一种超硬增透涂层玻璃盖板的制作方法及玻璃盖板技术

本发明专利技术公开了一种超硬增透涂层玻璃盖板的制作方法及玻璃盖板，包括：在镀有底层的玻璃基板上溅射超硬耐刮花层；在玻璃基板的超硬耐刮花层上镀设顶层，以使所述底层、超硬耐刮花层和顶层堆叠形成超硬增透涂层，超硬耐刮花层的材料为氮氧化硅，底层和顶层的材料为低折射率材料，超硬耐刮花层的折射率范围1.5

【技术实现步骤摘要】
一种超硬增透涂层玻璃盖板的制作方法及玻璃盖板


[0001]本专利技术涉及一种超硬增透涂层玻璃盖板，具体是一种超硬增透涂层玻璃盖板的制作方法及玻璃盖板。

技术介绍

[0002]目前在使用的手机显示屏，通常是玻璃盖板，材料主要是二氧化硅，因玻璃折射率与空气折率不一致，当可见光照射到收手机显示屏表面时会造成明显的眩光，影响阅读体验。
[0003]申请号为2022104079553的专利，在解决上述技术问题时，采用高折射率和低折射率材料堆叠，降低反射光，产生抗眩光效果。然而，上述申请采用的氮氧化铝高折射率材料和氧化硅低折射率材料，二者的折射率差异大，需要堆叠多层膜层实现反射光的降低，使得玻璃盖板产品弧边会有明显色差，影响用户视觉体验效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种超硬增透涂层的制作方法，通过使用氮氧化硅作为超硬耐刮花层，和顶层、底层的低折射率材料层的三层堆叠形成超硬增透涂层，达到高低折射率材料折射率差异小，堆叠膜层数少，玻璃盖板产品弧边无色差的目的。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：第一方面，一种超硬增透涂层玻璃盖板的制作方法，包括：在玻璃基板上镀设底层；在镀有底层的玻璃基板上溅射超硬耐刮花层；在玻璃基板的超硬耐刮花层上镀设顶层，以使所述底层、超硬耐刮花层和顶层堆叠形成超硬增透涂层；所述超硬耐刮花层的材料为氮氧化硅，所述底层和顶层的材料为低折射率材料，且所述底层和顶层的材料的折射率小于超硬耐刮花层的折射率。
[0006]可选的，在所述镀有底层的玻璃基板上溅射超硬耐刮花层包括：在真空环境中对所述镀有底层的玻璃基板溅射硅靶材，使其产生硅原子，并沉积于底层表面；通入氮气和氧气，以使氮气和氧气激发为氮离子和氧离子，并与所产生的硅原子氮氧化形成氮氧化硅层。
[0007]可选的，所述超硬耐刮花层的莫氏硬度超过7。
[0008]可选的，所述超硬耐刮花层的厚度为400
‑
4000nm。
[0009]可选的，所述在玻璃基板上镀设底层之前，所述方法还包括：沿厚度方向进行预变形处理，预变形的方向与玻璃基板在镀设超硬增透涂层时的变形方向相反。
[0010]可选的，所述沿厚度方向进行预变形处理包括：对所述玻璃基板进行加热软化处理；
对软化后的玻璃基板沿玻璃基板的厚度方向进行预变形处理，预变形量为0.2
‑
0.25mm。
[0011]可选的，所述底层和顶层的厚度均小于超硬耐刮花层，底层和顶层的材料为二氧化硅。
[0012]第二方面，本专利技术还提供了一种玻璃盖板，所述玻璃盖板采用上述任一项所述的玻璃盖板的制备方法制备形成。
[0013]第三方面，本专利技术还提供了一种屏幕，所述屏幕包括上述的玻璃盖板。
[0014]第四方面，本专利技术还提供了一种电子设备，所述电子设备包括上述的屏幕。
[0015]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：在镀有底层的玻璃基板上溅射超硬耐刮花层；在玻璃基板的超硬耐刮花层上镀设顶层，以使所述底层、超硬耐刮花层和顶层堆叠形成超硬增透涂层，超硬耐刮花层的材料为氮氧化硅，底层和顶层的材料为低折射率材料，超硬耐刮花层的折射率范围1.5
‑
1.65，因此，高折射率材料和低折射率材料堆叠后，高低折射率材料折射率差异小，无需多层膜层堆叠，在降低反射光时，产生的反射和入射光相消的次数少，反射光与入射光相消时不会强烈，玻璃盖板产品弧边无明显色差，同时相应的透过光会增加，达到了增透效果，提高了用户视觉体验。
附图说明
[0016]图1为本专利技术中超硬增透涂层与玻璃基板结合结构示意图。
[0017]图2为本专利技术中没有预变形玻璃基板的镀膜前后对比图。
[0018]图3为本专利技术中设有预变形玻璃基板的镀膜前后对比图。
[0019]图4为本专利技术中玻璃基板镀超硬增透涂层前面型轮廓度数据图。
