【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】已充气填充容器和E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯的保存方法
[0001]本专利技术涉及已充气填充容器和E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯的保存方法。
技术介绍
[0002]在干式蚀刻中,为了稳定地进行微细加工,要求干式蚀刻气体为高纯度(例如99.9体积%以上)。另外,干式蚀刻气体在被填充到填充容器中的状态下保存直至使用时为止,所以需要在填充容器中长期维持高纯度。
[0003]专利文献1公开了将可用作干式蚀刻气体的2
‑
氟丁烷、2
‑
氟
‑2‑
甲基丙烷和2
‑
氟戊烷长期维持高纯度地保存的技术。在专利文献1公开的技术中,通过在附着于内表面的铝量少的锰钢制填充容器中填充2
‑
氟丁烷、2
‑
氟
‑2‑
甲基丙烷或2
‑
氟戊烷,来抑制纯度降低。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献1:国际公开第2016/117464号
技术实现思路
[0006]曾对利用E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯作为半导体制造用的干式蚀刻气体进行了研究,但由于E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯在 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种已充气填充容器,是在填充容器中填充E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯而得到的,在所述填充容器之中与所填充的所述E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯接触的部分,是由铜的浓度小于0.5质量%的金属形成的。2.根据权利要求1所述的已充气填充容器,在所述填充容器之中与所填充的所述E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯接触的部分,是由铜的浓度小于0.4质量%的金属形成的。3.根据权利要求1或2所述的已充气填充容器,所述金属为钢。4.根据权利要求1或2所述的已充气填充容器,所述金属为锰钢和铬钼钢中的至少一种。5.根据权利要求1~4中任一项所述的已充气填充容器,所述铜的浓度是采用X射线光电子能谱分析法测定的。6.根据权利要求1~5中任一项所述的已充气填充容器,所述填充容器具备:收纳有所述E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯的储气瓶、以及开启关闭使所述储气瓶内部的所述E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯流向外部的流路的阀。7.根据权利要求1~6中任一项所述的已充气填充容器,填充的所述E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯的纯度为99.90体积%以上。8.一种E
‑
1,1,1,4,4,4
‑
六氟
‑2‑
丁烯的保存方法,将E
‑
...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。