【技术实现步骤摘要】
一种无还原剂快速制备
β
‑
Ti3O5的方法
[0001]本专利技术属于材料制备领域,具体涉及一种在无还原剂情况下快速制备β
‑
Ti3O5的方法。
技术介绍
[0002]Ti3O5是钛亚氧化物的一种,具有α,β,λ,γ,δ多种晶型。随着外界温度的变化,各晶型之间可发生可逆相变,并带来结构和性能的变化,进而引起物理,化学和光学方面的性能差异。因此这些晶型的特殊性能为其在气体传感器、光催化、催化剂载体、超导性等方面提供了潜在的应用价值。其中β
‑
Ti3O5因其稳定的折射率,氧气释放量小等优点,主要应用在镀膜领域作为一种光学蒸镀材料。目前,已经广泛应用于TiO2涂层的真空蒸镀靶材来制备具有增透、反射等特殊功能的光电子器件。此外,因其较低的电阻率
‑
温度系数以及较好的高温稳定性和再现性,在气体传感器领域也有潜在的应用前景。
[0003]对于Ti3O5的合成,目前主要通过还原TiO2的方法来制备。最初使用金属或H2作为还原剂来制备,如金属Ti和Zr ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种无还原剂快速制备β
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Ti3O5的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)称取适量TiO2原料放入坩埚中;(2)设置激光焦距和工作距离,使得整个样品表面可以接收到激光辐照,同时设定激光输出功率,控制样品表面处激光功率密度在1.0~3.0kW/cm2,对步骤(1)中原料进行辐照预处理;(3)将步骤(2)所得预处理样品转移至反应腔体中,启动反应腔体真空泵组,调节反应腔体压力至预定值;其中,所述的调节反应腔体压力至预定值,是指通过真空泵组将腔体内总压控制在10
‑2~10
‑4Pa范围;或通过真空泵组将腔体内总压抽至10
‑2Pa后,充入氩气、氮气、氦气等惰性气体,控制腔体内总压低于105Pa,氧分压范围为10
‑7~10
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Pa;(4)设置激光焦距和工作距离,使得整个样品表面可以接收到激光辐照,同时设定激光输出功率,控制样品表面处激光功率密度在3.0~8.0kW/cm2,对步骤(3)获得的预熔样品进行真空熔炼,并在过程中进行温度控制;(5)熔炼结束后,待样品冷却至100℃以下,取出所得块体样品,破碎后获得粉体。2.根据权利要求1所述的无还原剂快速制备β
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Ti3O5的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述的TiO2原料为纯度高于99.0%的TiO2粉末或经成型的块状原料。3.根据权利要求1所述的无还原剂快速制备β
‑
Ti3O5的方法,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:李光石,鲁雄刚,赵鹏飞,程鹏,邹星礼,庞忠亚,
申请(专利权)人:上海大学,
类型:发明
国别省市:
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