[0020]图5为本专利技术中玻璃基板镀超硬增透涂层后面型轮廓度数据图。
[0021]图中：1、玻璃基板；2、超硬增透涂层；3、超硬耐刮花层；4、底层；5、顶层。
实施方式
[0022]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0023]在本专利技术中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本专利技术及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。
[0024]并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本专利技术中的具体含义。
[0025]此外，术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”应做广义理解。例如，可以是固定连接，可拆卸连接，或整体式构造；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或者是
通过中间媒介间接相连，又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0026]此外，术语“第一”、“第二”等主要是用于区分不同的装置、元件或组成部分（具体的种类和构造可能相同也可能不同），并非用于表明或暗示所指示装置、元件或组成部分的相对重要性和数量。除非另有说明，“多个”的含义为两个或两个以上。
[0027]以下将结合附图对本申请的方案如何解决上述技术问题详细介绍。
[0028]请参阅图1，本专利技术公开了一种超硬增透涂层的制作方法，包括：步骤A、在玻璃基板1上镀设底层4。
[0029]其中，上述玻璃基板1的尺寸可以为适应任一手机显示屏使用规格的尺寸。
[0030]底层4的材料可以为现有技术中任一种低折射率的材料，例如二氧化硅，且在玻璃基板1上镀层的方式，可以为现有技术中的任一种镀层方式，在此不做限定。
[0031]步骤B、在镀有底层4的玻璃基板1上溅射超硬耐刮花层3。
[0032]考虑到手机在实际使用过程中，手机表面的玻璃盖板会与配饰、桌面等发生碰撞或摩擦，从而使得玻璃盖板上产生较为明显的划痕，为了避免产生的划痕影响玻璃盖板的显示，可以在玻璃基板1上溅射超硬耐刮花层。该超硬耐刮花层3的材料可以为氮氧化硅。
[0033]示例性的，可以采用射频磁控溅射工艺，在镀有底层4的玻璃基板1上溅射超硬耐刮花层3，采用射频磁控溅射工艺形成的膜层沉积均匀，沉积在产品表面后，可以使产品具有柔性好，热效率高，使用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超硬增透涂层玻璃盖板的制作方法，其特征在于，包括：在玻璃基板上镀设底层；在镀有底层的玻璃基板上溅射超硬耐刮花层；在玻璃基板的超硬耐刮花层上镀设顶层，以使所述底层、超硬耐刮花层和顶层堆叠形成超硬增透涂层；所述超硬耐刮花层的材料为氮氧化硅，所述底层和顶层的材料为低折射率材料，且所述底层和顶层的材料的折射率小于超硬耐刮花层的折射率。2.根据权利要求1所述的一种超硬增透涂层的制作方法，其特征在于，在所述镀有底层的玻璃基板上溅射超硬耐刮花层包括：在真空环境中对所述镀有底层的玻璃基板溅射硅靶材，使其产生硅原子，并沉积于底层表面；通入氮气和氧气，以使氮气和氧气激发为氮离子和氧离子，并与所产生的硅原子氮氧化形成氮氧化硅层。3.根据权利要求1所述的一种超硬增透涂层的制作方法，其特征在于，所述超硬耐刮花层的莫氏硬度超过7。4.根据权利要求1
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3中任一项所述的一种超硬增透涂层的制作方法，其特征在于，所述超硬耐刮花层的厚度为400
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4000nm。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：李少华，
申请(专利权)人：安徽精卓光显技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：