一种高分辨率OLED显示屏的制作方法及高分辨率OLED显示屏技术

本发明专利技术公开了一种高分辨率OLED显示屏的制作方法，包括步骤：S101，预处理：对基板进行预处理；S102，蒸镀：通过蒸镀在基板上形成像素层，所述像素层由若干不同颜色的子像素层构成，对于至少一种颜色的子像素层，使用带图案的精密金属掩模板对基板至少蒸镀两次以在基板上形成该色子像素层，不同次蒸镀形成的该色子像素以交错的方式排列；S103，建立电极；S104，封装。本发明专利技术还公开一种高分辨率OLED显示屏，由前述的制作方法制得。本发明专利技术通过对基板进行至少两次蒸镀形成同色子像素层，在保证精密金属掩模板强度的基础上提高了高分辨率OLED显示屏制作的良品率。OLED显示屏制作的良品率。OLED显示屏制作的良品率。

【技术实现步骤摘要】
一种高分辨率OLED显示屏的制作方法及高分辨率OLED显示屏


[0001]本专利技术涉及一种显示屏制备
，具体涉及一种高分辨率OLED显示屏的制作方法及高分辨率OLED显示屏。

技术介绍

[0002]有机发光二极管OLED（Organic Light Emitting Diode）相对于液晶显示器具有重量巧、视角广、响应时间快、耐低温和发光效率高等优点，被视为下一代新型显示技术。目前，一般通过在真空环境中加热有机半导体材料，使材料受热升华，通过具有特殊子画素图案的金属掩模板在基板表面形成具有所设计形状的有机薄膜器件叠构，经历多种材料的连续沉积成膜，加上在叠构的两端各镀上阳极及阴极，即可形成具有多层薄膜的OLED发光器件结构。在上述工艺过程中需要使用精密金属掩模板（Fine Metal Mask，FMM）沉积OLED器件的发光层，精密金属掩模板的质量对最终OLED发光器件品质具有重要影响。
[0003]目前，OLED显示面板包括多个像素单元，每个像素单元包括三个不同颜色的子像素，通过控制不同颜色的子像素的发光程度以显示不同色彩的画面。为使像素单元的颜色分布较为均匀以保证画面显示品质，通常采用标准的RGB（红绿蓝）排列方式。由于红、绿、蓝三基色发光子像素的有机发光材料不同，在制作过程中，需要通过FMM上精密微小的开孔定义红、绿、蓝三种子像素的位置、尺寸和形状，其开孔排布密度越大显示面板的分辨率越高，但受制于技术和工艺条件，FMM的加工存在物理极限，增大开孔排布密度会降低FMM的强度。在FMM强度低的情况下，RGB像素蒸镀时的蒸镀位置精度也会降低，O
‑
LED显示面板的良品率也会降低。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种高分辨率OLED显示屏的制作方法，使用带图案的精密金属掩模板对基板至少蒸镀两次以在基板上形成同色子像素层，在保证精密金属掩模板强度的基础上，使像素的排布密度大幅提高，提高显示面板的分辨率，提高了高分辨率OLED显示屏的制作良品率。
[0005]根据本专利技术的一个方面，提供一种高分辨率OLED显示屏的制作方法，包括步骤：S101，预处理：对基板进行预处理，获得表面清洁的基板；S102，蒸镀：通过蒸镀在基板上形成像素层，所述像素层由若干不同颜色的子像素层构成，对于至少一种颜色的子像素层，使用带图案的精密金属掩模板对基板至少蒸镀两次以在基板上形成该色子像素层，不同次蒸镀形成的该色子像素以交错的方式排列；S103，建立电极，在基板上建立正负极电极；S104，封装：将基板封装在保护玻璃或其他材料中。
[0006]精密金属掩模板上精密微小的开孔定义红、绿、蓝三种子像素的位置、尺寸和形状，其开孔排布密度越大显示面板的分辨率越高，但开孔排布密度越大，开孔间距越小，开
孔之间的金属存留部分也越小，导致精密金属掩模板的强度降低，进而影响蒸镀时RGB子像素蒸镀位置的精度，导致蒸镀工序的良品率降低。此外，开孔密度大也会导致精密金属掩模板蚀刻等加工工艺难度提高。而在本专利技术中，申请人使用开孔排布密度小的精密金属掩模板生产高分辨率的显示屏，相较于相关技术，本专利技术在保证精密金属掩模板强度的同时也提高了显示屏的分辨率。具体地，使用带图案的精密金属掩模板对显示屏的基板至少蒸镀两次以在基板上形成同色子像素层，不同次蒸镀形成的同色子像素以交错的方式排列，即同色不同次蒸镀时发光材料的沉积位置不同，以增大同色子像素的排布密度，提高生产出的显示屏的分辨率，通过本专利技术的工艺提高了高分辨率OLED显示屏生产的良品率。
[0007]优选的，在步骤S102中，蒸镀两次以在基板上形成第一颜色子像素层；蒸镀两次以在基板上形成第二颜色子像素层；蒸镀两次以在基板上形成第三颜色子像素层；第一颜色子像素层、第二颜色子像素层和第三颜色子像素层共同构成像素层。第一颜色、第二颜色和第三颜色分别选取红色、绿色和蓝色中的一种，且三个子像素层的颜色不同。在使用精密金属掩模板蒸镀发光材料时，先蒸镀第一颜色蒸镀两次以上，形成完整的第一颜色子像素层后再进行第二颜色的蒸镀。同样，第二颜色和第三颜色也分别蒸镀两次以上。
