立式处理设备及立式处理设备的控制方法技术

本申请提供一种立式处理设备及立式处理设备的控制方法，涉及作业与运输技术领域。立式处理设备包括处理腔室和运输装置，处理腔室具有室体和室门，室体具有处理腔和进出口，运输装置具有升降机构及可沿升降机构升降的承载机构，承载机构可将处理件送入或送出处理腔，承载机构在将处理件送入处理腔后可沿升降机构下降，室门可移动至封堵进出口、并与室体紧密配合。本申请通过升降机构和承载机构配合实现对处理件的升降运输控制，提高了上下料效率；在处理件送入处理腔后，室门可封堵室体的进出口、并与室体紧密配合，而不必设置独立的支撑结构或利用承载机构支撑室门，降低了设备成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
立式处理设备及立式处理设备的控制方法


[0001]本申请涉及作业与运输
，特别是涉及一种立式处理设备及立式处理设备的控制方法。

技术介绍

[0002]许多领域都涉及处理件的作业与运输，例如将硅片送入扩散设备中进行掺杂、将工件送入加工设备中进行机械加工、将污件送入清洁设备中进行清洗等。
[0003]许多行业普遍采用的处理设备为卧式处理设备，其上下料结构均相应设计为卧式形式。由于卧式处理设备的占地面积较大，很大程度上限制了处理设备的产能提升，提高了制备成本。为解决卧式处理设备存在的不足，相关的技术人员提出了立式处理设备，其相比卧式处理设备具有占地面积小、易于集成扩展、能耗低等优点。
[0004]然而，立式处理设备在采用类似于传统的卧式处理设备的上下料方式时，会导致上下料的效率较低；而将上下料方式设计为相应的立式形式，即采用升降的方式运输处理件时，由于缺乏合理的机械结构及布局，立式处理设备的上下料效率并不能得到有效改善，而且设备成本也偏高。

