多蒸发源装置及真空系统制造方法及图纸

本公开提供了一种多蒸发源装置及真空系统，多蒸发源装置包括：真空法兰；以及多个蒸发源组件，设置在真空法兰上，多个蒸发源组件包括：第一蒸发源组件，包括：第一坩埚，用于盛放第一蒸发源材料；第一加热装置，与第一坩埚热耦合，用于加热第一坩埚中盛放的第一蒸发源材料；以及第二蒸发源组件，包括：第二坩埚，用于盛放第二蒸发源材料；第二加热装置，与第二坩埚热耦合，用于加热第二坩埚中盛放的第二蒸发源材料。源材料。源材料。

【技术实现步骤摘要】
多蒸发源装置及真空系统


[0001]本公开涉及真空蒸发镀膜技术，特别涉及一种多蒸发源装置及真空系统。

技术介绍

[0002]真空蒸镀法是目前应用较为广泛的一种镀膜方法，是真空内加热坩埚，使坩埚内的材料升华从而实现蒸发镀膜的技术。常见蒸发源一般包括单个坩埚和与坩埚配套的加热装置。如果需要更换材料一般需要更换蒸发源，或同时通过多个窗口安装多个蒸发源，拆卸不便。另外，现有蒸发源的坩埚容量较小，能够容纳的蒸镀材料有限，无法满足需要大量蒸镀材料的镀膜工艺的需求。

技术实现思路

[0003]本公开提供了一种多蒸发源装置，其特征在于，包括：真空法兰；以及多个蒸发源组件，设置在真空法兰上，多个蒸发源组件包括：第一蒸发源组件，包括：第一坩埚，用于盛放第一蒸发源材料；第一加热装置，与第一坩埚热耦合，用于加热第一坩埚中盛放的第一蒸发源材料；以及第二蒸发源组件，包括：第二坩埚，用于盛放第二蒸发源材料；第二加热装置，与第二坩埚热耦合，用于加热第二坩埚中盛放的第二蒸发源材料。
[0004]在一些实施例中，多蒸发源装置还包括：快门组件，用于遮挡多个蒸发源本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多蒸发源装置，其特征在于，包括：真空法兰；以及多个蒸发源组件，设置在所述真空法兰上，所述多个蒸发源组件包括：第一蒸发源组件，包括：第一坩埚，用于盛放第一蒸发源材料；第一加热装置，与所述第一坩埚热耦合，用于加热所述第一坩埚中盛放的所述第一蒸发源材料；以及第二蒸发源组件，包括：第二坩埚，用于盛放第二蒸发源材料；第二加热装置，与所述第二坩埚热耦合，用于加热所述第二坩埚中盛放的所述第二蒸发源材料。2.根据权利要求1所述的多蒸发源装置，其特征在于，还包括：快门组件，用于遮挡多个蒸发源组件中的一个或多个。3.根据权利要求2所述的多蒸发源装置，其特征在于，所述快门组件包括：挡板，包括至少一个叶片；以及驱动装置，与所述挡板连接，用于驱动挡板转动，以遮挡多个蒸发源组件中的一个或多个。4.根据权利要求3所述的多蒸发源装置，其特征在于，所述驱动装置包括：传动杆，与所述挡板连接，以通过转动驱动所述挡板转动；磁驱动装置，与所述真空法兰真空密封连接，所述磁驱动装置的输出端与所述传动杆连接用于驱动所述传动杆转动；或者所述驱动装置包括：传动杆，与所述挡板连接，以通过转动驱动所述挡板转动；密封轴承，与所述真空法兰真空密封连接；驱动电机，所述驱动电机的输出端通过所述密封轴承与所述传动杆连接，用于驱动所述传动杆转动。5.根据权利要求1
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4中任一项所述的多蒸发源装置，其特征在于，所述第一加热装置包括：第一加热片，围绕所述第一坩埚且沿所述第一坩埚的侧壁外围蜿蜒延伸；和/或所述第二加热装置包括：第二加热片，围绕所述第二坩埚且沿所述第二坩埚的侧壁外围蜿蜒延伸。6.根据权利要求1
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4中任一项所述的多蒸发源装置，其特征在于，还包括：第一水冷组件，与所述第一坩埚热...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢斌平，郭维，顾杰，张朱峰，
申请(专利权)人：费勉仪器科技南京有限公司，
类型：新型
国别省市：