【技术实现步骤摘要】
后侧电力输送和信号传送
[0001]本公开涉及集成电路,并且更特别地,涉及用于信号传送和电力输送的互连结构。
技术介绍
[0002]随着集成电路的尺寸不断缩小,出现了许多挑战。例如,支持用于信号传送和高电力输送的高密度的缩小前侧互连变得越来越困难。一种避免由于电力和信号传送导致的前侧互连拥塞的方法包括使用后侧电力输送网络(PDN)。然而,前侧信号传送仍然拥塞,特别是对于传送长度较长的高度密集的电路。
附图说明
[0003]图1A示出了根据本公开的实施例的集成电路(IC)的一部分的截面图,该IC包括(i)包括多个有源器件和/或无源器件(例如,晶体管)的器件层,其中一个或多个互连特征(例如,导电过孔)垂直延伸穿过器件层;(ii)用于芯片内逻辑信号传送和芯片间逻辑信号传送的前侧互连结构,(iii)用于芯片内逻辑信号传送、芯片间逻辑信号传送和将电力传送到有源器件和/或无源器件的第一后侧互连结构;以及(iv)用于芯片间逻辑信号传送和将电力传送到有源器件和/或无源器件的第二后侧互连结构。
[0004]图1B示出了根据本公开的实施例的图1A的IC的一部分的放大视图。
[0005]图2示出了根据本公开的实施例的使用前侧互连结构、延伸穿过器件层的互连特征、以及第一后侧互连结构的图1A的IC中的芯片内逻辑信号传送的示例。
[0006]图3示出了根据本公开的实施例的使用前侧互连结构、延伸穿过器件层的互连特征、第一后侧互连结构、以及第二后侧互连结构的图1A的IC中的芯片间逻辑信号传送的示例。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成电路器件,包括:器件层,包括多个晶体管;第一互连结构,包括在所述器件层上方的第一多个互连特征;以及第二互连结构,包括在所述器件层下方的第二多个互连特征,其中,所述第一互连结构用于(i)在所述多个晶体管中的晶体管之间对逻辑信号进行传送,以及(ii)在所述多个晶体管中的晶体管与所述集成电路器件的第一一个或多个输入/输出(I/O)引脚之间对逻辑信号进行传送,并且其中,所述第二互连结构用于(i)在所述多个晶体管中的晶体管之间对逻辑信号进行传送,(ii)在所述多个晶体管中的晶体管与所述第一一个或多个I/O引脚之间对逻辑信号进行传送,以及(iii)将电力从所述集成电路器件的第二一个或多个I/O引脚传送到所述多个晶体管中的晶体管。2.根据权利要求1所述的集成电路器件,其中:在所述器件层上方的所述第一互连结构在所述器件层的所述多个晶体管的前侧上;并且在所述器件层下方的所述第二互连结构在所述器件层的所述多个晶体管的后侧上。3.根据权利要求1所述的集成电路器件,还包括:第三互连结构,包括在所述第二互连结构下方的第三多个互连特征。4.根据权利要求3所述的集成电路器件,其中,所述第三互连结构用于(i)在所述多个晶体管中的晶体管与所述第一一个或多个I/O引脚之间对逻辑信号进行传送,以及(ii)将电力从所述第二一个或多个I/O引脚传送到所述多个晶体管中的晶体管。5.根据权利要求3所述的集成电路器件,其中,所述第三互连结构用于避免在所述多个晶体管中的晶体管之间对逻辑信号传送。6.根据权利要求3所述的集成电路器件,其中:在所述第三互连结构的互连层内的互连特征具有第一间距;在所述第二互连结构的互连层内的互连特征具有第二间距;并且所述第一间距比所述第二间距高至少10%。7.根据权利要求6所述的集成电路器件,其中,所述第一间距比所述第二间距高至少25%。8.根据权利要求6所述的集成电路器件,其中,所述第一间距是所述第二间距的至少两倍。9.根据权利要求3至8中任一项所述的集成电路器件,其中,为了将逻辑信号从所述多个晶体管中的第一晶体管传送到I/O引脚,将所述逻辑信号进行以下传输:(i)从所述第一晶体管的前侧传输到所述第一互连结构的第一一个或多个互连特征,(ii)通过在所述器件层内延伸的导电过孔,从所述第一互连结构的所述第一一个或多个互连特征传输到所述第二互连结构的第二一个或多个互连特征,(iii)从所述第二互连结构的所述第二一个或多个互连特征传输到所述第三互连结构的第三一个或多个互连特征,以及(iv)从所述第三互连结构的所述第三一个或多个互连特征传输到所述I/O引脚。10.根据权利要求3至8中任一项所述的集成电路器件,其中,为了将电力从I/O引脚传送到所述多个晶体管中的第一晶体管,将所述电力进行以下传输:(i)从所述I/O引脚传输
到所述第三互连结构的第三一个或多个互连特征,(ii)从所述第三互连结构的所述第三一个或多个互连特征传输到所述第二互连结构的第二一个或多个互连特征,以及(iii)通过在所述器件层内延伸的导电过孔,从所述第二互连结构的所述第二一个或多个互连特征传输到所述晶体管。11.根据权利要求1至8中任一项所述的集成电路器件,其中,为了将逻辑信号从所述多个晶体管中的第一晶体管传送到第二晶体管,将所述逻辑信号进行以下传输:(i)从所述第一晶体管的前侧传输到所述第一互连结构的第一一个或多个互连特征,(ii)通过在所述器件层内延伸的第一导电过孔,从所述第一互连结构的所述第一一个或多个互连特征传输到所述第二互连结构的第二一个或多个互连特征,(iii)通过在所述器件层内延伸的第二导电过孔,从所述第二互连结构的所述第二一个或多个互连特征传输到所述第一互连结构的第一一个或多个互连特征,以及(iv)从所述第一互连结构的所述第一一个或多个互连特征传输到所述第二晶体管的前侧。12.根据权利要求1至8中任一项所述的集成电路器件,还包括:在所述器件层内垂直延伸的多个导电过孔,所述多个导电过孔中的至少一个导电过孔将所述第一互连结构的所述第一多个互连特征中的对应一个互连特征耦合到所述第二互连结构的所述第二多个互连特征中的对应一个互连特征。13.根据权利要求12所述的集成电路器件,其中,所述多个导电过孔用于(i)在所述多个晶体管中的晶体...
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