一种结构陶瓷的抛光方法技术

本发明专利技术公开一种结构陶瓷的抛光方法，首先将多种粒径的氧化铝磨球按一定重量比混合，置于第一罐状滚筒内；接着加入研磨液和钻石粉，最后将结构陶瓷放入第一罐状滚筒内，转动第一罐状滚筒，对结构陶瓷进行粗抛；粗抛后过滤出氧化铝磨球放入第二罐状滚筒内，再加入粗抛中最大粒径的氧化铝磨球以及研磨液和金刚砂进行中抛；中抛后过滤出氧化铝磨球放入第三罐状滚筒内，加入研磨液和氧化锆粉进行细抛；细抛后过滤出氧化铝磨球放入第四罐状滚筒内，加入细抛中最大粒径的氧化铝磨球以及研磨液和氧化锆粉进行精抛；精抛后进行扫光研磨和清洗。本发明专利技术重复使用氧化铝磨球，在保证抛光效果不下降的情况下，降低用料成本。降低用料成本。降低用料成本。

【技术实现步骤摘要】
一种结构陶瓷的抛光方法


[0001]本专利技术涉及抛光工艺
，尤其涉及一种结构陶瓷的抛光方法。

技术介绍

[0002]结构陶瓷属于一种缝隙均匀的陶瓷，具有优越的强度、硬度、绝缘性、热传导、耐高温、耐氧化、耐腐蚀、耐磨耗、高温强度等特点，结构陶瓷的加工方法中，抛光是重要工序，抛光通常包括粗抛、中抛、细抛和精抛等步骤，现有技术中，无论是粗抛、中抛、细抛还是精抛的步骤中，都是加入特定的单一粒径的磨球，使磨球与结构陶瓷表面撞击、摩擦接触，达到抛光目的，但是，磨球使用一段时间后，其粒径会逐渐减小，无法满足特定的粒径需求，特别是传统的细抛或精抛工艺中，需要大量单一粒径高达12mm的磨球，若磨球磨损导致粒径变小，则需要丢弃，更换新的磨球，因此产生高额的成本，如何通过结构陶瓷抛光方法的改进，在保证抛光效果不下降的情况下，降低用料成本是亟需解决的技术问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种结构陶瓷的抛光方法，在保证抛光效果不下降的情况下，降低用料成本。
[0004]为达成上述目的，本专利技术提供一种结构陶瓷的抛光方法，包括以下步骤：
[0005]步骤1：首先将多种粒径的氧化铝磨球按一定重量比混合，置于第一罐状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入钻石粉，最后将结构陶瓷放入第一罐状滚筒内，转动第一罐状滚筒，对结构陶瓷进行粗抛；
[0006]步骤2：将粗抛后的第一罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，所述氧化铝磨球的粒径对应减小，再按一定比例加入步骤1中最大粒径的氧化铝磨球进行混合，置于第二灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入金刚砂，最后将粗抛后的结构陶瓷放入第二罐状滚筒内，转动第二罐状滚筒，对结构陶瓷进行中抛；
[0007]步骤3：将中抛后的第二罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，将过滤后的所有氧化铝磨球置于第三灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入氧化锆粉，最后将中抛后的结构陶瓷放入第三罐状滚筒内，转动第三罐状滚筒，对结构陶瓷进行细抛；
[0008]步骤4：将细抛后的第三罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，再按一定比例加入步骤3中最大粒径的氧化铝磨球进行混合，置于第四灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液平齐于磨球面，再加入氧化锆粉，最后将细抛后的结构陶瓷放入第四罐状滚筒内，转动第四罐状滚筒，对结构陶瓷进行精抛；
[0009]步骤5：将精抛后的结构陶瓷使用蜡固定在研磨治具盘上，持续滴入二氧化硅研磨液，依次进行粗扫光研磨、中扫光研磨、细扫光研磨；
[0010]步骤6：使用超声波清洗机将附着于结构陶瓷表面的蜡洗净，再用酒精擦洗后，得
到抛光完成的结构陶瓷。
[0011]进一步，步骤1中的氧化铝磨球包括20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球，并按1.4～1.6:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:0.7～0.8的重量比混合；
[0012]步骤2中，所述第一罐状滚筒过滤出重量比为1.4～1.6:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球，再加入一定量的20号氧化铝磨球进行混合，使第二罐状滚筒内的20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1；
[0013]步骤3中，所述第二罐状滚筒过滤出重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球；
[0014]步骤4中，所述第三罐状滚筒过滤出重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6的12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球，再加入一定量的15号氧化铝磨球进行混合，使第四罐状滚筒内的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球按照的重量比为0.7～0.8:0.9～1.1:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6。
[0015]进一步，所述20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球的粒径比为20:15:12:10:8:6:5:3。
[0016]进一步，所述20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球的粒径依次为20mm、15mm、12mm、10mm、8mm、6mm、5mm、3mm。
