自洁式纯铜件清洗槽及其操作方法技术

本发明专利技术属于金属表面处理领域，具体公开一种自洁式纯铜件清洗槽，包括用于盛放酸溶液的浸酸箱，所述浸酸箱上可拆卸连接有自洁装置，所述自洁装置包括用于快速置换铜并在酸溶液下保持相对稳定的还原板和用于安装固定还原板的固定组件，通过还原板的铅将铜离子还原成金属铜，金属铜在稀硫酸中能够稳定存在，铅还原完铜离子后转化成硫酸铅，硫酸铅在稀硫酸中稳定存在，所以，这一处理方式不会对溶液成分造成任何影响，且无需停产处理；而自洁装置的多层式结构，通过栅板、进液孔、网袋等部件可以提高还原效率，防止铜的堆积；且还原板制造成本较低，还原板通过活化装置可以反复活化，延长使用寿命。长使用寿命。长使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
自洁式纯铜件清洗槽及其操作方法


[0001]本专利技术属于金属表面处理领域，具体的说涉及一种自洁式纯铜件清洗槽及其操作方法。

技术介绍

[0002]纯铜件在空气环境中放置过久表面容易生成氧化铜和碱式碳酸铜等物质，用稀硫酸水溶液处理不会腐蚀纯铜件基体，且能达到很好除掉腐蚀产物的效果，但是腐蚀产物溶解在稀硫酸水溶液中会使溶液中铜离子浓度逐渐升高，在同离子效应的作用下，腐蚀产物的溶解速率将会降低，同时随着铜离子累计到一定程度时，会以硫酸铜晶体形式沉积在清洗槽底部或四周，此时需要对清洗液进行化学沉降或者电解的方式去除铜离子。化学沉降会引入新的离子，破坏清洗液成分，电解处理需要停产，影响生产效率。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的清洗铜件时铜离子大量积累，稀硫酸水溶液中铜离子浓度趋高的问题，现提出一种自洁式纯铜件清洗槽及其操作方法。本专利技术提供如下技术方案：一种自洁式纯铜件清洗槽，包括用于盛放酸溶液的浸酸箱，所述浸酸箱上可拆卸连接有自洁装置，所述自洁装置包括用于快速置换铜并在酸溶液下保持相对稳定的还原板和用于安装固定还原板的固定组件；所述固定组件包括筐篮和网袋，所述筐篮侧壁上设有若干个进液孔，所述还原板置于筐篮中，所述网袋包裹在筐篮外。
[0004]优选地，所述还原板通过基材板活化而成，基材板包括栅板和铅膏，所述铅膏附着于栅板上。
[0005]优选地，所述栅板上端两侧分别固定连接有第一挂耳和第二挂耳，所述浸酸箱内壁上固定连接有挂板柱，所述第一挂耳和第二挂耳挂设于挂板柱上；所述栅板上端固定连接有横梁，所述横梁两侧固定连接有用于竖向定位的挂肩。
[0006]优选地，栅板材质为铅合金，铅重量百分比为90%
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95%；所述铅膏由铅粉和稀硫酸水溶液调和后阴干而成；铅粉含有重量百分比为99%
‑
99.5%的铅及铅的氧化物，以及重量百分比为0.5%
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1%的导电碳纤维；铅的氧化物占铅及铅的氧化物总和的70%
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90%，稀硫酸水溶液中硫酸的重量百分含量为5%
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10%；铅膏超出栅板表面0.2
‑
0.5mm。
[0007]优选地，还包括用于恢复还原板的活化装置，所述活化装置包括充电机和用于盛放活化液的活化箱，所述活化箱上安装有若干个用于挂置还原板的挂板条。
[0008]优选地，所述活化箱较宽的两侧壁对应设置有4组置条孔，挂板条设置有4个，挂板条插接于置条孔中；所述挂板条包括2个导电挂板条和2个绝缘挂板条，1个导电挂板条和1个绝缘挂板条为一组，间隔分设有2组。
[0009]优选地，第二挂耳长于第一挂耳设置，第二挂耳压触的挂板条的数量多于第一挂耳。
[0010]一种自洁式纯铜件清洗槽的操作方法，使用上述的自洁式纯铜件清洗槽，包括以
下步骤：S1、活化，包括以下步骤：S11、调配活化液，并将其放入活化箱中；S12、将导电挂板条卡入两端的置条孔中，两条绝缘挂板条分别置于内侧两个置条孔中；S13、相邻的两个基材板同种挂耳朝向相反设置，其中一条挂板条上的还原板数量比另外一条挂板条上的还原板数量多1条；S14、将基材板在活化液中浸泡；S15、充电机正负极通过导电夹连接挂板条；S16、充电后取出还原板；S2、清洗，包括以下步骤：S21、调配清洗液；S22、组装自洁装置；S23、安装自洁装置；S24、待清洗工件的清洗；S3、循环使用，重复步骤S1和S2。
[0011]优选地，步骤S16中，首次充电时的活化电流=[基材板重量
‑
基材板栅板重量]×
[（30至40）mA/g
×
连接充电机负极导电挂板条上基材板的数量]，充电40
‑
45h；第二次及其以后的活化电流=[基材板重量
‑
基材板栅板重量]×
[（16至20）mA/g
×
连接充电机负极导电挂板条上还原板的数量]，充电8
‑
10h。
[0012]优选地，步骤S11中，在调节活化液浓度时将一部分活化液导入浸酸箱中。
[0013]相对于现有技术，本专利技术具有以下有益效果：本专利技术通过自洁装置中的还原板快速置换铜并在酸溶液下保持相对稳定，具体的，通过还原板的铅膏将铜离子还原成金属铜，金属铜在稀硫酸中能够稳定存在，铅还原完铜离子后转化成硫酸铅，硫酸铅在稀硫酸中稳定存在，所以，这一处理方式不会对溶液成分造成任何影响，且无需停产处理；而自洁装置的多层式结构，通过栅板、进液孔、网袋等部件可以提高还原效率，防止铜的堆积；且还原板制造成本较低，还原板通过活化装置可以反复活化，延长使用寿命。
