剥离膜制造技术

本发明专利技术提供一种剥离膜，其为具备基材与设置于所述基材的至少一面侧的剥离剂层的剥离膜，其特征在于，所述剥离剂层由含有活性能量射线固化性成分和含巯基的聚有机硅氧烷的剥离剂组合物形成。该剥离膜发挥优异的剥离性。该剥离膜发挥优异的剥离性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】剥离膜


[0001]本专利技术涉及剥离膜，特别是涉及可使用于陶瓷生胚片制造的剥离膜等。

技术介绍

[0002]以往，在制造层叠陶瓷电容器或多层陶瓷基板这些层叠陶瓷制品时，会将陶瓷生胚片成型，并层叠多片所获得的陶瓷生胚片并进行烧成。
[0003]陶瓷生胚片通过将含有钛酸钡或氧化钛等陶瓷材料的陶瓷浆料涂布于剥离膜上，从而以均匀的厚度成型。作为剥离膜，通常使用以聚硅氧烷等硅酮类化合物对膜基材进行剥离处理而形成了剥离剂层的剥离膜。
[0004]近年来，随着电子设备的小型化及高性能化，层叠陶瓷电容器或多层陶瓷基板的小型化及多层化不断发展，陶瓷生胚片的薄膜化也在不断推进。但若陶瓷生胚片薄膜化而使得其干燥后的厚度为例如3μm以下，则在涂布陶瓷浆料并使其干燥时，会因剥离膜中的剥离剂层的表面状态，而容易在陶瓷生胚片上产生针孔(pin hole)或厚度不均等缺陷。并且，在将成型的陶瓷生胚片自剥离膜上剥离时，容易发生因陶瓷生胚片的强度降低所导致的破损等不良情况。
[0005]因此，对于该剥离膜而言，要求能够在不发生破损等的前提下将在该剥离膜上成型的薄膜陶瓷生胚片自该剥离膜上剥离的剥离性。
[0006]从实现上述剥离性的角度出发，专利文献1公开了一种剥离膜，其在基材的一面上具备使用剥离剂层形成材料而形成的剥离剂层，该剥离剂层形成材料含有活性能量射线固化性化合物(a1)及聚有机硅氧烷(b1)，并且，在基材的另一面上具备使用背面涂层形成材料而形成的背面涂层，该背面涂层形成材料含有活性能量射线固化性化合物(a2)。现有技术文献专利文献
[0007]专利文献1：日本专利第5451951号

