本发明专利技术涉及光学薄膜技术领域，提出一种强耐候性NCVM薄膜及镀膜工艺。包括基材，在所述基材表面镀制膜层，所述膜层采用SiO2低折射率材料、Al2O3中折射率材料和Ti3O5高折射率材料层叠而成，所述膜层由内到外的结构是：Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/Al2O3/SiO2层状结构。本发明专利技术中玻璃表面膜层厚度均匀，监控方便，膜层在油墨面，颜色淡蓝色，在终端严格的测试标准中能稳定合格，极限测试产品在pH4.7、pH10溶液中可稳定72H外观无变化、无腐蚀、变色、起泡、开裂、膜层脱落等异常现象。膜层脱落等异常现象。膜层脱落等异常现象。
【技术实现步骤摘要】
一种强耐候性NCVM薄膜及镀膜工艺
[0001]本专利技术涉及光学薄膜
，尤其涉及一种强耐候性NCVM薄膜及镀膜工艺。
技术介绍
[0002]众所周知，目前镀膜行业中，手机，玩具，仪器仪表，车载后盖等产品中都需要镀制光学薄膜。
[0003]强耐候性NCVM薄膜是一种高端盖板产品要求。主要用于手机后盖摄像头 、中小尺寸车载显示屏等。智能产品中的重要部件屏幕需要适应更多的不同环境。要求产品在溶液pH=4.7和pH=10放置48H，其外观无变化、无腐蚀、变色、 起泡、开裂、涂层脱落。
[0004]为了提高性能，同时丰富其实用范围，需要在玻璃材质的表面镀上特殊涂层。市场中现有的小尺寸盖板涂层在使用的过程中对于环境的要求却比较高，酸性和碱性条件下都会使玻璃屏幕上的膜层脱落，极大的限制了该产品的使用范围。目前，为满足及超越客户的要求与期许，增加摄像头镜片的市场竞争力，急需制定一种强耐候性NCVM薄膜及镀膜工艺满足对客户摄像头镜片的作业需求。
[0005]查阅各种资料，对于强耐候性NCVM薄膜，一般情况需要特殊的镀膜材料，镀膜后道工序复杂，不足于满足正常量产的要求，并且具有一定的局限性。
[0006]因此，提供一种结构简单，膜层材料常见，且生产工艺简单，能够同时满足量产条件和节约成本已经成为目前最大的技术问题。
技术实现思路
[0007]为了克服现有技术的上述缺点，本专利技术提出一种强耐候性NCVM薄膜及镀膜工艺，目的是提供一种结构简单，膜层材料常见，且生产工艺简单，能够同时满足量产条件和节约成本的技术问题，满足客户的高端需求，该工艺能够实现镀膜后玻璃表面在溶液pH=4.7和 pH=10放置48H，产品外观无变化、无腐蚀、变色、 起泡、开裂、膜层脱落等异常现象。
[0008]本专利技术所采取的技术方案是，提出一种强耐候性NCVM薄膜，包括基材，其中，在所述基材表面镀制膜层，所述膜层采用SiO2低折射率材料、Al2O3中折射率材料和Ti3O5高折射率材料层叠而成，所述膜层由内到外的结构是：Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/ Al2O3/ SiO2层状结构。
[0009]进一步地，所述每层SiO2低折射率材料厚度为80nm
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100nm,每层Ti3O5高折射率材料为5nm
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50nm，Al2O3中折射率材料厚度为10nm
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50nm。
[0010]进一步地，所述SiO2、Al2O3、Ti3O5膜层膜料纯度在99.999%。
[0011]本专利技术还提出一种强耐候性NCVM薄膜的镀制工艺，其包括以下步骤：步骤1：使用蒸发机270度EB加射频IB加晶控仪监控；步骤2：膜层设计采用SiO2低折射率材料、Al2O3中折射率材料和Ti3O5高折射率材料层叠而成，所述膜层由内到外的结构是：Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/Al2O3/SiO2层状结构，所述每层SiO2低折射率材料厚度为80nm
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100nm,每层Ti3O5高折射率材料为
5nm
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50nm，Al2O3中折射率材料厚度为10nm
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50nm；步骤3：以上膜料纯度在99.999%，蒸发源到基板距离在0.9m
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1.2m之间；步骤4：低折射率材料在工作时，离子源充入氧气和氩气比4：1/5：1，氩气流量在5
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50sccm,氧气流量在10
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50sccm,气压在1.0E
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3,其中射频Beam电流在500
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1600mA,电压在800
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1400V,为了充分考虑到膜层堆积密度，镀膜速率控制在8
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10A/S；高折射率材料离子源充入氧气和氩气比6：1/7：1，氩气流量在10
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15sccm,氧气流量在50
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99sccm,镀膜气压在2.5E
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2，其中射频Beam电流在800
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1200 mA,电压在500
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1400 V,镀膜速率3
