本发明专利技术涉及印制板厂蚀刻废液的处理技术领域，特指一种在废蚀刻液内提铜的方法。先是控制各离子浓度，然后再从废蚀刻液中提铜，提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为：铜离子：２０－５０ｇ／Ｌ，氯离子：１５０－１７０ｇ／Ｌ，ｐＨ值：８．０－９．５，且回用再生液，循环提铜。本发明专利技术通过高精度控制废蚀刻液内各离子浓度直接电解法提铜，处理方法简单，易操作，生产成本低，且能按照工艺要求高精度控制再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现对废蚀刻液进行循环再生使用，节约成本和能源，减少排污，提升环境效益、经济效益和社会效益。
【技术实现步骤摘要】
-本专利技术涉及印制板厂蚀刻废液的处理
，特指一种在废蚀 刻液内提铜的方法。
技术介绍
生产中，通常需要对废蚀刻液进行循环再生，以节约成本和能源， 减少排污。现有蚀刻液处理方式有多种，但存在有效率低、工艺复杂， 生产成本高的缺陷。
技术实现思路
-本专利技术的目的在于提供一种高精度控制各离子浓度以提取金属 铜，且余液得以循环再生的方法。为达到上述目的，本专利技术采用如下技术方案，先是控制各 离子浓度，然后再从废蚀刻液中提铜，提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为铜离子20-50g/L，氯离子150-170g/L， PH 值8.0-9.5，且回用再生液，循环提铜。电解槽阴阳极距在20-50mm之间，可调；电流密度范围在 100-1000A/m2。再生液内各离子浓度控制范围在氯离子160-175g/L， PH值控制在9.8-10.2。本专利技术通过高精度控制废蚀刻液内各离子浓度直接电解法提铜， 处理方法简单，易操作，生产成本低，且能按照工艺要求高精度控制 再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现对废蚀刻液进行循环 再生使用，节约成本和能源，减少排污，提升环境效益、经济效益和 社会效益。 附图说明附图l为本专利技术的实施原理图。 具体实施例方式以下结合附图对本专利技术进一步说明参阅图l所示，本专利技术先是控制各离子浓度，然后再从废蚀刻液 中提铜，提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为铜离子:20-50g/L，氯离子150-170g/L， PH值:8.0-9.5，提铜后所得的余液经过回用再生使用，用于循环提铜操作。本专利技术中，电解槽阴阳极距在20-50mm之间，可调；电流密度 范围控制在100-1000A/ m2。再生液内各离子浓度控制范围在氯离 子160-175g/L， PH值控制在9.8-10.2。本专利技术的工作原理如下铜离子的氧化性在铜离子浓度为20-50g/L，氯离子浓度为 150-170g/L， PH值为8.0-9.5的条件下很微弱，即此时蚀刻液的蚀刻性能最弱，在这种情况下外加电场直接电解即可提出金属铜，将金 属铜从混合液中释出。提铜后的余液经过高精度控制回用再生液调配 装置中进行调配处理，以控制再生液内各离子浓度控制范围，如氯离子165g/L或170g/L， PH值控制在IO，从而能按照工艺要求高精度控制再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现废蚀刻液进行 循环再生使用。 实施例1:通过高精度控制各离子浓度装置将废蚀刻液内各离子浓度为铜离子25g/L，氯离子160g/L， PH值9，这时外加电场直接电解即可提出金属铜(即在电解槽中进行)，正价铜离子获得电子还原为 零价铜，从而实现提铜。提铜后的余液经过高精度控制回用再生液调 配装置中进行调配处理，以控制再生液内各离子浓度控制范围，如氯离子168g/L， PH值控制在lO.l，从而能按照工艺要求高精度控制 再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现废蚀刻液进行循环再 生使用。本专利技术的优势为工艺简捷，不用外加任何辅助试剂即可提取金属铜，较少耗材，设备制作成本低。权利要求1、一种高精度控制废蚀刻液内提铜的方法，先是控制各离子浓度，然后再从废蚀刻液中提铜，其特征在于提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为铜离子20-50g/L，氯离子150-170g/L，PH值8.0-9.5，且回用再生液，循环提铜。2、 根据权利要求1所述的高精度控制废蚀刻液内各离子浓度提 铜的方法，其特征在于电解槽阴阳极距在20-50mm之间，可调； 电流密度范围在100-1000A/m2。3、 根据权利要求1所述的高精度控制废蚀刻液内各离子浓度提铜的方法，其特征在于再生液内各离子浓度控制范围在氯离子160-175g/L， PH值控制在9.8-10.2。全文摘要本专利技术涉及印制板厂蚀刻废液的处理
，特指一种在废蚀刻液内提铜的方法。先是控制各离子浓度，然后再从废蚀刻液中提铜，提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为铜离子20-50g/L，氯离子150-170g/L，pH值8.0-9.5，且回用再生液，循环提铜。本专利技术通过高精度控制废蚀刻液内各离子浓度直接电解法提铜，处理方法简单，易操作，生产成本低，且能按照工艺要求高精度控制再生液内各离子浓度以达到生产工艺要求，实现对废蚀刻液进行循环再生使用，节约成本和能源，减少排污，提升环境效益、经济效益和社会效益。文档编号C02F1/461GK101498008SQ200910037528公开日2009年8月5日 申请日期2009年2月25日 优先权日2009年2月25日专利技术者鑫 刘, 丰 蹇 申请人:东莞市华联环保工程有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高精度控制废蚀刻液内提铜的方法，先是控制各离子浓度，然后再从废蚀刻液中提铜，其特征在于：提铜是在电解槽中进行，废蚀刻液内各离子浓度为：铜离子：２０－５０ｇ／Ｌ，氯离子：１５０－１７０ｇ／Ｌ，ＰＨ值：８．０－９．５，且回用再生液，循环提铜。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：蹇丰，刘鑫，
申请(专利权)人：东莞市华联环保工程有限公司，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]
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