本实用新型专利技术涉及断路器技术领域，且公开了一种电化学去除铜离子装置，包括设备主体，设备主体内腔底侧位置设置有污水区，设备主体内腔顶侧位置设置有工作区，工作区底侧位置均匀分布安装有固定板，工作区内腔中设置有与固定板相对应的交替机构。本实用新型专利技术通过设置交替机构和回收机构，该阴极板配合阳极板通电对含铜废水进行电解反应，阴极板的重量也在不断增加，当安装板带动位于后侧的一组L型触碰杆的水平端顶压在第二触碰按钮上时，驱动电机带动上方位置的一组传输辊通过传输带带动该侧L型安装支架向上移动，另一侧的阴极板则移动至污水区继续配合阳极板通电对含铜废水进行电解反应，以上操作无需停机维护，提高该设备的工作效率。作效率。作效率。
【技术实现步骤摘要】
一种电化学去除铜离子装置
[0001]本技术涉及铜离子去除
，尤其涉及一种电化学去除铜离子装置。
技术介绍
[0002]在PCB板加工、电镀、湿法冶金等行业，会产生大量的含铜废水，传统方法需投加大量还原剂将废水中的铜离子还原去除，同时对铜进行回收，但是采用这种方法回收的铜仍需再次提纯后才能继续使用，造成浪费及二次污染问题。
[0003]经本人检索，现有技术公开了一种用于铜回收的电化学处理装置(申请号202021396925.X)，电解槽和位于槽体上方的集气罩，在槽体上还设置有进液口和出液口，在集气罩的上顶壁设置有排气口。本实施例的电解槽包括槽体、阳极板总铜排和阴极板总铜排，阳极板总铜排和阴极板总铜排分别沿着槽体的长度方向的上边缘相对设置。
[0004]上述引证的文件所公开的一种电化学去除铜离子装置，是通过对阳极板和阴极板通电对含铜废水进行电解反应的方式使铜离子沉积于阴极板，去除废水中的铜离子，但是在这样使用过程中，当阴极板上沉积的铜达一定厚度后，就需要停机维护，将阴极板取出进行脱除铜操作，导致降低了该设备对废水中的铜离子处理效率，为此，我们提出一种电化学去除铜离子装置。
技术实现思路
[0005]本技术主要是解决上述现有技术所存在的技术问题，提供一种电化学去除铜离子装置。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案，一种电化学去除铜离子装置，包括设备主体，设备主体内腔底侧位置设置有污水区，污水区
[0007]中放置有含铜废水，设备主体内腔顶侧位置设置有工作区，工作区底侧位置均匀分布安装有固定板，工作区内腔中设置有与固定板相对应的交替机构，多组交替机构与多组固定板呈交替状态分布，交替机构包括两组传输辊和两组L型安装支架，多组L型安装支架上均设置有回收机构，回收机构包括T型滑块板和阴极板。
[0008]进一步，所述污水区左内壁面开设有进水通道，污水区右内壁面开设有排水通道，进水通道和排水通道上均安装有阀门。
[0009]进一步，多组所述固定板呈水平状态设置，多组固定板底侧壁面安装有呈垂直状态的阳极板，阳极板均延伸至污水区内部的含铜废水中。
[0010]进一步，两组所述传输辊呈水平状态转动连接在工作区后内壁面上下两侧对应位置处，两组传输辊外壁面传动连接有传输带。
[0011]进一步，所述传输带的左右两侧壁面固定连接有两组L型安装支架，两组L型安装支架的竖直端呈朝下状态设置，两组L型安装支架的竖直端底侧壁面开设有两组T型滑槽。
[0012]进一步，所述传输带底端左右两侧位置对称设置有与两组L型安装支架的水平端相对应的两组限位板，两组限位板的后端分别与工作区后内壁面对应位置固定连接，两组
限位板的顶侧壁面安装有两组第一触碰按钮。
[0013]进一步，所述T型滑块板呈水平状态卡接在对应位置的T型滑槽内侧，T型滑块板底侧壁面开设有滑动槽，滑动槽内腔中滑动连接有呈水平状态的安装板，阴极板呈垂直状态安装在安装板底侧壁面上。
[0014]进一步，所述安装板的顶侧壁面左右两侧位置固定连接有两组复位弹簧，两组复位弹簧的上端与滑动槽顶内壁面对应位置固定连接。
[0015]进一步，所述安装板顶侧壁面中部位置设置有两组L型触碰杆，两组L型触碰杆呈轴对称设置，两组L型触碰杆的竖直端分别与滑动槽顶内壁面以及安装板顶侧壁面对应位置固定连接，两组L型触碰杆的水平端之间位置设置有第二触碰按钮，第二触碰按钮与位于前侧位置的一组L型触碰杆的水平端顶侧壁面对应位置固定连接。
[0016]进一步，位于上方位置的一组所述传输辊安装有用于驱动作用的驱动电机，限位板和第二触碰按钮与所述驱动电机之间均有电信号连接。
[0017]有益效果
[0018]本技术提供了一种电化学去除铜离子装置。具备以下有益效果：
