本发明专利技术涉及真空窑炉下料技术领域，尤其涉及纯化真空煅烧窑炉的下料装置，包括炉体筒一，其一端设置有炉体筒二，下料筒设置于上述炉体筒二上，且下料筒的末端设置有连接环，所述连接环上开设有下料槽口，密封环盖设置于上述下料槽口处，驱动件安装于上述连接环的外表面，且驱动件的输出端设置有动力杆，该动力杆的末端设置有旋转组件。本发明专利技术利用真空煅烧窑炉的内部真空性质来辅助进行下料工作，通过炉体筒内的负压状态实现密封环盖与下料筒的连接环紧密吸附，功能块与固定件的磁吸吸附，可增加固定件与密封环盖的贴合吸附紧密效果，同样的结构限定可在真空存在抵触力影响密封环盖打开时，辅助打开进行下料工作。辅助打开进行下料工作。辅助打开进行下料工作。
【技术实现步骤摘要】
纯化真空煅烧窑炉的下料装置
[0001]本专利技术涉及真空窑炉下料
，尤其涉及纯化真空煅烧窑炉的下料装置。
技术介绍
[0002]真空煅烧窑炉是一种高温高真空环境下进行热处理的设备，主要用于金属、陶瓷、玻璃等材料的烧结、热处理、热改性等工艺过程。其炉体采用高纯度材料制造，炉内真空度高，能够有效地防止材料被氧化、污染等问题，同时提高材料的烧结质量和硬度。
[0003]真空煅烧窑炉具有温度控制精度高、烧结效率高、节能环保等特点，被广泛应用于材料科学、化工、电子、冶金等领域。由于真空煅烧窑炉的内部特殊环境，其下料工作存在优化空间，现有的下料方式灵活性及功能性欠佳，无法适配性的与真空煅烧窑炉更好的进行工作。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：纯化真空煅烧窑炉的下料装置，包括炉体筒一，其一端设置有炉体筒二，下料筒设置于上述炉体筒二上，且下料筒的末端设置有连接环，所述连接环上开设有下料槽口，密封环盖设置于上述下料槽口处，驱动件安装于上述连接环的外表面，且驱动件的输出端设置有动力杆，该动力杆的末端设置有旋转组件，所述旋转组件的外侧套设有支撑板，该支撑板的下表面通过弹性件设置有固定件。
[0006]通过采用上述技术方案，旋转组件为支撑板的旋转提供方便，实现固定件在密封环盖的对应外界位置以及拆卸位置的移动需要，同时弹性件的设置提供了缓冲力，提升了作业的安全系数；利用真空煅烧窑炉的内部真空性质来辅助进行下料工作，当炉体筒内开始抽真空时，炉体筒二内由于压力形成负压状态，使得密封环盖与下料筒的连接环紧密吸附，实现二者的闭合密封，保证正常的工作状态。
[0007]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述连接环的外表面上开设有环形的扩展环道，所述密封环盖的底部设置有至少两个的扩展块，所述扩展块的一端位于上述扩展环道内。
[0008]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述连接环的外表面上还开设有分离口，所述分离口与所述扩展环道连通，所述分离口为圆形开设，所述扩展块的末端也为圆形结构，分离口的圆形直径大于扩展块的末端圆形直径。
[0009]通过采用上述技术方案，可将扩展块从扩展环道中分离出来，进而实现连接环与密封环盖的分离操作。
[0010]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述扩展环道为T型开设，且扩展块为
T型结构，扩展块的水平杆体位于扩展环道的水平槽体内，扩展块的竖直杆体的一端延伸至所述扩展环道的竖直槽体的外侧。
[0011]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述驱动件为气缸，动力杆设置于气缸的输出端，且所述旋转组件包括连接柱及轴承件，所述连接柱设置于动力杆的末端，且连接柱的末端安装有轴承件，所述轴承件的外圈与上述支撑板连接。
[0012]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述弹性件为弹簧，所述固定件为固定块，且所述密封环盖的上表面开设有与固定块对应的固定槽。
[0013]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述密封环盖的内表面设置有功能块，该功能块的位置与上述固定块对应，所述固定块的材质为铁、镍、钴中的一种或多种，且所述功能块为磁铁材质。
[0014]通过采用上述技术方案，由于磁铁的磁性力，密封环盖的内部功能块会磁性吸附住密封环盖外侧的固定件，无论是在闭合状态中还是分离操作中，均为操作提供额外的助力。
[0015]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述固定件的上表面设置有调节螺栓，且该调节螺栓位于弹性件的内部，所述调节螺栓的一端延伸至所述支撑板的外侧。
[0016]通过采用上述技术方案，在调节螺栓上进行螺母的锁定，可取消弹性件的弹性力，根据作业状态的不同可灵活的切换使用弹性力。
[0017]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述密封环盖的内部开设有凹槽，所述凹槽的中部设置有操作部，该操作部上设置有凸块，所述密封环盖的边框上开设有至少两个的辅口。
[0018]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为：所述炉体筒一一端设置有中转筒一，且所述中转筒一的另一端设置有扩展筒一，所述炉体筒二的一端连接有中转筒二，该中转筒二的另一端安装有扩展筒二。
