一种LaAlO3超导基片晶体及其生长方法技术

技术编号:38128998 阅读:27 留言:0更新日期:2023-07-08 09:35
本发明专利技术涉及一种LaAlO3超导基片晶体及其生长方法,属于超导基片晶体技术领域,包括以下步骤:将多晶料置于坩埚中,升温至2100

【技术实现步骤摘要】
一种LaAlO3超导基片晶体及其生长方法


[0001]本专利技术属于超导基片晶体
,具体地,涉及一种LaAlO3超导基片晶体及其生长方法。

技术介绍

[0002]铝酸镧(LaAlO3)单晶是当前最重要的工业化、大尺寸高温超导薄膜基片单晶材料。LaAlO3晶体与多种钙钛矿结构材料晶格匹配好,是外延生长高温超导薄膜和巨磁阻薄膜的衬底材料。同时,铝酸镧晶体的介电常数较低且具有良好的微波介电性能,因此适用于低损耗微波放大器件和介电共振应用。
[0003]然而,LaAlO3晶体的应用,取决于大尺寸优质LaAlO3晶体的生长,尤其对高纯度、高质量的大尺寸的晶体需求呈迅速增长趋势,而现有的铝酸镧单体难以兼具大尺寸和高品质的优点,因此,有必要提供一种高品质、大尺寸的LaAlO3超导基片晶体及其生长方法。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种LaAlO3超导基片晶体及其生长方法,解决
技术介绍
中存在的技术问题。
[0005]本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现:
[0006]一种LaAlO3超导基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种LaAlO3超导基片晶体的生长方法,其特征在于,包括以下步骤:将预烧料置于氧化铝坩埚中,3h升温至1400

1600℃,恒温处理5h,3h降至常温,得到多晶料,将多晶料置于铱金坩埚内,升温至2100

2150℃,恒温至预烧料完全融化形成熔体,以80

85℃/h降温速率降温至1900

2090℃,恒温,将已固定在籽晶杆上的籽晶引入至熔体液面,实现接种,生长界面温度梯度控制在30

50℃/cm的范围内,提拉速度0.4

0.6mm/h,以10

15rpm的旋转速率旋转籽晶杆,晶体开始生长,进行缩颈、放肩等径、收尾、脱离和降温操作后,经切割、抛光,得到LaAlO3超导基片晶体。2.根据权利要求1所述的一种LaAl O3超导基片晶体的生长方法,其特征在于,经过缩颈操作使等颈长度达到80

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【专利技术属性】
技术研发人员:罗毅龚瑞刘照俊王玉
申请(专利权)人:合肥中科瑞恒新材料科技有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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