一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，属于靶材生产技术领域，为了解决现有技术大多通过机器夹持于盘体的中央，若工作人员手持盘体，不便于找准工件的中间位置，进而在抛光的过程中，抛光面易出现偏移，影响靶材的品质的问题；本发明专利技术通过锁定定位顶盖和中心推压件之间的位置关系，置物转盘处于转动状态，进而使靶材处于旋转状态，抛光组件的一端与靶材的边缘进行抛光，以完成靶材的表面处理；本发明专利技术不仅可使中心推压件顺利在衔接杆的下端进行活动，且可保持定位顶盖的位置稳定，在不影响中心推压件的活动状态下，进一步提升转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用。转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用。转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用。
【技术实现步骤摘要】
一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备
[0001]本专利技术涉及靶材生产
，特别涉及一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备。
技术介绍
[0002]ITO旋转靶材是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结形成的黑灰色陶瓷半导体，ITO薄膜是利用ITO靶材作为原材料，通过磁控溅射把ITO靶气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上，ITO靶材主要是在平板显示器中得到广泛的运用，靶材主用是在半导体中运用广泛。
[0003]ITO旋转靶材在制备的过程中，针对烧结完成的ITO旋转靶胚，根据加工工艺的需求，对靶材的表面进行抛光加工，ITO旋转靶材呈盘状、柱状、片状及块状，进一步考虑，现有技术大多通过机器对ITO旋转靶材进行直接夹持，再通过抛光组件与其对接，但因大批量的ITO旋转靶材的形状存在差异，不便于找准工件的中间位置，进而在抛光的过程中，抛光面易出现偏移，影响靶材的品质。
[0004]针对以上问题，对现有装置进行了改进，提出了一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，解决了
技术介绍
中现有技术大多通过机器夹持于盘体的中央，若工作人员手持盘体，不便于找准工件的中间位置，进而在抛光的过程中，抛光面易出现偏移，影响靶材的品质的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，包括定位底盘以及安装在定位底盘上端的定位顶盖，定位底盘的侧表面设置有拼接侧杆，拼接侧杆设置有四组，拼接侧杆的上表面安装有中心推压件，定位底盘包括置地盘体和设置在置地盘体上表面的置物转盘，置地盘体的上表面开设有转动敞槽，转动敞槽与置物转盘相匹配，转动敞槽内底面的中央设置有驱动轴杆，置物转盘通过驱动轴杆与转动敞槽的内底面相连接，拼接侧杆包括安装在置地盘体侧表面的侧板体和开设在侧板体上表面的滑动长槽，中心推压件与滑动长槽相对接，定位顶盖包括固定环柄和设置在固定环柄内侧的转动内盘，转动内盘的中央设置有挤压组件，固定环柄和转动内盘与置地盘体相匹配，固定环柄的侧表面安装有衔接杆，衔接杆设置有四组，且衔接杆与侧板体相匹配；中心推压件包括设置在滑动长槽内侧的立式滑移调解中柱和开设在立式滑移调解中柱上表面的锁合槽，立式滑移调解中柱的外侧安装有拼接套，拼接套的内侧开设有匹配空槽，匹配空槽与立式滑移调解中柱的外尺寸相匹配，拼接套的侧表面开设有显露敞槽，立式滑移调解中柱的侧表面安装有锁合插杆；立式滑移调解中柱的侧表面开设有侧开安装槽，侧开安装槽与显露敞槽相对应，侧开安装槽的内侧设置有匹配滑块，匹配滑块与侧开安装槽相匹配，匹配滑块的一侧表面安装有驱动伸缩杆，匹配滑块的相对侧表面设置有抛光组件。
[0007]进一步地，挤压组件包括设置在转动内盘上表面的转动柄块和安装在转动柄块下表面的螺纹杆。
[0008]进一步地，螺纹杆与转动内盘的中央啮合连接，螺纹杆贯穿转动内盘设置有施力匹配盘，施力匹配盘安装在转动内盘的下端，施力匹配盘的下表面安装有贴合防护片。
[0009]进一步地，驱动伸缩杆的一端与侧开安装槽的内底面相连接，匹配滑块的两侧均安装有第一限位滑移件，匹配滑块通过第一限位滑移件与侧开安装槽的两侧表面相连接，抛光组件的一端与显露敞槽相对应。
[0010]进一步地，转动内盘的侧表面安装有对接柄块，固定环柄的内侧表面开设有对接环形槽，对接柄块与对接环形槽相匹配。
[0011]进一步地，对接柄块的侧端开设有侧开暗槽，侧开暗槽的内部设置有套接柱，套接柱的表面套接有转动滚柱，转动滚柱与对接环形槽的内底面相连接。
[0012]进一步地，侧板体的内部开设有调节长槽，调节长槽设置在滑动长槽的下端，调节长槽的内部安装有驱动丝杆，驱动丝杆的表面套接有套接滑移柱。
[0013]进一步地，套接滑移柱的上表面安装有衔接柄块，衔接柄块的顶端与立式滑移调解中柱的下表面相连接。
[0014]进一步地，衔接杆的下表面开设有滑移开槽，滑移开槽的两侧端均开设有侧开防脱槽，滑移开槽的内部安装有滑移块，滑移块的两端均设置有插接侧杆，插接侧杆与侧开防脱槽相连接。
[0015]进一步地，滑移块的上表面安装有第二限位滑移件，滑移块通过第二限位滑移件与滑移开槽的内表面相连接，滑移块的下表面设置有导向插杆，导向插杆的一侧表面开设有侧开锁槽，锁合插杆的一端穿过立式滑移调解中柱与侧开锁槽相连接。
