处理槽、处理设备及供液方法技术

技术编号:38208076 阅读:25 留言:0更新日期:2023-07-21 16:57
本申请涉及一种处理槽、处理设备及供液方法,包括槽体,槽体具有处理腔及至少两个相互独立的储液腔,处理腔及储液腔均能够容纳用于处理工件的处理液;每一储液腔具有可控地打开或闭合的进液口及排液口,每一储液腔可控地与处理腔连通或断开。当处理腔需要换液时,通过与其相连通的储液腔的排液口将处理腔内的处理液排空。而在排空处理腔中处理液的过程中,或者在排空处理腔中处理液之前,向处于闲置状态的储液腔通入处理液。当处理腔中处理液排空后,使得处于闲置状态的至少一个储液腔与处理腔连通,向其通入处理液即可。与现有技术相比(现有技术只有处理腔),不必等到处理腔排空后再向其通入新的处理液,减少了换液时长,提高了产能。了产能。了产能。

【技术实现步骤摘要】
处理槽、处理设备及供液方法


[0001]本申请涉及处理
,特别是涉及一种处理槽、处理设备及供液方法。

技术介绍

[0002]处理设备包括处理槽,处理槽为一种容器,其能够容纳处理液。工件与处理液接触,处理液能够对工件进行相应腐蚀,去除掉工件上不必要的物质,而提高工件性能。其中,刻蚀槽作为一种处理槽,在太阳能电池片制备过程中得到了广泛应用。
[0003]太阳能电池片制备包括以下步骤:硅片检测、制绒、扩散制结、刻蚀、镀减反射膜、印刷电极和快速烧结等。在制备过程中需要使用液体对硅片进行处理,例如,对硅片采用刻蚀液对硅片表面进行制绒,而在扩散制结工序中由于气流的关系,不可避免地在硅片的非扩散面边缘同样形成N区,从而导致硅片短路。因此,需要后续的刻蚀工序,将硅片上下表面阻断。由于湿法刻蚀对设备的要求低且刻蚀表面光滑平整,在刻蚀工序中得到了广泛的应用。
[0004]湿法刻蚀通过储存于刻蚀槽中的处理液对太阳能电池片进行刻蚀,当处理腔中的处理液达到使用寿命时,需要将刻蚀槽中的处理液排出,并更换新的处理液。而由于太阳能电池片生产过程中每个步骤本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理槽,其特征在于,包括槽体(10),所述槽体(10)具有处理腔(20)及至少两个相互独立的储液腔(30),所述处理腔(20)及所述储液腔(30)均能够容纳用于处理工件的处理液;每一所述储液腔(30)具有可控地打开或闭合的进液口及排液口,每一所述储液腔(30)可控地与所述处理腔(20)连通或断开。2.根据权利要求1所述的处理槽,其特征在于,全部所述储液腔(30)在竖直方向上均位于所述处理腔(20)的下方,且全部所述储液腔(30)在水平方向上依次排布。3.根据权利要求2所述的处理槽,其特征在于,所述槽体(10)还具有预留腔,所述预留腔在竖直方向上位于所述处理腔(20)的下方,且与全部所述储液腔(30)在水平方向上依次排布;所述预留腔用于放置配液机构,所述配液机构用于配置处理液以供向所述储液腔(30)。4.根据权利要求3所述的处理槽,其特征在于,所述预留腔内还用于放置液体浓度检测机构及液体流量检测机构,所述液体浓度检测机构用于检测经所述预留腔流向每个所述储液腔(30)的处理液的浓度,所述液体流量检测机构用于检测所述预留腔流向每个所述储液腔(30)的处理液的流量。5.根据权利要求1

4任一项所述的处理槽,其特征在于,所述槽体(10)具有两个所述储液腔(30)。6.根据权利要求1所述的处理槽,其特征在于,所述槽体(10)包括本体(11)及隔板(12),所述隔板(12)设于所述本体(11)内,以将所述本体(11)的内腔分隔为所述处理腔(20)及所述储液腔(30)。7.根据权利要求1所述的处理槽,其特征在于,所述槽体(10)还包括与所述储液腔(30)一一对应的开关件(40),所述开关件(40)用于控制所述储液腔(30)与所述处理腔(20)的连通与断开。8.根据权利要求7所述的处理槽,其特征在于,所述开关件为开合板,所述开合板与所述槽体(10)铰接,以相对于所述槽体(10)在第一位置与第二位置之间切换;在所述开合板处于所述第一位置时,相对应的所述储液腔(30)与所述处理腔(20)连通;在所述开合板处于所述第二位置时,相对应的所述储液腔(30)与所述处理腔(20)断开。9.根据权利要求1所述的处理槽,其特征在于,各所述储液腔(30)的容积可调。10.根据权利要求9所述的处理槽,其特征在于,所述槽体(10)包括本体(11)及隔板(12),所述隔板(12)设于所述本体(11)内,以将所述本体(11)的内腔分隔为所述处理腔(20)及所述储液腔(30);所述隔板(12)在所述本体(11)内...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗成廖宝臣姚森杨博李志云
申请(专利权)人:江苏微导纳米科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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