技术实现思路

本专利技术要解决的技术问题
[0008]然而，以往的剥离膜有时并不一定能够获得所需的剥离性。因此，需要一种剥离性更加优异的剥离膜。
[0009]本专利技术鉴于上述实际状况而完成，目的在于提供一种发挥优异剥离性的剥离膜。解决技术问题的技术手段
[0010]为了实现上述目的，首先，本专利技术提供一种剥离膜，其为具备基材与设置于该基材的至少一面侧的剥离剂层的剥离膜，其特征在于，该剥离剂层由含有活性能量射线固化性成分和含巯基的聚有机硅氧烷的剥离剂组合物形成(专利技术1)。
[0011]上述专利技术(专利技术1)的剥离片通过使剥离剂层由上述的剥离剂组合物形成，能够发挥优异的剥离性。
[0012]在上述专利技术(专利技术1)中，优选上述含巯基的聚有机硅氧烷的巯基存在于侧链(专利技术2)。
[0013]在上述专利技术(专利技术1、2)中，优选上述含巯基的聚有机硅氧烷的关于巯基的官能团当量为10g/mol以上且50,000g/mol以下(专利技术3)。
[0014]在上述专利技术(专利技术1～3)中，优选所述剥离剂组合物含有交联剂(专利技术4)。
[0015]在上述专利技术(专利技术4)中，优选所述交联剂为异氰酸酯类交联剂(专利技术5)。
[0016]在上述专利技术(专利技术1～5)中，优选所述活性能量射线固化性成分为多官能度(甲基)丙烯酸酯(专利技术6)。
[0017]在上述专利技术(专利技术6)中，优选所述多官能度(甲基)丙烯酸酯的官能团个数为3～6个(专利技术7)。
[0018]在上述专利技术(专利技术1～7)中，优选所述剥离膜用于陶瓷生胚片制造工序(专利技术8)。专利技术效果
[0019]本专利技术的剥离膜能够发挥优异的剥离性。
具体实施方式
[0020]以下，对本专利技术的实施方案进行说明。本专利技术的一个实施方案的剥离膜以具备基材以及设置于基材的至少一面侧的剥离剂层的方式而构成。
[0021]对于本实施方案的剥离膜，剥离剂层由含有活性能量射线固化性成分和含巯基的聚有机硅氧烷的剥离剂组合物形成。
[0022]在上述剥离剂组合物中，由于使用具有巯基的聚有机硅氧烷作为聚有机硅氧烷，来自该聚有机硅氧烷的成分容易偏向分布于固化涂膜的表面。关于其理由，推测如下，但并不排除其他理由，即，巯基与活性能量射线固化性成分或交联剂之间的反应性高，因此固化前的涂膜中分布不均的聚有机硅氧烷在扩散之前会进行巯基的反应，以较多偏向分布于剥离面(剥离剂层的与基材为相反侧的面)的状态而被固定。其结果，剥离面的表面自由能适度降低，同时剥离剂层具有适度的硬度，发挥优异的剥离性。
[0023]1.基材本实施方案的剥离膜中的基材并无特别限定，可从以往公知的基材中适当选择任意的基材进行使用。作为该基材，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯、聚丙烯或聚甲基戊烯等聚烯烃、聚碳酸酯、聚乙酸乙烯酯等塑料膜。这些塑料膜可为单层，也可为相同种类或不同种类的2层以上的多层。其中，优选聚酯膜，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。聚对苯二甲酸乙二醇酯膜由于在进行加工及使用时等不易产生尘埃等，能够有效防止例如因尘埃等引起的涂布不良等。
[0024]此外，在该基材中，出于提升与设置于其表面的剥离剂层之间的密着性的目的，能够根据需要，对一面或两面实施基于氧化法或凹凸化法等的表面处理、或等离子体处理。作为上述氧化法，可列举出例如电晕放电处理、等离子体放电处理、铬氧化处理(湿式)、火焰处理、热风处理、臭氧、紫外线照射处理等，此外，作为凹凸化法，可列举出例如喷砂处理法、热喷涂处理法等。可根据基材的种类适当选择这些表面处理法，但从效果及操作性的方面出发，优选使用电晕放电处理法。
[0025]基材厚度优选为10μm以上，特别优选为15μm以上，进一步优选为20μm以上。此外，该厚度优选为300μm以下，特别优选为200μm以下，进一步优选为125μm以下。
[0026]2.剥离剂层2
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1各成分本实施方案的剥离剂层由剥离剂组合物形成，该剥离剂组合物含有活性能量射线固化性成分和含巯基的聚有机硅氧烷，且根据需要含有交联剂、光聚合引发剂或固化促进剂。
[0027](1)活性能量射线固化性成分作为活性能量射线固化性成分，只要为通过照射活性能量射线进行固化的成分，则没有特别限制，可以为单体、寡聚物或聚合物中的任意一种，也可为它们的混合物。特别是，作为活性能量射线固化性成分，优选使用构成丙烯酸树脂的成分，特别优选使用多官能度(甲基)丙烯酸酯。另外，本说明书中的“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者。
[0028]作为多官能度(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如1,4
‑
丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6
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己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二环戊酯、己内酯改性二(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯、环氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸二(丙烯酰氧基乙基)酯、烯丙基化二(甲基)丙烯酸环己酯等2官能度型；三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种剥离膜，其为具备基材与设置于所述基材的至少一面侧的剥离剂层的剥离膜，其特征在于，所述剥离剂层由含有活性能量射线固化性成分和含巯基的聚有机硅氧烷的剥离剂组合物形成。2.根据权利要求1所述的剥离膜，其特征在于，所述含巯基的聚有机硅氧烷的巯基存在于侧链。3.根据权利要求1或2所述的剥离膜，其特征在于，所述含巯基的聚有机硅氧烷的关于巯基的官能团当量为10g/mol以上且50,000g/mol以下。4.根据权利要求1～3中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：柄泽泰纪，村岛峻介，
申请(专利权)人：琳得科株式会社，
类型：发明
国别省市：