[0019]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1、本专利技术利用真空煅烧窑炉的内部真空性质来辅助进行下料工作，当炉体筒内开始抽真空时，炉体筒二内由于压力形成负压状态，使得密封环盖与下料筒的连接环紧密吸附，实现二者的闭合密封，保证正常的工作状态。
[0020]2、本专利技术在下料筒处利用固定件对密封环盖提供辅助力进行额外的固定力的提供，且根据需要利用驱动件下压可增加固定力，根据需要可为密封环盖提供灵活的辅助力。
[0021]3、本专利技术在密封环盖的内部设置有磁铁结构的功能块，且配合对固定件的材质限制，可实现功能块与固定件的吸附，使得固定件与密封环盖的贴合吸附紧密，可提高开关闭通道时的操作便捷性。
[0022]4、本专利技术由于内部真空负压条件，在需要下料打开密封环盖时，会由于内部真空存在抵触力，而利用调节螺栓上增加螺母限定可取消弹性件的弹性力，且由于功能块与固定件的磁吸吸附，此时可利用驱动件及操作部的控制配合进行密封环盖的打开操作。
[0023]综上所述，本专利技术利用真空煅烧窑炉的内部真空性质来辅助进行下料工作，通过炉体筒内的负压状态实现密封环盖与下料筒的连接环紧密吸附，保证正常的工作状态，且功能块与固定件的磁吸吸附，可增加固定件与密封环盖的贴合吸附紧密效果，同样的结构限定可在真空存在抵触力影响密封环盖打开时，辅助打开进行下料工作。
附图说明
[0024]图1为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的结构示意图；图2为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的主视图；图3为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的俯视图；图4为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的侧视图；图5为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的下料筒末端结构示意图；图6为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的下料筒末端A
‑
A处的剖视图；图7为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的密封环盖分离后的状态示意图；图8为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的另一实施例的下料筒末端结构示意图；图9为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的密封环盖的结构示意图；图10为本专利技术提出的纯化真空煅烧窑炉的下料装置的固定件处的结构示意图。
[0025]图中：1炉体筒一、2炉体筒二、3中转筒一、4中转筒二、5下料筒、51连接环、511下料槽口、512扩展环道、52密封环盖、521凹槽、522辅口、523扩展块、524功能块、53操作部、531凸块、54驱动件、541动力杆、542旋转组件、543支撑板、544弹性件、545固定件、5451调节螺栓、6扩展筒一、7扩展筒二。
具体实施方式
[0026]下面将结本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.纯化真空煅烧窑炉的下料装置，其特征在于，包括：炉体筒一（1），其一端设置有炉体筒二（2）；下料筒（5），设置于上述炉体筒二（2）上，且下料筒（5）的末端设置有连接环（51），所述连接环（51）上开设有下料槽口（511）；密封环盖（52），设置于上述下料槽口（511）处；驱动件（54），安装于上述连接环（51）的外表面，且驱动件（54）的输出端设置有动力杆（541），该动力杆（541）的末端设置有旋转组件（542），所述旋转组件（542）的外侧套设有支撑板（543），该支撑板（543）的下表面通过弹性件（544）设置有固定件（545）。2.根据权利要求1所述的纯化真空煅烧窑炉的下料装置，其特征在于，所述连接环（51）的外表面上开设有环形的扩展环道（512），所述密封环盖（52）的底部设置有至少两个的扩展块（523），所述扩展块（523）的一端位于上述扩展环道（512）内。3.根据权利要求2所述的纯化真空煅烧窑炉的下料装置，其特征在于，所述连接环（51）的外表面上还开设有分离口，所述分离口与所述扩展环道（512）连通，所述分离口为圆形开设，所述扩展块（523）的末端也为圆形结构，分离口的圆形直径大于扩展块的末端圆形直径。4.根据权利要求2所述的纯化真空煅烧窑炉的下料装置，其特征在于，所述扩展环道（512）为T型开设，且扩展块（523）为T型结构，扩展块（523）的水平杆体位于扩展环道（512）的水平槽体内，扩展块（523）的竖直杆体的一端延伸至所述扩展环道（512）的竖直槽体的外侧。5.根据权利要求1所述的纯化真空煅烧窑炉的下料装置，其特征在于，所述驱动件（5...
【专利技术属性】
技术研发人员：曹江，夏逸明，
申请(专利权)人：靖江市峰力干燥成套设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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