技术实现思路

[0005]本申请主要解决的技术问题是如何优化立式处理设备的机械结构及布局、降低设备成本。
[0006]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种立式处理设备，包括：
[0007]处理腔室，具有室体和室门；室体具有处理腔，室体的一端设有连通处理腔的进出口，用于供处理件出入处理腔；室门可抵触于室体的所述一端、并封堵进出口；
[0008]运输装置，具有升降机构以及设于升降机构上的承载机构，承载机构用于承载处理件、且可沿升降机构升降，以将处理件送入或送出处理腔；
[0009]承载机构在将处理件送入处理腔后可沿升降机构下降，室门可移动至封堵进出口、并与室体紧密配合。
[0010]在一些实施例中，立式处理设备包括移动轨道，升降机构设于移动轨道上、且可沿移动轨道的延伸方向移动。
[0011]在一些实施例中，立式处理设备包括多个沿第一方向排列的室体，移动轨道沿第一方向延伸。
[0012]在一些实施例中，立式处理设备包括第一运载轨道、以及设于第一运载轨道上的运载装置，运载装置可沿第一运载轨道移动，用于将处理件运输至运输装置上。
[0013]在一些实施例中，第一运载轨道与移动轨道并排设置，立式处理设备还包括与第一运载轨道并排设置的第二运载轨道，第二运载轨道用于运输处理件，运载装置用于将第二运载轨道上的处理件运输至运输装置上。
[0014]在一些实施例中，立式处理设备包括第一锁止机构，在室门移动至封堵进出口后，第一锁止机构可抵触室门以使室门与室体紧密配合。
[0015]在一些实施例中，立式处理设备还包括与第一锁止机构通信连接的感应器，感应器可在承载机构到达预设位置时发出预设信号，第一锁止机构可基于预设信号抵触室门。
[0016]在一些实施例中，室门可用于承载处理件，承载机构可通过运输室门实现对处理件的运输。
[0017]在一些实施例中，升降机构上设有至少两个承载机构，每一承载机构均可用于承载至少一个室门。
[0018]在一些实施例中，立式处理设备包括第一室组和第二室组，第一室组包括多个沿第一方向排列的室体，第二室组包括多个沿第二方向排列的室体，第一室组与第二室组并排设置、且之间具有间隙，运输装置位于第一室组与第二室组之间、且具有位于第一室组的底侧的一承载机构以及位于第二室组的底侧的另一承载机构。
[0019]在一些实施例中，立式处理设备还包括第二锁止机构，第二锁止机构用于在运输装置运输室门时实现室门在承载机构上的固定。
[0020]在一些实施例中，室门的一侧上凸设有定位部，承载机构包括承载板以及位于承载板的一侧的锁止件，承载板设有适配于定位部的定位孔，定位部、定位孔和锁止件配合组成第二锁止机构；
[0021]在承载机构承载室门时，定位部插设于定位孔、并与锁止件相抵触，以使室门固定于承载机构上。
[0022]为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种立式处理设备的控制方法，控制方法包括上料步骤和下料步骤；
[0023]上料步骤包括：
[0024]控制承载机构承载处理件；
[0025]控制承载机构沿升降机构上升至将处理件送入室体的处理腔中；和
[0026]控制室门封堵室体的进出口、并与室体紧密配合；
[0027]下料步骤包括：
[0028]控制室门与室体分离；
[0029]控制承载机构承载处理件、并沿升降机构下降，以将处理件送出处理腔。
[0030]区别于现有技术，本申请提供的立式处理设备及立式处理设备的控制方法的有益效果是：
[0031]本申请通过运输装置的升降机构和承载机构配合实现对处理件的升降运输控制，从而可以快速地将处理件送入或送出室体的处理腔，提高了立式处理设备的上下料效率；在处理件送入处理腔后，室门可封堵室体的进出口、并与室体紧密配合，而不必设置独立的支撑结构或利用承载机构支撑室门，降低了立式处理设备的成本。
附图说明
[0032]图1是本申请一些实施例提供的立式处理设备在第一状态下的结构示意图；
[0033]图2是图1实施例中的立式处理设备在第二状态下的结构示意图；
[0034]图3是本申请一些实施例提供的立式处理设备的俯视结构示意图；
[0035]图4是本申请一些实施例提供的立式处理设备的部分结构示意图；
[0036]图5是图4实施例中的立式处理设备的俯视结构示意图；
[0037]图6是本申请另一些实施例提供的立式处理设备的俯视结构示意图；
[0038]图7是本申请一些实施例提供的立式处理设备在上料时的部分剖面结构图；
[0039]图8是图7实施例中的立式处理设备在上料完成时的部分剖面结构示意图；
[0040]图9是图7实施例中的立式处理设备在下料时的部分剖面结构示意图；
[0041]图10是本申请一些实施例提供的立式处理设备的控制方法的上料步骤流程示意图；
[0042]图11是本申请一些实施例提供的立式处理设备的控制方法的下料步骤流程示意图。
具体实施方式
[0043]以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本申请实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本申请。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本申请的描述。
[0044]为使本申请的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图，对本申请的具体实施方式做详细的说明。可以理解的是，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0045]本申请提出一种立式处理设备。立式处理设备可以是任何可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种立式处理设备，其特征在于，包括：处理腔室，具有室体和室门；所述室体具有处理腔，所述室体的一端设有连通所述处理腔的进出口，用于供处理件出入所述处理腔；所述室门可抵触于所述室体的所述一端、并封堵所述进出口；运输装置，具有升降机构以及设于所述升降机构上的承载机构，所述承载机构用于承载所述处理件、且可沿所述升降机构升降，以将所述处理件送入或送出所述处理腔；所述承载机构在将所述处理件送入所述处理腔后可沿所述升降机构下降，所述室门可移动至封堵所述进出口、并与所述室体紧密配合。2.根据权利要求1所述的立式处理设备，其特征在于，所述立式处理设备包括移动轨道，所述升降机构设于所述移动轨道上、且可沿所述移动轨道的延伸方向移动。3.根据权利要求2所述的立式处理设备，其特征在于，所述立式处理设备包括多个沿第一方向排列的所述室体，所述移动轨道沿所述第一方向延伸。4.根据权利要求3所述的立式处理设备，其特征在于，所述立式处理设备包括第一运载轨道、以及设于所述第一运载轨道上的运载装置，所述运载装置可沿所述第一运载轨道移动，用于将所述处理件运输至所述运输装置上。5.根据权利要求4所述的立式处理设备，其特征在于，所述第一运载轨道与所述移动轨道并排设置，所述立式处理设备还包括与所述第一运载轨道并排设置的第二运载轨道，所述第二运载轨道用于运输所述处理件，所述运载装置用于将所述第二运载轨道上的所述处理件运输至所述运输装置上。6.根据权利要求1所述的立式处理设备，其特征在于，所述立式处理设备包括第一锁止机构，在所述室门移动至封堵所述进出口后，所述第一锁止机构可抵触所述室门以使所述室门与所述室体紧密配合。7.根据权利要求6所述的立式处理设备，其特征在于，所述立式处理设备还包括与所述第一锁止机构通信连接的感应器，所述感应器可在所述承载机构到达预设位置时发出预设信号，所述第一锁止机构可基于所述预设...

【专利技术属性】
技术研发人员：严大，黄宗健，
申请(专利权)人：江苏微导纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：