[0008]优选地，在步骤S102中，蒸镀两次以在基板上形成第一颜色子像素层；蒸镀一次以在基板上形成第二颜色子像素层；蒸镀一次以在基板上形成第三颜色子像素层；第一颜色子像素层、第二颜色子像素层和第三颜色子像素层共同构成像素层。具体地，第一颜色为绿色，第二颜色和第三颜色分别为红色和蓝色中的一种。绿色子像素由于密度较高，蒸镀难度较大，所以需要至少蒸镀两次，而红色子像素和蓝色子像素由于可以密度较低，蒸镀难度较小，可以只蒸镀一次，即将规定每英寸所拥有的像素数量（PPI（Pixel Per Inch））要求的、不同蒸镀位置的开孔配置在同一精密金属掩模板上，只需使用该精密金属掩模板蒸镀一次。所以，不同颜色的子像素蒸镀次数有时不同。需要说明的是，根据产品的蒸镀难易程度，也可以将红色子像素和蓝色子像素同样的至少蒸镀两次。另外，各颜色子像素蒸镀的先后顺序并没有限制，蒸镀顺序并不影响本专利的实施。
[0009]优选的，步骤S102中，同色子像素进行两次以上蒸镀时，通过改变精密金属掩模板的位置以使不同次蒸镀形成的同色子像素交错排列。移动精密金属掩模板的位置使每次同色子像素在蒸镀时沉积到基板不同位置，相邻同色子像素之间的距离取决于精密金属掩模板的移动距离。此种蒸镀方式只需一种图案规格的精密金属掩模板即可完成，节约成本。
[0010]优选的，用于同色不同次蒸镀所使用的精密金属掩模板为同一规格的精密金属掩模板。使每次蒸镀后沉积在基板上的子像素排列成的图案都相同，保证同色子像素的一致性。
[0011]优选的，步骤S102中，同色子像素进行两次以上蒸镀时，通过各次蒸镀使用图案开孔位置不同的精密金属掩模板以使不同次蒸镀形成的同色子像素交错排列。每次蒸镀使用的精密金属掩模板图案开孔位置不同，以使蒸镀完成后沉积到基板上的同色子像素交错排列，即每次蒸镀使用的不同精密金属掩模板上的图案开孔交错排列。具体的，每张精密金属掩模板的图案一致，但每张精密金属掩模板上的图案位置相较而言均有偏移，此种蒸镀方式无需在每次蒸镀时移动精密金属掩模板，加工精度更高，提高了显示屏的良品率。
[0012]优选的，步骤S102中不同次蒸镀形成的同色子像素之间的距离在1~100μm。 同色子像素之间的距离根据显示屏所需的分辨率的大小进行调节，既可以生产高分辨率显示
屏，也可以生产低分辨率显示屏。
[0013]优选的，步骤S103之前还包括步骤S110，固定像素层：对蒸镀的子像素层进行固定，使其在基板上稳定。子像素层的稳定性关系到显示屏的质量，子像素层从基板上脱落将大大缩短显示屏的寿命。固定像素层使像素层不易从基板上脱落，从而延长显示屏的寿命。
[0014]优选的，所述精密金属掩模板，其质量百分比组成为Ni:31%~37%、Co：0~6%、Mn和C的总量＜1%，余本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高分辨率OLED显示屏的制作方法，其特征在于，包括步骤：S101，预处理：对基板进行预处理，获得表面清洁的基板；S102，蒸镀：通过蒸镀在基板上形成像素层，所述像素层由若干不同颜色的子像素层构成，对于至少一种颜色的子像素层，使用带图案的精密金属掩模板对基板至少蒸镀两次以在基板上形成该色子像素层，不同次蒸镀形成的该色子像素以交错的方式排列；S103，建立电极，在基板上建立正负极电极；S104，封装：将基板封装在保护玻璃或其他材料中。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在步骤S102中，蒸镀两次以在基板上形成第一颜色子像素层；蒸镀两次以在基板上形成第二颜色子像素层；蒸镀两次以在基板上形成第三颜色子像素层；第一颜色子像素层、第二颜色子像素层和第三颜色子像素层共同构成像素层。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在步骤S102中，蒸镀两次以在基板上形成第一颜色子像素层；蒸镀一次以在基板上形成第二颜色子像素层；蒸镀一次以在基板上形成第三颜色子像素层；第一颜色子像素层、第二颜色子像素层和第三颜色子像素层共同构成像素层。4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，步骤S102中，同色子像素进行两次以上蒸镀时...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈鼎国，
申请(专利权)人：寰采星科技宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：