权)人:深圳市原速光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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