本实用新型专利技术公开了一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，包括支撑平台主体，支撑平台主体由铁板焊接围成轮廓，内部焊接有网状结构的螺纹钢，并浇筑有混凝土，支撑平台主体顶部设置有锚定件、支撑件、线槽固定件、吊装件和定位件，且锚定件、支撑件、线槽固定件、吊装件和定位件均至少与一根螺纹钢焊接固定；本实用新型专利技术通过十字形，八字形连接的螺纹钢搭配混凝土的结构实现高刚性，支撑平台表面带有环氧树脂保护层，环氧树脂保护层并不会覆盖基座表面用于与掩模对准曝光机对接不锈钢零件，实现耐磨性的同时保证基座的美观和水平度。支撑平台内部设有减重空心，在不改变支撑平台长宽高外形尺寸的情况下减轻了支撑平台的重量。尺寸的情况下减轻了支撑平台的重量。尺寸的情况下减轻了支撑平台的重量。
【技术实现步骤摘要】
一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台
[0001]本技术涉及半导体设备支撑平台领域，具体为一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台。
技术介绍
[0002]掩模对准曝光机是半导体芯片行业的核心机器，在芯片制成的过程中占据不可替代的地位，属于高精密仪器。而掩模对准曝光机有特定的防震动和刚度需求，需要配备相应的专用支撑平台。
[0003]现有的支撑平台普遍存在刚度不足，安装不牢固，安装不方便等问题，在这种情况下导致国内目前半导体芯片制造工艺水平难以顺利提升。因此研发一种高精度，高刚性，便于安装的掩模对准曝光机支撑平台对国内半导体芯片行业的发展具有重大意义。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供了一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台已解决上述问题。
[0005]本技术可以通过以下技术方案实现：一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，包括支撑平台主体，所述支撑平台主体由铁板焊接围成轮廓，内部焊接有网状结构的螺纹钢，并浇筑有混凝土，所述支撑平台主体顶部设置有锚定件、支撑件、线槽固定件、吊装件和定位件，且锚定件、支撑件、线槽固定件、吊装件和定位件均至少与一根螺纹钢焊接固定。
[0006]本技术的进一步技术改进在于：网状结构由螺纹钢交叉焊接围八字形或十字形构成。
[0007]本技术的进一步技术改进在于：支撑平台主体的侧面设置有至少一个用于连接高精度掩模对准曝光机的锁紧槽，锁紧槽为C形开口槽。
[0008]本技术的进一步技术改进在于：支撑平台主体侧面设有内倾拐角，且以内倾拐角为分界线，分界线上方为垂直于水平面的立面，分界线下方为向内部倾斜的斜面。
[0009]本技术的进一步技术改进在于：支撑平台主体的四周靠近底部位置均匀开设有多个压紧槽，每个压紧槽内设置压紧件并为压紧件提供固定支撑平台主体的受力点。
[0010]本技术的进一步技术改进在于：支撑平台主体内部设置有多个减重空心，所述减重空心的形状为圆台、圆柱或棱台。
[0011]本技术的进一步技术改进在于：锚定件开设有窄腰槽、宽腰槽及空心槽，锚定件内设有需要锚定的零件，窄腰槽的宽度小于需要锚定的零件，宽腰槽的宽度大于需要锚定的零件。
[0012]本技术的进一步技术改进在于：定位件由压紧块、套环、定心件组成，套环套接在定心件外侧表面，压紧块设置定心件的台阶面上，定心件通过螺丝锁紧压紧块进行位置固定，定心件底部设有排气槽顶部包覆有环氧树脂保护层或防静电层高架地板皮。
[0013]本技术的进一步技术改进在于：锚定件、支撑件、线槽固定件、吊装件和定位
件的上表面与包覆有环氧树脂保护层或防静电层高架地板皮的支撑平台主体处于同一平面。
[0014]与现有技术相比，本技术具备以下有益效果：
[0015]本技术通过十字形，八字形连接的螺纹钢搭配C50混凝土的结构实现高刚性，支撑平台表面带有环氧树脂保护层，且所述环氧树脂保护层并不会覆盖基座表面用于与掩模对准曝光机对接不锈钢零件，实现耐磨性的同时保证基座的美观和水平度。另外支撑平台下方靠近底面的位置设有凹槽，便于对支撑平台进行压紧安装。支撑平台内部设有减重空心，在不改变支撑平台长宽高外形尺寸的情况下减轻了支撑平台的重量。
附图说明
[0016]为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本技术作进一步的说明。
[0017]图1为本技术的等轴测立体图；
[0018]图2为本技术的下方视角等轴测立体图；
[0019]图3为本技术的剖切位置示意图；
[0020]图4为本技术位置A处剖视图；
[0021]图5为本技术位置B处剖视图；
[0022]图6为本技术定位件爆炸视图；
[0023]图7为本技术锚定件结构立体示意图；
[0024]图8为本技术锚定件结构俯视示意图；
[0025]图9为本技术锚定件结构剖视示意图。