[0019]1、该一种电化学去除铜离子装置，通过设置交替机构和回收机构，使用时，控制驱动电机带动位于上方位置的一组传输辊通过传输带带动一侧的L型安装支架向下移动，该L型安装支架带动其上安装的阴极板插入污水区的含铜废水中，当该L型安装支架的水平端顶压与之相对应第一触碰按钮时，驱动电机停止工作，另一侧的阴极板则远离污水区，实现两组阴极板的交替操作；该阴极板配合阳极板通电对含铜废水进行电解反应，铜离子不断沉积于阴极板，阴极板的重量也在不断增加，通过安装板通过拉伸两组复位弹簧向下移动，当安装板带动位于后侧的一组L型触碰杆的水平端顶压在第二触碰按钮上时，驱动电机带动上方位置的一组传输辊通过传输带带动该侧L型安装支架向上移动，该L型安装支架带动该阴极板向上移动远离污水区，另一侧的阴极板则移动至污水区继续配合阳极板通电对含铜废水进行电解反应，此时即可对该阴极板进行脱去铜操作，以上操作无需停机维护，提高该设备的工作效率。
[0020]2、该一种电化学去除铜离子装置，通过设置T型滑块板，T型滑块板与T型滑槽呈卡接方式，因此可以向前侧移动T型滑块板，T型滑块板可带动阴极板向前移动离开污水区，便于对阴极板进行去除铜操作。
附图说明
[0021]本说明书所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义。
[0022]图1为本技术的电化学去除铜离子装置结构示意图；
[0023]图2为图1中A的放大示意图；
[0024]图3为图1中B的放大示意图；
[0025]图4为本技术的回收机构结构示意图。
[0026]图例说明：
[0027]10、设备主体；11、污水区；12、工作区；13、进水通道；14、排水通道；15、固定板；16、
阳极板；17、传输辊；18、传输带；19、L型安装支架；20、T型滑槽；21、T型滑块板；22、限位板；23、第一触碰按钮；24、滑动槽；25、安装板；26、阴极板；27、复位弹簧；28、L型触碰杆；29、第二触碰按钮。
具体实施方式
[0028]实施例一：一种电化学去除铜离子装置，如图1
‑
4所示，包括设备主体10，设备主体10内腔底侧位置设置有污水区11，污水区11中放置有含铜废水，污水区11左内壁面开设有进水通道13，污水区11右内壁面开设有排水通道14，进水通道13和排水通道14上均安装有阀门，设备主体10内腔顶侧位置设置有工作区12，工作区12底侧位置均匀分布安装有固定板15，多组固定板15呈水平状态设置，多组固定板15底侧壁面安装有呈垂直状态的阳极板16，阳极板16均延伸至污水区11内部的含铜废水中，工作区12内腔中设置有与固定板15相对应的交替机构，多组交替机构与多组固定板15呈交替状态分布，交替机构包括两组传输辊17和两组L型安装支架19，两组传输辊17呈水平状态转动连接在工作区12后内壁面上下两侧对应位置处，两组传输辊17外壁面传动连接有传输带18，传输带18的左右两侧壁面固定本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电化学去除铜离子装置，包括设备主体(10)，其特征在于：所述设备主体(10)内腔底侧位置设置有污水区(11)，污水区(11)中放置有含铜废水，设备主体(10)内腔顶侧位置设置有工作区(12)，工作区(12)底侧位置均匀分布安装有固定板(15)，工作区(12)内腔中设置有与固定板(15)相对应的交替机构，多组交替机构与多组固定板(15)呈交替状态分布，交替机构包括两组传输辊(17)和两组L型安装支架(19)，多组L型安装支架(19)上均设置有回收机构，回收机构包括T型滑块板(21)和阴极板(26)。2.根据权利要求1所述的电化学去除铜离子装置，其特征在于：所述污水区(11)左内壁面开设有进水通道(13)，污水区(11)右内壁面开设有排水通道(14)，进水通道(13)和排水通道(14)上均安装有阀门。3.根据权利要求1所述的电化学去除铜离子装置，其特征在于：多组所述固定板(15)呈水平状态设置，多组固定板(15)底侧壁面安装有呈垂直状态的阳极板(16)，阳极板(16)均延伸至污水区(11)内部的含铜废水中。4.根据权利要求1所述的电化学去除铜离子装置，其特征在于：两组所述传输辊(17)呈水平状态转动连接在工作区(12)后内壁面上下两侧对应位置处，两组传输辊(17)外壁面传动连接有传输带(18)，传输带(18)的左右两侧壁面固定连接有两组L型安装支架(19)，两组L型安装支架(19)的竖直端呈朝下状态设置，两组L型安装支架(19)的竖直端底侧壁面开设有两组T型滑槽(20)。5.根据权利要求4所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：周良全，刘红，周良彬，
申请(专利权)人：成都乾瑞科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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