粉末涂敷装置制造方法及图纸

本技术涉及一种粉末涂敷装置。本技术的粉末涂敷装置包括：反应器，在旋转的同时提高容纳在其内部的粉末的反应性；旋转单元，具有滚筒，上述滚筒位于上述反应器的下方且在与上述反应器直接接触的状态下进行旋转以使上述反应器旋转；以及腔室单元，至少部分地容纳上述反应器和上述旋转单元，并创造用于上述反应器内部粉末沉积反应的预定环境，其中，上述腔室单元包括可开关盖，使得上述反应器被更换为新的反应器。根据本技术，本身不存在紧固部位，以使机械臂将用于批量生产的反应器与腔室分开并移送到托架上的完全自动化变得容易，从而减少到下一工序的时间，以能够提高产品的收率。以能够提高产品的收率。以能够提高产品的收率。

【技术实现步骤摘要】
粉末涂敷装置


[0001]本专利技术涉及一种粉末涂敷装置，更具体而言，涉及一种用于旋转方式的薄膜沉积工艺的粉末涂敷装置。

技术介绍

[0002]随着粉末相关市场的扩大，正在使用用于在大量粉末上形成高质量薄膜的各种方法。
[0003]例如，涂有薄膜的粉末可以改善电池的电化学/机械特性，因此作为如负极材料/正极材料活性物质和CMP抛光用浆料等可以引领尖端半导体/电池市场的技术而受到关注。
[0004]为了涂敷这种纳米级薄膜，可以应用化学气相沉积(CVD：Chemical Vapor Deposition)工艺、原子层沉积(ALD：Atomic Layer Deposition)工艺等。其中，粉末原子层沉积(P
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ALD：Powder
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Atomic Layer Deposition)法是在旋转的反应器内部装入粉末(基础物质)并在其表面上均匀沉积薄膜的方法。
[0005]然而，以往使用的旋转方式的薄膜沉积工艺存在几个问题。现有反应器由于内部容积小，每道工序可装入的粉末量相对较少，实际批量生产本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种粉末涂敷装置，其特征在于，包括：反应器，在旋转的同时提高容纳在其内部的粉末的反应性；旋转单元，具有滚筒，上述滚筒位于上述反应器的下方且在与上述反应器直接接触的状态下进行旋转以使上述反应器旋转；以及腔室单元，至少部分地容纳上述反应器和上述旋转单元，并创造用于上述反应器内部粉末沉积反应的预定环境，其中，上述腔室单元包括可开关盖，使得上述反应器被更换为新的反应器。2.根据权利要求1所述的粉末涂敷装置，其特征在于，上述腔室单元还包括滑动驱动模块，上述滑动驱动模块用于使上述盖从关闭位置滑动移动到开放位置。3.根据权利要求2所述的粉末涂敷装置，其特征在于，上述滑动驱动模块包括：移动块，沿着在一个方向上延伸的移送线移动；以及气缸，设置在上述移动块上，并将上述盖向上推动并开放。4.根据权利要求3所述的粉末涂敷装置，其特征在于，上述移动块包括：多个块，放置在上述移送线上；主体，提供用于安装上述多个块的空间；以及辅助引导件，结合到上述主体以辅助在滑动移动过程中的对准。5.根据权利要求3所述的粉末涂敷装置，其特征在于，上述腔室单元还包括上加热器，上述上加热器用于从上部加热位于上述腔室单元内部的上述反应器，上述上加热器处于与上述盖结合的状态，并在上述气缸向上推动上述盖时一起被向上推动，使得上述反应器的上部在上述盖的开放位置通过上述腔室单元的上侧完全暴露。6.根据权利要求5所述的粉末涂敷装置，其特征在于，上述上加热器通过紧固件与上述盖结合。7.根据权利要求5所述的粉末涂敷装置，其特征在于，还包括：机械臂，被设置为能够抓握上述反应器；以及托架，其中，上述机械臂执行驱动，以抓握暴露的上述反应器并...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴太柱，
申请(专利权)人：汉阳大学校ERICA产学协力团，
类型：发明
国别省市：