【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及聚合物、感光性树脂组合物、感光性元件、形成抗蚀剂图案的方法以及形成布线图案的方法。
技术介绍
1、在印刷布线板的制造的领域中，已广泛使用感光性树脂组合物和包含通过使用感光性树脂组合物而在支撑膜上形成的层(以下也称为“感光层”)的感光性元件(层压体)作为用于蚀刻处理、镀覆处理等的抗蚀剂材料。
2、例如，通过使用上述感光性元件，按以下步骤制造印刷布线板。也就是说，首先，将感光性元件的感光层层压在电路形成基板(如覆铜层压板)上。接着，使感光层通过掩模等而暴露在光线下，形成光固化部。此时，在曝光前或曝光后剥离支撑膜。然后，用显影液去除感光层中的光固化部以外的区域，形成抗蚀剂图案。接着，将抗蚀剂图案用作抗蚀剂，对其进行蚀刻处理或镀覆处理以形成导体图案，最后剥离(去除)感光层的光固化部(抗蚀剂图案)。
3、对于感光性树脂组合物，要求能够形成具有优异分辨率的抗蚀剂图案，并表现出优异的抗蚀剂图案剥离特性(例如，参见专利文献1和2)。
4、引用文献列表
5、专利文献
6、专利文献1：jp2005-122123a
7、专利文献2：jp2006-234995a
技术实现思路
1、技术问题
2、感光性树脂组合物不仅需要形成具有优异分辨率和剥离特性的抗蚀剂图案，还需要在电路形成基板上层压感光层时对电路形成基板具有优异的适形性。本公开的目的是提供一种用于在层压过程中具有优异适形性的感光性树脂组合物的新型聚合物、感光性
3、解决方案
4、本公开的一方面涉及一种聚合物，其包含由下式(i)表示的结构单元和具有羧基的结构单元。式(1)中，r1代表氢原子或甲基；m代表亚烷基或氧化烯链；r2代表烷基或芳基。
5、
6、本公开的另一方面涉及一种感光性树脂组合物，其包含：含有上述聚合物的粘合剂树脂、可光聚合的化合物和光聚合引发剂。
7、本公开的又另一方面涉及一种感光性元件，其包括支撑体和形成在该支撑体上的感光层，该感光层包含上述感光性树脂组合物。
8、本公开的又另一方面还涉及一种形成抗蚀剂图案的方法，其包括：使用感光性树脂组合物或感光性元件来形成感光层的步骤；用光化性光照射该感光层的至少一部分以形成光固化部的步骤；以及将感光层中除光固化部以外的区域的至少一部分从基板上去除的步骤。
9、本公开的又另一方面涉及一种形成布线图案的方法，其包括：对通过形成抗蚀剂图案的方法而形成有抗蚀剂图案的基板进行蚀刻处理或镀覆处理以形成导体图案的步骤。
10、有益效果
11、根据本公开，能够提供一种用于在层压过程中具有优异适形性的感光性树脂组合物的新型聚合物、感光性树脂组合物、感光性元件、形成抗蚀剂图案的方法以及形成布线图案的方法。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种聚合物，其包含由下式(I)表示的结构单元和具有羧基的结构单元：
2.根据权利要求1所述的聚合物，其中，式(I)表示的结构单元的含量以质量计为聚合物总量的5％至50％。
3.一种感光性树脂组合物，其包含：含有权利要求1或2所述的聚合物的粘合剂树脂；可光聚合的化合物；和光聚合引发剂。
4.根据权利要求3所述的感光性树脂组合物，其中，所述光聚合引发剂包含六芳基联咪唑化合物。
5.根据权利要求3或4所述的感光性树脂组合物，其进一步含有敏化剂。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的感光性树脂组合物，其进一步含有光致变色剂。
7.一种感光性元件，其包括支撑膜和形成在所述支撑膜上的感光层，其中，所述感光层包含权利要求3至6中任一项所述的感光性树脂组合物。
8.一种形成抗蚀剂图案的方法，其包括：
9.一种形成布线图案的方法，其包括：对通过权利要求8所述的形成抗蚀剂图案的方法而形成有抗蚀剂图案的基板进行蚀刻处理或镀覆处理以形成导体图案的步骤。
10.根据权利要求9所述的形成布线图案的
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种聚合物，其包含由下式(i)表示的结构单元和具有羧基的结构单元：
2.根据权利要求1所述的聚合物，其中，式(i)表示的结构单元的含量以质量计为聚合物总量的5％至50％。
3.一种感光性树脂组合物，其包含：含有权利要求1或2所述的聚合物的粘合剂树脂；可光聚合的化合物；和光聚合引发剂。
4.根据权利要求3所述的感光性树脂组合物，其中，所述光聚合引发剂包含六芳基联咪唑化合物。
5.根据权利要求3或4所述的感光性树脂组合物，其进一步含有敏化剂。
6.根据权利要求3至5中任一项所...
【专利技术属性】
技术研发人员：松谷宽，李宝，村上泰治，宫武正人，谷本明敏，姜学松，马晓东，
申请(专利权)人：株式会社力森诺科，
类型：发明
国别省市：
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