一种光刻胶制备的反应装置制造方法及图纸

技术编号:38285744 阅读:12 留言:0更新日期:2023-07-27 10:32
本实用新型专利技术公开了一种光刻胶制备的反应装置,涉及光刻胶反应技术领域,包括光刻胶混合反应器本体,所述光刻胶混合反应器本体包括耐腐套壳,所述耐腐套壳的背面且位于顶部边缘位置上固定安装有升降机构,所述耐腐套壳的顶部外表面上活动套接有闭合密封机构,所述升降机构包括限位升降单元,所述耐腐套壳的内壁面上可拆卸式安装有升降密封单元。本实用新型专利技术当原料混合完后,配合固定板一侧表面上的转动器一对螺纹转动杆进行转动,从而使得螺纹转动杆外侧表面上的滑套向上进行滑动,从而将滑套外表面上的闭合密封板在耐腐套壳的内壁面上进行移动,使得耐腐套壳内部的原料通过导流管的一端向外进行流淌出去。一端向外进行流淌出去。一端向外进行流淌出去。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶制备的反应装置


[0001]本技术涉及光刻胶反应
,具体涉及一种光刻胶制备的反应装置。

技术介绍

[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体;一般混合装置是将感光树脂、增感剂和溶剂3种主要原料放入搅拌筒之后,通过电机带动搅拌器在搅拌筒内转动,从而将原料混合均匀,但是在实际生产中,由于同种原料会同时放置,且每种原料放入的重量不同,导致搅拌器无法快速将原料进行混合,搅拌器一般只能将处于同一高度的原料混合均匀,处于不同高度的原料往往达不到相同的均匀程度,针对上述情况,在现有的光刻胶生产加工用原料混合装置基础上进行技术创新。
[0003]如中国专利公开号:CN217746567U一种光刻胶生产加工用原料混合装置;本技术光刻胶生产加工用原料混合装置,包括混合桶,所述混合桶的顶部设置有驱动机构,所述混合桶的内腔设置有混合机构,所述混合机构包括螺旋杆,所述螺旋杆倾斜45度设置在混合桶的内腔,所述螺旋杆的顶部贯穿混合桶的顶部,所述螺旋杆的前后两侧均设置有搅拌柱,所述搅拌柱顶部贯穿混合桶的顶部,所述螺旋杆的顶部设置有第一锥形齿轮,所述搅拌柱顶部设置有第一限位柱,所述驱动机构位于第一锥形齿轮的顶部,电机通过第二锥形齿轮和第二锥形齿轮带动螺旋杆转动,螺旋杆将原料从低处输送到高处,然后落入低处,原料在搅拌桶内处于流动状态。
[0004]为了解决光刻胶在进行混合不够均匀的问题,现有技术是采用一样一样逐渐添加的方式进行处理,但是还会出现重量不同会分层的情况,进而导致原料混合不够均匀的问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种光刻胶制备的反应装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:
[0007]一种光刻胶制备的反应装置,包括光刻胶混合反应器本体,所述光刻胶混合反应器本体包括耐腐套壳,所述耐腐套壳的背面且位于顶部边缘位置上固定安装有升降机构,所述耐腐套壳的顶部外表面上活动套接有闭合密封机构,所述升降机构包括限位升降单元,所述耐腐套壳的内壁面上可拆卸式安装有升降密封单元。
[0008]所述闭合密封机构包括对接密封单元,所述对接密封单元的外表面上可拆卸式安装有搅拌混合单元。
[0009]本技术技术方案的进一步改进在于:所述对接密封单元包括活动套接在耐腐套壳顶部外表面上的密封顶盖,所述密封顶盖的顶部外表面上固定安装有转动器二,所述
转动器二的输出端穿过密封顶盖延伸至底部外表面上。
[0010]本技术技术方案的进一步改进在于:所述限位升降单元包括固定连接在耐腐套壳背面且位于顶部边缘位置上的双股转动器,所述双股转动器的输出端上固定连接有螺纹杆。
[0011]本技术技术方案的进一步改进在于:所述螺纹杆的外表面上固定连接有滑块,所述滑块的底部外表面上固定连接在密封顶盖的顶部外表面上。
[0012]本技术技术方案的进一步改进在于:所述转动器二的输出端的外表面上固定连接有空心支撑臂,所述搅拌混合单元包括固定连接在空心支撑臂一端上的弧形上流搅拌臂,所述弧形上流搅拌臂的内侧表面上固定连接有破碎爪。
[0013]本技术技术方案的进一步改进在于:所述升降密封单元包括固定连接在耐腐套壳内壁面且位于顶部边缘位置上的固定板,所述固定板的正面上固定连接有转动器一,所述转动器一的输出端上固定连接有螺纹转动杆。
[0014]本技术技术方案的进一步改进在于:所述螺纹转动杆的外表面上活动套接有滑套,所述滑套的一侧外表面上固定连接有闭合密封板,所述耐腐套壳的正面上且位于底部外表面上固定连接有导流管。
[0015]由于采用了上述技术方案,本技术相对现有技术来说,取得的技术进步是:
[0016]1、本技术提供一种光刻胶制备的反应装置,优先将原料放在耐腐套壳的内部去,配合双股转动器对螺纹杆进行转动,从而将滑块进行下降,同时配合滑块将密封顶盖搭接到耐腐套壳的顶部外表面上,对耐腐套壳的顶端进行密封住。
[0017]2、本技术提供一种光刻胶制备的反应装置,同时配合转动器二进行转动,同时对空心支撑臂进行转动,从而对空心支撑臂一端上的弧形上流搅拌臂进行搅拌,利用弧形上流搅拌臂表面上的弧度,使得弧形上流搅拌臂在进行转动的时候,将不同层次的原料向上进行引流,使得不同层次的原料进行混合,从而对不同层次的原料进行搅拌,而原料在向上进行引流的时候,配合弧形上流搅拌臂一侧表面上的破碎爪对原料进行破碎,增加原料混合的效率。
[0018]3、本技术提供一种光刻胶制备的反应装置,当原料混合完后,配合固定板一侧表面上的转动器一对螺纹转动杆进行转动,从而使得螺纹转动杆外侧表面上的滑套向上进行滑动,从而将滑套外表面上的闭合密封板在耐腐套壳的内壁面上进行移动,使得耐腐套壳内部的原料通过导流管的一端向外进行流淌出去。
附图说明
[0019]图1为本技术的结构示意图;
[0020]图2为本技术的耐腐套壳内壁面上立体结构示意图;
[0021]图3为本技术的光刻胶混合反应器本体局部剖视立体结构示意图;
[0022]图4为本技术的耐腐套壳立体结构示意图。
[0023]图中:1、光刻胶混合反应器本体;11、耐腐套壳;12、导流管;13、固定板;14、转动器一;15、螺纹转动杆;16、滑套;17、闭合密封板;
[0024]2、升降机构;21、双股转动器;22、螺纹杆;23、滑块;
[0025]3、闭合密封机构;31、密封顶盖;32、转动器二;33、空心支撑臂;34、弧形上流搅拌
臂;35、破碎爪。
具体实施方式
[0026]下面结合实施例对本技术做进一步详细说明:
[0027]实施例1
[0028]如图1