[0026]图中：1、环氧树脂保护层；2、锚定件；3、支撑件；4、锁紧槽；5、支撑平台主体；6、线槽固定件；7、吊装件；8、定位件；9、压紧件；10、螺纹钢；11、需要锚定的零件；201、窄腰槽；202、宽腰槽；203、空心槽；501、内倾拐角；502、压紧槽；503、支撑台阶；504、减重空心；801、压紧块；802、套环；803、定心件；803a、排气槽。
具体实施方式
[0027]为更进一步阐述本技术为实现预定技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本技术的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。
[0028]请参阅图1
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9所示，一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，包括支撑平台主体5，支撑平台主体5由铁板焊接围成轮廓，并在其内部焊接螺纹钢10，螺纹钢10交叉焊接成十字形或八字形构成的网状结构；
[0029]在支撑平台主体5的顶部依次焊接固定有锚定件2、支撑件3、线槽固定件6、吊装件7和定位件8，上述构件均至少与一根螺纹钢10焊接固定，防止锚定件2、支撑件3、线槽固定件6、吊装件7和定位件8在加工过程中移位错位；需要说明的是，锚定件2、支撑件3、线槽固定件6、吊装件7和定位件8均为不锈钢SUS304材质，具有耐磨，耐腐蚀，高刚性的优点，它们的上表面均处于同一平面上，且该所处平面高于围出的支撑平台主体5轮廓的铁板的上表面；
[0030]支撑平台主体5的侧面开设有锁紧槽4，锁紧槽4为C形开口槽，用于从侧面连接高
精度掩模对准曝光机，在其他实施例中，锁紧槽4可以设置有多个，且可以设置在支撑平台主体5的其他平面上；
[0031]在焊接完成后，支撑平台主体5内部填充C50混凝土并进行混凝土养护，使其形成高刚性和高阻尼的实体；养护完成后进行喷漆处理并涂覆环氧树脂保护层1，而锚定件2、支撑件3、线槽固定件6、吊装件7和定位件8的上表面高度高出支撑平台主体5轮廓的铁板的上表面为涂覆环氧树脂保护层1留出了高度空间，从而在涂覆环氧树脂保护层1后可以形成一个平整的平面，且还不会覆盖上述构件；
[0032]支撑平台主体5侧面设有内倾拐角501，且以内倾拐角501为分界线，分界线上方为垂直于水平面的立面，分界线下方为向内部倾斜的斜面，从而实现支撑平台主体5上大下小的结构特点而非上下轮廓相同尺寸的立方体结构，使用这种结构可以防止在浇灌C50混凝土及养护过程中支撑平台主体5发生膨胀变形导致侧面鼓起，影响成品的质量；
[0033]支撑平台主体5的四周靠近底部位置均匀开设有多个压紧槽502，压紧槽502具体为向支撑平台主体5内凹陷的凹槽，开设凹槽的目的是提供适宜压紧的受力点，方便压紧件9进入凹槽压住支撑平台主体5实现安装固定；
[0034]在焊接时，在支撑平台主体5顶部的一个侧边上焊接L形铁块，从而在浇灌混凝土后与支撑平台主体5的上表面形成支撑台阶503，该支撑台阶50本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，包括支撑平台主体(5)，其特征在于，所述支撑平台主体(5)由铁板焊接围成轮廓，内部焊接有网状结构的螺纹钢(10)，并浇筑有混凝土，所述支撑平台主体(5)顶部设置有锚定件(2)、支撑件(3)、线槽固定件(6)、吊装件(7)和定位件(8)，且锚定件(2)、支撑件(3)、线槽固定件(6)、吊装件(7)和定位件(8)均至少与一根螺纹钢(10)焊接固定。2.根据权利要求1所述的一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，其特征在于，所述网状结构由螺纹钢(10)交叉焊接围八字形或十字形构成。3.根据权利要求1所述的一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，其特征在于，所述支撑平台主体(5)的侧面设置有至少一个用于连接高精度掩模对准曝光机的锁紧槽(4)，锁紧槽(4)为C形开口槽。4.根据权利要求1所述的一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，其特征在于，所述支撑平台主体(5)侧面设有内倾拐角(501)，且以内倾拐角(501)为分界线，分界线上方为垂直于水平面的立面，分界线下方为向内部倾斜的斜面。5.根据权利要求1所述的一种高精度掩模对准曝光机的支撑平台，其特征在于，所述支撑平台主体(5)的四周靠近底部位置均匀开设有多个压紧槽(502)，每个压紧槽(502)内设置压紧件(9)并为压紧件(9)提供固定支撑平台主体(5)的受力点。6.根据权利要求1所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵江民，
申请(专利权)人：合肥玖福半导体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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