【技术实现步骤摘要】
一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法
[0001]本专利技术涉及硒氧化铋薄膜制备领域,更具体的说是一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法。
技术介绍
[0002]寻找拥有优异电子性能的新材料,对于半导体行业的发展和繁荣是至关重要的,尤其是那些具有高载流子迁移率、适度的能隙和优异环境稳定性的材料。
[0003]最近,新型层状半导体材料Bi2O2Se作为其中一种候选者,展现出了很强的竞争力;基于Bi2O2Se的场效应晶体管表现出优异的半导体器件性能,包括高载流子迁移率和大于106的卓越电流开关比,高载流子迁移率为1.9K时约28,900cm2/V
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s,室温下约450cm2/V
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s,同时Bi2O2Se的中等能隙,约0.8eV,也使其方便于室温操作。故而,得益于这些出色性质,Bi2O2Se作为很有前景的研究平台而备受关注;
[0004]例如现有技术中的一种Bi2O2Se的制备方法,具体步骤如下:以Bi2O3、Bi和Se粉末作为原料,在真空状态进行反应,反应结束后得到Bi2O2Se晶体,该方法 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法,其特征在于:该方法使用水热法制备二维Bi2O2Se。2.根据权利要求1所述的一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法,其特征在于:水热法制备二维Bi2O2Se具体包括以下步骤:步骤一:将铋盐溶于加入氢氧化钠的水溶液中,加入硝酸钾和硝酸锂形成溶液A;步骤二:在氢氧化钠溶液中加入水合肼,将硒粉溶于其中后形成溶液B;步骤三:溶液A和溶液B混合后转移至聚四氟乙烯内衬中;步骤四:将衬底放入装有溶液A和溶液B混合溶液的内衬中,装入反应釜;步骤五:将反应釜放入烘箱,调节温度与时间进行反应;步骤六:反应完成后,取出衬底,洗涤和吹干。3.根据权利要求2所述的一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法,其特征在于:所述中铋盐为五水合硝酸铋、乙酸铋和柠檬酸铋的中的一种或者几种,溶液A中铋盐的物质的量浓度为1
‑
2mM,氢氧化钠的质量为0.1
‑
5g。4.根据权利要求2所述的一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法,其特征在于:所述溶液A体积5
‑
20ml,硝酸钾和硝酸锂总质量为10
‑
20g,硝酸钾和硝酸锂的比例为3
‑
1:1
‑
1。5.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:张甲,任宣羽,葛传洋,李宇阳,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:
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