4所示,本技术提供了一种光刻胶制备的反应装置,包括光刻胶混合反应器本体1,光刻胶混合反应器本体1包括耐腐套壳11,耐腐套壳11的背面且位于顶部边缘位置上固定安装有升降机构2,耐腐套壳11的顶部外表面上活动套接有闭合密封机构3,升降机构2包括限位升降单元,限位升降单元包括固定连接在耐腐套壳11背面且位于顶部边缘位置上的双股转动器21,双股转动器21的输出端上固定连接有螺纹杆22,螺纹杆22的外表面上固定连接有滑块23,滑块23的底部外表面上固定连接在密封顶盖31的顶部外表面上,优先将原料放在耐腐套壳11的内部去,配合双股转动器21对螺纹杆22进行转动,从而将滑块23进行下降,同时配合滑块23将密封顶盖31搭接到耐腐套壳11的顶部外表面上,对耐腐套壳11的顶端进行密封住。
[0029]实施例2
[0030]如图1

4所示,在实施例1的基础上,本技术提供一种技术方案:优本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶制备的反应装置,包括光刻胶混合反应器本体(1),所述光刻胶混合反应器本体(1)包括耐腐套壳(11),其特征在于:所述耐腐套壳(11)的背面且位于顶部边缘位置上固定安装有升降机构(2),所述耐腐套壳(11)的顶部外表面上活动套接有闭合密封机构(3),所述升降机构(2)包括限位升降单元,所述耐腐套壳(11)的内壁面上可拆卸式安装有升降密封单元;所述闭合密封机构(3)包括对接密封单元,所述对接密封单元的外表面上可拆卸式安装有搅拌混合单元。2.根据权利要求1所述的一种光刻胶制备的反应装置,其特征在于:所述对接密封单元包括活动套接在耐腐套壳(11)顶部外表面上的密封顶盖(31),所述密封顶盖(31)的顶部外表面上固定安装有转动器二(32),所述转动器二(32)的输出端穿过密封顶盖(31)延伸至底部外表面上。3.根据权利要求1所述的一种光刻胶制备的反应装置,其特征在于:所述限位升降单元包括固定连接在耐腐套壳(11)背面且位于顶部边缘位置上的双股转动器(21),所述双股转动器(21)的输出端上固定连接有螺纹杆(22)。4.根据权利要求3所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐锦标钱园张炳融
申请(专利权)人:福建准信新材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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