一种环孔径光路折叠成像系统的杂散光抑制结构技术方案

一种环孔径光路折叠成像系统的杂散光抑制结构，涉及光学系统杂散光分析技术领域，为了解决现有技术中环孔径光路折叠成像系统杂散光无法抑制并影响成像的技术问题，该结构包括一级遮光罩、二级遮光罩、环孔径光路折叠成像系统和探测器同轴设置以及低反射涂层；所述环孔径光路折叠成像系统包括环带形折射镜面环带形一次反射面、环带形二次反射面、环带形三次反射面、圆形四次反射面和圆形折射镜面；所述低反射涂层设置在环带形一次反射面和环带形三次反射面、环带形二次反射面和环带形四次反射面、环带形三次反射面和圆形折射镜面之间的非成像区域；本发明专利技术实现消除非成像视场的杂散光产生的局部光斑，使杂散光均匀分布在探测器表面。测器表面。测器表面。

【技术实现步骤摘要】
一种环孔径光路折叠成像系统的杂散光抑制结构


[0001]本专利技术涉及光学系统杂散光分析
，具体涉及一种环孔径光路折叠成像系统的杂散光抑制结构。

技术介绍

[0002]杂散光是指非成像光线以某种角度入射光学系统，经过表面的透射或反射最终到达探测器接收表面形成的光线辐射。对于成像系统的光学设计，杂散光分析是无法省略的必要环节，这个环节甚至对整个光学系统设计有着决定性所用，决定了该光学系统能否在实际使用时满足我们的成像要求。环孔径光路折叠成像系统属于超薄成像系统，对于这个系统来说其结构紧凑且探测器位置距离光线入口处较近，外部杂散光对此系统的影响很大，因此杂散光抑制技术是决定其光学系统性能指标的重要因素，也是环孔径光路折叠成像系统优化设计的主要方向。
[0003]杂散光抑制方法可以分为三类，一是遮挡光线，通过在光学系统的非成像区域增加遮光罩、挡光环、冷屏等结构限制光线路径；二是设计优化，光学设计中更改光学参数，优化不合理的镜片形状，避免鬼像的产生。三是表面处理，对光学以及机械结构表面进行镀膜、喷漆、更改光学表面的粗糙度和吸收率。根据不同本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种环孔径光路折叠成像系统的杂散光抑制结构，其特征是，该结构包括一级遮光罩(1)、二级遮光罩(2)、低反射涂层(3)、环孔径光路折叠成像系统(4)和探测器(5)，所述一级遮光罩(1)、二级遮光罩(2)、环孔径光路折叠成像系统(4)和探测器(5)同轴设置；所述环孔径光路折叠成像系统(4)包括环带形折射镜面(4
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1)、环带形一次反射面(4
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2)、环带形二次反射面(4
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3)、环带形三次反射面(4
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4)、圆形四次反射面(4
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5)和圆形折射镜面(4
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6)；所述低反射涂层(3)设置在环带形一次反射面(4
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2)和环带形三次反射面(4
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4)、环带形二次反射面(4
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3)和环带形四次反射面(4
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5)、环带形三次反射面(4
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4)和圆形折射镜面(4
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6)之间的非成像区域；光线经过一级遮光罩(1)、二级遮光罩(2)消除杂光，然后光线入射环带形折射镜面(4
‑
1)经该面折射，在环带形一次反射面(4
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2)处第一次反射，在环带形二次反射面(4
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3)处第二次反射，在环带形三次反射面(4
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4)第...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴明旭，张承然，董科研，张博，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：发明
国别省市：