缓冲室及具备缓冲室的AM系统技术方案

在AM系统中，构建粉末材料等微粒不会从能够存在微粒的区域飞散到其他区域的环境。根据一个实施方式，提供一种用于制造造型物的AM系统，该AM系统具有：造型室，该造型室配置有AM装置；以及缓冲室，该缓冲室与所述造型室相连，所述缓冲室具有：入口，该入口与周围环境相连；出口，该出口与所述造型室相连；格栅地板；以及排气口，所述AM系统具有：第一门，该第一门能够对所述缓冲室的所述入口进行开闭；以及第二门，该第二门能够对所述缓冲室的所述出口进行开闭。闭。闭。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】缓冲室及具备缓冲室的AM系统


[0001]本申请涉及缓冲室及具备缓冲室的AM系统。本申请主张基于2020年10月16日申请的日本专利申请号第2020
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174652号的优先权。包括日本专利申请号第2020
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174652号的说明书、权利要求书、附图以及摘要在内的所有公开内容通过参照而作为整体引用于本申请中。

技术介绍

[0002]已知有根据表现三维物体的计算机上的三维数据直接造型出三维物体的技术。例如，已知有Additive Manufacturing(AM)(增材制造)法。作为一例，作为沉积方式的AM法而具有直接能量沉积(DED)。DED是通过一边局部地供给金属材料一边使用适当的热源使该金属材料与基材一起熔融、凝固来进行造型的技术。另外，作为AM法的一例，具有粉末床融合(PBF)。PBF针对二维铺满的金属粉体向要造型的部分照射作为热源的激光束、电子束来使金属粉体熔融、凝固或使其烧结，从而造型出三维物体的各层。在PBF中，通过重复这样的工序，能够造型出所希望的三维物体。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特表2018
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535320号公报
[0006]在DED方式和PBF方式中的任一方式的AM装置中，大多使用金属粉末等微粒作为造型的材料。另外，在AM装置中，也有时不使用粉末材料而使用卷轴状的线材料作为造型的材料，但在熔融材料时产生烟雾等微粒。微粒容易被人吸入，另外，根据微粒的种类而有时在健康上带来影响。在AM装置中，成为造型面的造型板有时由作业人员通过手工作业来设置于造型用的工作台，并且在造型后由作业人员以手工作业取出造型物。在造型前向粉末供给装置补充粉末材料的作业、在造型后取出残留有材料粉末的状态的造型物的作业存在作业人员吸进微粒的风险。
[0007]因此，在使用粉末材料的AM装置中，在进行处理粉末材料的作业时，需要穿戴防护服或防护手套、防尘口罩进行作业。为了降低作业人员被暴露于微粒的风险，最好使作业人员不直接接触造型室就能够进行粉末材料的补充、造型物的取出放入。另外，最好构建微粒不会从能够存在粉末材料等微粒的区域飞散到其他区域的环境。