[0017]进一步，步骤1中加入的钻石粉的粒径为140～160目，所述钻石粉与最大粒径的氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:3000～3600；步骤2中加入的金刚砂粒的径为140～160目，所述金刚砂与最大粒径的氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:600～730；步骤3和步骤4中加入的氧化锆粉的粒径为1400～1600目，所述氧化锆粉与最大粒径的氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:180～220。
[0018]进一步，所述步骤5中，将精抛后的的结构陶瓷使用蜡固定在研磨治具上盘上后，使用粗磨砂皮，压重28～32kg，以35～45转/分钟速度，持续滴入二氧化硅研磨液，进行粗扫光研磨；再使用中磨砂皮，压重28～32kg，以35～45转/分钟速度，持续滴入二氧化硅研磨液，进行中扫光研磨；最后使用羊毛磨皮，压重23～27kg，以35～45转/分钟速度，持续滴入二氧化硅研磨液，进行细扫光研磨。
[0019]进一步，用于粗扫光研磨的二氧化硅研磨液是：二氧化硅配纯净水按1:200的重量比混合作为基础磨液，再添加粒径为850μm的铝粉，所述铝粉按3g/公斤磨液的配比加入，以及添加粒径为850μm的钻石粉，所述钻石粉按5g/公斤磨液的配比加入，最后用搅拌机搅拌充分以及搅拌均匀后用于扫光机的研磨滴液。
[0020]进一步，用于中扫光的二氧化硅研磨液是：二氧化硅配纯净水1:200的重量比混合
作为基础磨液，再添加粒径为6000μm的铝粉，所述铝粉按3g/公斤磨液的配比加入，以及添加粒径为6000μm的钻石粉，所述钻石粉按5g/公斤磨液的配比加入，最后用搅拌机搅拌充分以及搅拌均匀后用于扫光机的研磨滴液。
[0021]进一步，用于细扫光研磨的二氧化硅研磨液是：二氧化硅配纯净水按1:200的重量比混合作为基础磨液，再添加粒径本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种结构陶瓷的抛光方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1：首先将多种粒径的氧化铝磨球按一定重量比混合，置于第一罐状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入钻石粉，最后将结构陶瓷放入第一罐状滚筒内，转动第一罐状滚筒，对结构陶瓷进行粗抛；步骤2：将粗抛后的第一罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，所述氧化铝磨球的粒径对应减小，再按一定比例加入步骤1中最大粒径的氧化铝磨球进行混合，置于第二灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入金刚砂，最后将粗抛后的结构陶瓷放入第二罐状滚筒内，转动第二罐状滚筒，对结构陶瓷进行中抛；步骤3：将中抛后的第二罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，将过滤后的所有氧化铝磨球置于第三灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液没过磨球面，再加入氧化锆粉，最后将中抛后的结构陶瓷放入第三罐状滚筒内，转动第三罐状滚筒，对结构陶瓷进行细抛；步骤4：将细抛后的第三罐状滚筒进行过滤，取出结构陶瓷并过滤出一定比例的氧化铝磨球，再按一定比例加入步骤3中最大粒径的氧化铝磨球进行混合，置于第四灌状滚筒内；接着加入研磨液，使研磨液平齐于磨球面，再加入氧化锆粉，最后将细抛后的结构陶瓷放入第四罐状滚筒内，转动第四罐状滚筒，对结构陶瓷进行精抛；步骤5：将精抛后的结构陶瓷使用蜡固定在研磨治具盘上，持续滴入二氧化硅研磨液，依次进行粗扫光研磨、中扫光研磨、细扫光研磨；步骤6：使用超声波清洗机将附着于结构陶瓷表面的蜡洗净，再用酒精擦洗后，得到抛光完成的结构陶瓷。2.如权利要求1所述的一种结构陶瓷的抛光方法，其特征在于：步骤1中的氧化铝磨球包括20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球，并按1.4～1.6:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:0.7～0.8的重量比混合；步骤2中，所述第一罐状滚筒过滤出重量比为1.4～1.6:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球，再加入一定量的20号氧化铝磨球进行混合，使第二罐状滚筒内的20号氧化铝磨球、15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝磨球的重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1；步骤3中，所述第二罐状滚筒过滤出重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:1.1～1.3:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6的15号氧化铝磨球、12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球；步骤4中，所述第三罐状滚筒过滤出重量比为0.9～1.1:1.4～1.6:0.9～1.1:0.9～1.1:1.4～1.6:1.4～1.6的12号氧化铝磨球、10号氧化铝磨球、8号氧化铝磨球、6号氧化铝、5号氧化铝磨球、3号氧化铝磨球，再加入一定量的15号氧化铝磨球进行混合，使第四罐状滚筒内的15号氧化铝...

【专利技术属性】
技术研发人员：王春堂，吴美和，
申请(专利权)人：泰斗高科新材料厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：