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4A/S，高折射率镀膜APC控制在3.0E
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2，实际冲入氧气为70
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90sccm；步骤5：Al2O3中折射率材料的参数中需要做底料，表面不允许存在发红发黑现象，在镀膜过程中低温NO IAD，APC设定在2.0E
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2，镀膜气压在1.0E
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3，速率3A/S。
[0012]与现有技术相比，本专利技术的有益效果：本专利技术中玻璃表面膜层厚度均匀，监控方便，膜层在油墨面，颜色淡蓝色，在终端严格的测试标准中能稳定合格，极限测试产品在pH4.7、PH10溶液中可稳定72H外观无变化、无腐蚀、变色、起泡、开裂、膜层脱落等异常现象，另外本专利技术采用的膜层材料常见，且生产工艺简单，能够同时满足量产条件和节约成本已经成为目前最大的技术问题，满足客户的高端需求。
附图说明
[0013]图1为本专利技术一种强耐候性NCVM薄膜的结构示意图。
具体实施方式
[0014]参看图1，一种强耐候性NCVM薄膜，包括基材1，其中，在所述基材1表面镀制膜层，所述膜层采用SiO2低折射率材料3、Al2O3中折射率材料4和Ti3O5高折射率材料2层叠而成，所述膜层由内到外的结构是：Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/Al2O3/SiO2层状结构；所述基材1采用玻璃基材；进一步地，所述每层SiO2低折射率材料3厚度为80nm
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100nm,每层Ti3O5高折射率材料2为5nm
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50nm，Al2O3中折射率材料厚度4为10nm
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50nm。
[0015]进一步地，所述SiO2、Al2O3、Ti3O5膜层膜料纯度在99.999%。
[0016]本专利技术还提出一种强耐候性NCVM薄膜的镀制工艺，其包括以下步骤：步骤1：使用蒸发机270度EB加射频IB加晶控仪监控；步骤2：膜层设计采用SiO2低折射率材料3、Al2O3中折射率材料4和Ti3O5高折射率材料2层叠而成，所述膜层由内到外的结构是：Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/Al2O3/SiO2层状结构，所述每层SiO2低折射率材料3厚度为80nm
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100nm,每层Ti3O5高折射率材料2为5nm
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50nm，Al2O3中折射率材料4厚度为10nm
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50nm；步骤3：以上膜料纯度在99.999%，蒸发源到基板距离在0.9m
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1.2m之间；步骤4：低折射率材料3在工作时，离子源充入氧气和氩气比4：1/5：1，氩气流量在5
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50sccm,氧本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种强耐候性NCVM薄膜，包括基材，其特征是：在所述基材表面镀制膜层，所述膜层采用SiO2低折射率材料、Al2O3中折射率材料和Ti3O5高折射率材料层叠而成，所述膜层由内到外的结构是：Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/Al2O3/SiO2层状结构。2.如权利要求1所述的一种强耐候性NCVM薄膜，其特征是：所述每层SiO2低折射率材料厚度为80nm
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100nm,每层Ti3O5高折射率材料为5nm
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50nm，Al2O3中折射率材料厚度为10nm
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50nm。3.如权利要求1所述的一种强耐候性NCVM薄膜，其特征是：所述SiO2、Al2O3、Ti3O5膜层膜料纯度在99.999%。4.如权利要求1所述的一种强耐候性NCVM薄膜的镀制工艺，其包括以下步骤：步骤1：使用蒸发机270度EB加射频IB加晶控仪监控；步骤2：膜层设计采用SiO2低折射率材料、Al2O3中折射率材料和Ti3O5高折射率材料层叠而成，所述膜层由内到外的结构是：Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/SiO2/Ti3O5/Al2O3/SiO2层状结构，所述每层SiO2低折射率材料厚度为80nm
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100nm,每层Ti3O5高折射率材料为5nm
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50nm，Al2O3中折射率材料厚度为10nm
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50nm；步骤3...
【专利技术属性】
技术研发人员：李智超，毕文江，孙波，赵松，徐光科，方涛，
申请(专利权)人：河南镀邦光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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