技术实现思路

[0008]本申请的一个目的在于提供一种能够解决或缓和这些问题的至少一部分的结构。
[0009]根据一个实施方式，提供一种用于制造造型物的AM系统，该AM系统具有：造型室，该造型室配置有AM装置；以及缓冲室，该缓冲室与所述造型室相连，所述缓冲室具有：入口，该入口与周围环境相连；出口，该出口与所述造型室相连；格栅地板；以及排气口，所述AM系统具有：第一门，该第一门能够对所述缓冲室的所述入口进行开闭；以及第二门，该第二门能够对所述缓冲室的所述出口进行开闭。
附图说明
[0010]图1是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统的图。
[0011]图2是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统的图。
[0012]图3是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统的图。
[0013]图4是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统的图。
[0014]图5是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统的图。
[0015]图6是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统的图。
[0016]图7是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统的图。
具体实施方式
[0017]以下，结合附图对本专利技术所涉及的缓冲室及具备缓冲室的AM系统的实施方式进行说明。在附图中，对相同或类似的要素标注相同或类似的参照符号，在各实施方式的说明中有时省略与相同或类似的要素相关的重复的说明。另外，各实施方式中示出的特征只要不相互矛盾则也能够适用于其他的实施方式。
[0018]图1是概略性地表示基于一个实施方式的AM系统1000的图。图1所示的箭头z表示高度方向。图1所示的AM系统1000具备造型室100和缓冲室200。在造型室100与缓冲室200之间具有门102，通过门102而将造型室100和缓冲室200隔离。门102设置于造型室100的入口侧、缓冲室200的出口侧。在缓冲室200的入口侧具有门202，通过门202而将缓冲室200和周围环境隔离。在图1所示的系统1000中，在造型室100，能够仅经由缓冲室200进行物品的取出和放入。门102、202可以设为例如能够沿横向滑动的滑动式的门、或者能够向近前侧或里侧开闭的门等。若使用滑动式的门作为门102、202，则难以受到差压的影响。特别是，如后所述，缓冲室200有时会使压力比周围环境的压力低，若将隔离周围环境和缓冲室200的门202设为滑动式的门，则难以受到差压的影响。
[0019]在一个实施方式中，AM系统1000可以具备用于检测门102、202的开闭状态的传感器以及将门102、202维持在关闭状态的锁定机构。例如，通过控制为仅在门102关闭的状态时能够打开门202、并且仅在门202关闭的状态时能够打开门102，从而能够防止造型室100被直接暴露于周围环境的情况。
[0020]在造型室100内配置有用于进行AM造型的AM装置150。AM装置150具备粉末材料的供给装置、激光源或电子束源等热源、气体源、各种动作机构、控制装置等。AM装置150可以是DED方式的AM装置，也可以是PBF方式的AM装置。AM装置能够利用包含现有技术的任意的AM装置。由于AM装置150能够使用任意的装置，因此在本说明书中不作详细说明。
[0021]在图1所示的AM系统1000中，在造型室100中进行造型准备、利用了AM装置150的造型处理、以及造型后的处理。在造型准备中，进行粉末材料等造型材料向规定的材料供给装置的补充、以及对AM装置150进行造型用的基底板的设置、进行AM装置所使用的各种更换部件的设置等。造型处理在计算机的自动控制下利用AM装置150进行规定的造型。作为造型后的处理，进行残留的粉末材料等的除去、造型物的取出、造型室的清扫等。
[0022]在一个实施方式中，如图1所示，在造型室100和缓冲室200的壁面配置有手套110、210。手套110、210从造型室100和缓冲室200的壁面向内部延伸，能够从造型室100和缓冲室200的外侧访问造型室100和缓冲室200的内部。通过手套110、210，能够从造型室100和缓冲
室200的外侧以手工作业进行造型室100和缓冲室200中的作业。例如，能够进行下述的作业：经由缓冲室200将装有粉末材料的容器带入造型室100，并在关闭了门102的密闭的状态下经由手套110将粉末材料填充到AM装置150的材料供给装置。曾装有粉末材料的空的容器经由门102移动到缓冲室200，关闭门102之后再打开门202，从而取出空的容器。
[0023]在一个实施方式中，能够代替图1所示的手套110、210而配置或者在此基础上还配置可以横跨造型室100和缓冲室200进行动作的起重机等移动机构201、在造型室100和缓冲室200的内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种AM系统，用于制造造型物，其特征在于，具有：造型室，该造型室配置有AM装置；以及缓冲室，该缓冲室与所述造型室相连，所述缓冲室具有：入口，该入口与周围环境相连；出口，该出口与所述造型室相连；格栅地板；以及排气口，所述AM系统具有：第一门，该第一门能够对所述缓冲室的所述入口进行开闭；以及第二门，该第二门能够对所述缓冲室的所述出口进行开闭。2.根据权利要求1所述的AM系统，其特征在于，具有排气机构，该排气机构能够控制从所述排气口排出的气体的排气量。3.根据权利要求2所述的AM系统，其特征在于，所述排气机构构成为，在所述第一门打开的状态下，将排气量控制为从所述入口朝向所述缓冲室中的空气的流速为0.3m/s以上且1.3m/s以下。4.根据权利要求2或3所述的AM系统，其特征在于，所述排气机构具有集尘器。5.根据权利要求1至4中任一项所述的A...

【专利技术属性】
技术研发人员：篠崎弘行，浅井润树，向山佳孝，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：