附图说明
[0014]图1是本专利技术中浸酸箱的侧视结构示意图；图2是本专利技术中浸酸箱的主视结构示意图；图3是本专利技术中浸酸箱的俯视结构示意图；图4是本专利技术中还原板的结构示意图；图5是本专利技术中筐篮的结构示意图；图6是本专利技术中网袋的结构示意图；图7是本专利技术中活化箱的主视结构示意图；图8是本专利技术中活化装置的俯视结构示意图；图9是本专利技术中挂板条的结构示意图；
图10是本专利技术中挂板条的安装结构示意图；附图中，1、浸酸箱；2、吊耳；3、挂板柱；4、安置口；5、硫酸水溶液；6、挂杆；7、挡头；8、第一挂耳；9、第二挂耳；10、横梁；11、挂肩；12、栅板；13、进液孔；14、限位条；15、网袋；16、绑带；17、活化箱；18、置条孔；19、活化液；20、导电挂板条；21、绝缘挂板条；22、V型槽；23、卡口；24、导电夹；25、充电机。
具体实施方式
[0015]为了使本领域的人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合本专利技术的附图，对本专利技术的技术方案进行清楚、完整的描述，以下实施例中提到的方向用词，例如“上”“下”“左”“右”等仅是参考附图的方向，因此，使用的方向用词是用来说明而非限制本专利技术创造。
[0016]实施例1一种自洁式纯铜件清洗槽，包括浸酸箱1和自洁装置。
[0017]如图1
‑
3所示，所述浸酸箱1呈长方体设置，其内盛放硫酸水溶液5；其较窄的两外侧壁上固定连接有吊耳2，所述吊耳2呈倒L型；其较窄的两内侧壁上固定连接有挂板柱3，所述挂板柱3呈L型；所述浸酸箱1顶部较宽的两侧壁上设置有3组安置口4，所述安置口4为弧形或V型，每组安置口4上分别承接有1个挂杆6，所述挂杆6前后两头固定连接有挡块，防止挂杆6水平错位，挂杆6可用于悬挂待清洗铜料。
[0018]所述自洁装置包括还原板和固定组件，而固定组件包括筐篮和网袋15；如图4所示，所述还原板为板状，还原板经基材板活化而成，基材板包括栅板12和铅膏，基材板上部设置有横梁10，横梁10两端上分别固定连接有第一挂耳8和第二挂耳9，横梁10两端向外延伸有挂肩11，所述第一挂耳8和第二挂耳9均为倒L型，且背对设置，还原板下部设置为栅板12，栅板12外覆盖有铅膏；如图5所示，筐篮呈长方体设置，其上方设置有开口，其底部和侧壁上设置有进液孔13，其较窄本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自洁式纯铜件清洗槽，包括用于盛放酸溶液的浸酸箱（1），其特征在于，所述浸酸箱（1）上可拆卸连接有自洁装置，所述自洁装置包括用于快速置换铜并在酸溶液下保持相对稳定的还原板和用于安装固定还原板的固定组件；所述固定组件包括筐篮和网袋（15），所述筐篮侧壁上设有若干个进液孔（13），所述还原板置于筐篮中，所述网袋（15）包裹在筐篮外。2.根据权利要求1所述的自洁式纯铜件清洗槽，其特征在于，所述还原板通过基材板活化而成，基材板包括栅板（12）和铅膏，所述铅膏附着于栅板（12）上。3.根据权利要求2所述的自洁式纯铜件清洗槽，其特征在于，所述栅板（12）上端两侧分别固定连接有第一挂耳（8）和第二挂耳（9），所述浸酸箱（1）内壁上固定连接有挂板柱（3），所述第一挂耳（8）和第二挂耳（9）挂设于挂板柱（3）上；所述栅板（12）上端固定连接有横梁（10），所述横梁（10）两侧固定连接有用于竖向定位的挂肩（11）。4.根据权利要求3所述的自洁式纯铜件清洗槽，其特征在于，栅板（12）材质为铅合金，铅重量百分比为90%
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95%；所述铅膏由铅粉和稀硫酸水溶液调和后阴干而成；铅粉含有重量百分比为99%
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99.5%的铅及铅的氧化物，以及重量百分比为0.5%
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1%的导电碳纤维；铅的氧化物占铅及铅的氧化物总和的70%
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90%，稀硫酸水溶液中硫酸的重量百分含量为5%
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10%；铅膏超出栅板（12）表面0.2
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0.5mm。5.根据权利要求4所述的自洁式纯铜件清洗槽，其特征在于，还包括用于恢复还原板的活化装置，所述活化装置包括充电机（25）和用于盛放活化液（19）的活化箱（17），所述活化箱（17）上安装有若干个用于挂置还原板的挂板条。6.根据权利要求5所述的自洁式纯铜件清洗槽，其特征在于，所述活化箱（17）较宽的两侧壁对应设置有4组置条孔（18），挂板条设置有4个，挂板条插接于置条孔（18）中；所述挂板条包括2个导电挂板条（...

【专利技术属性】
技术研发人员：单颖会，吴涛，战祥连，林双，唐震，赵艳红，张传乐，张志鹏，董智鑫，
申请(专利权)人：淄博火炬能源有限责任公司，
类型：发明
国别省市：