[0016]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1.本专利技术提出的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，四组中心推压件沿着滑动长槽逐渐向中心位置进行对移，以此调整靶材的放置位置，便于找准中心点位，再将定位顶盖整体盖于靶材的上端，并使衔接杆与侧板体相对应，导向插杆插入锁合槽，并使锁合插杆插入侧开锁槽中，以锁定定位顶盖和中心推压件之间的位置关系，置物转盘处于转动状态，进而使靶材处于旋转状态，抛光组件的一端与靶材的边缘进行抛光，以完成靶材的表面处理。
[0017]2.本专利技术提出的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，一方面，利用转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用，转动滚柱在对接环形槽的内表面进行滚动，以提升转动内盘和固定环柄之间连接的顺畅度，以便于靶材的正常旋转活动，另一方面，不仅可使中心推压件顺利在衔接杆的下端进行活动，且可保持定位顶盖的位置稳定，在不影响中心推压件的活动状态下，进一步提升转动内盘和置物转盘对靶材的上下定位作用。
附图说明
[0018]图1为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备整体结构示意图；图2为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备定位底盘结构示意图；图3为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备定位顶盖结构示意图；图4为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备中心推压件结构示意
图；图5为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备挤压组件内部平面结构示意图；图6为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备立式滑移调解中柱内部平面结构示意图；图7为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备转动内盘内部平面结构示意图；图8为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备侧板体内部平面结构示意图；图9为本专利技术应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备衔接杆下端内部平面结构示意图。
[0019]图中：1、定位底盘；11、置地盘体；12、置物转盘；13、转动敞槽；14、驱动轴杆；2、定位顶盖；21、固定环柄；22、转动内盘；221、对接柄块；222、对接环形槽；223、侧开暗槽；224、套接柱；225、转动滚柱；23、挤压组件；231、转动柄块；232、螺纹杆；233、施力匹配盘；234、贴合防护片；24、衔接杆；241、滑移开槽；242、侧开防脱槽；243、滑移块；244、第二限位滑移件；245、插接侧杆；246、导向插杆；247、本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，包括定位底盘（1）以及安装在定位底盘（1）上端的定位顶盖（2），其特征在于：定位底盘（1）的侧表面设置有拼接侧杆（3），拼接侧杆（3）设置有四组，拼接侧杆（3）的上表面安装有中心推压件（4），定位底盘（1）包括置地盘体（11）和设置在置地盘体（11）上表面的置物转盘（12），置地盘体（11）的上表面开设有转动敞槽（13），转动敞槽（13）与置物转盘（12）相匹配，转动敞槽（13）内底面的中央设置有驱动轴杆（14），置物转盘（12）通过驱动轴杆（14）与转动敞槽（13）的内底面相连接，拼接侧杆（3）包括安装在置地盘体（11）侧表面的侧板体（31）和开设在侧板体（31）上表面的滑动长槽（32），中心推压件（4）与滑动长槽（32）相对接，定位顶盖（2）包括固定环柄（21）和设置在固定环柄（21）内侧的转动内盘（22），转动内盘（22）的中央设置有挤压组件（23），固定环柄（21）和转动内盘（22）与置地盘体（11）相匹配，固定环柄（21）的侧表面安装有衔接杆（24），衔接杆（24）设置有四组，且衔接杆（24）与侧板体（31）相匹配；中心推压件（4）包括设置在滑动长槽（32）内侧的立式滑移调解中柱（41）和开设在立式滑移调解中柱（41）上表面的锁合槽（42），立式滑移调解中柱（41）的外侧安装有拼接套（43），拼接套（43）的内侧开设有匹配空槽（44），匹配空槽（44）与立式滑移调解中柱（41）的外尺寸相匹配，拼接套（43）的侧表面开设有显露敞槽（45），立式滑移调解中柱（41）的侧表面安装有锁合插杆（46）；立式滑移调解中柱（41）的侧表面开设有侧开安装槽（411），侧开安装槽（411）与显露敞槽（45）相对应，侧开安装槽（411）的内侧设置有匹配滑块（412），匹配滑块（412）与侧开安装槽（411）相匹配，匹配滑块（412）的一侧表面安装有驱动伸缩杆（413），匹配滑块（412）的相对侧表面设置有抛光组件（415）。2.如权利要求1所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：挤压组件（23）包括设置在转动内盘（22）上表面的转动柄块（231）和安装在转动柄块（231）下表面的螺纹杆（232）。3.如权利要求2所述的一种应用于靶材生产的ITO旋转靶材表面制备设备，其特征在于：螺纹杆（232）与转动内盘（22）的中央啮合连接，螺纹杆（232）贯穿转动内盘（22）设置有施力匹配盘（233），施力匹配盘（233）安装在转动内盘（22）的下端，施力匹...
【专利技术属性】
技术研发人员：石煜，王志强，曾墩风，盛明亮，陶成，
申请(专利权)人：芜湖映日科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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