超声波水喷射装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供超声波水喷射装置，其抑制空气积存于超声波振动板的凹球面。从超声波水喷射装置的环形提供口向第二室内喷射的清洗水沿着超声波振动板的凹球面从凹球面的外周朝向中心流动而提供至第二室。因此，即使在空气积存于朝下的凹球面的情况下，也能够通过从凹球面的外周朝向中心流动的清洗水的水流将该空气从凹球面去除，并与清洗水一起从喷射口排出。因此，能够抑制空气积存于超声波振动板的凹球面。凹球面。凹球面。

【技术实现步骤摘要】
超声波水喷射装置


[0001]本专利技术涉及超声波水喷射装置。

技术介绍

[0002]专利文献1、2所公开的对被清洗物进行清洗的超声波水喷射装置具有：存水部，其在下部具有喷射口，供水临时积存；以及穹顶型的超声波振动板，其与该喷射口对置而配置，具有对积存于存水部的水传播超声波振动的凹球面。从喷射口喷射通过从该凹球面对存水部的水传播超声波振动而生成的超声波水，对被清洗物的正面进行清洗。
[0003]专利文献1：日本特开2020
‑
000995号公报
[0004]专利文献2：日本特开2020
‑
044460号公报
[0005]超声波水喷射装置配置于工作台的上方，从超声波水喷射装置朝向工作台所保持的被清洗物喷射超声波水。在该情况下，在穹顶状的超声波振动板中，与喷射口对置配置的凹球面朝下。因此，有时空气积存于凹球面。
[0006]该空气会吸收超声波振动，因此有时难以对临时积存于存水部的水传递超声波振动。因此，有时从喷射口喷射的水未被传播超声波振动而导致清洗力降低。

技术实现思路

[0007]由此，本专利技术的目的在于提供超声波水喷射装置，通过抑制空气积存于超声波振动板的凹球面而能够从喷射口喷射充分传播了超声波振动的超声波水。
[0008]根据本专利技术，提供超声波水喷射装置，其喷射传播超声波振动而得的超声波水，其中，该超声波水喷射装置具有：筒状的存水部，其临时积存从水提供源提供的水；喷射口，其从该存水部的下部喷射该水；穹顶状的超声波振动板，其配置于该存水部的上部，与该喷射口对置，该超声波振动板的下侧成为凹球面；以及水提供部，其具有提供口，该提供口从该超声波振动板的外周朝向中心沿着该凹球面而向该存水部提供水，从该提供口向该存水部提供比从该喷射口喷出的水的量多的量的水，该水沿着该凹球面从该凹球面的外周朝向中心流动，并积存于该存水部，并且，从该喷射口喷射通过对该水传播超声波振动而得的超声波水。
[0009]优选该提供口是在该存水部中呈环状开口的环形提供口，从该环形提供口向该存水部提供的水沿着该凹球面从该凹球面的整个外周朝向中心流动，并积存于该存水部，并且，使该水从该凹球面的中心朝向该喷射口流下，从该喷射口喷射通过对该水传播超声波振动而得的超声波水。
[0010]在本超声波水喷射装置中，从水提供部的提供口向存水部内提供的水沿着超声波振动板的凹球面从凹球面的外周朝向中心流动。因此，即使在空气积存于朝下的凹球面的情况下，也能够通过从凹球面的外周朝向中心而流动的水将该空气从凹球面去除，并与水一起从喷射口排出。
[0011]这样，在本超声波水喷射装置中，能够抑制空气积存于超声波振动板的凹球面。因
此，通过凹球面能够良好地对积存于存水部的水传递超声波振动。因此，能够从喷射口喷射充分传播了超声波振动的超声波水。
附图说明
[0012]图1是示出具有超声波水喷射装置的旋转清洗机构的局部剖视侧视图。
[0013]图2是示出超声波水喷射装置的结构的剖视图。
[0014]图3是从上方示出凹球面及其附近的平面图。
[0015]图4是示出超声波水喷射装置的其他结构的剖视图。
[0016]图5是从上方示出凹球面及其附近的平面图。
[0017]图6是从上方示出凹球面及其附近的平面图。
[0018]标号说明
[0019]1：旋转清洗机构；7：控制器；10：旋转工作台；11：多孔部件；12：保持面；13：框体；14：旋转工作台旋转机构；16：水提供管；17：旋转电动机；18：旋转轴；19：水提供源；20：超声波水喷射装置；21：壳体；22：筒状部；23：喷嘴部；24：顶板；25：固定件；30：超声波振动板；31：第1电极板；32：第2电极板；33：凹球面；34：凸肩部；39：高频电源；100：晶片；101：上表面；102：下表面；221：第一室；222：第二室；231：台座部；232：第1弹性部件；233：固定部件；234：第2弹性部件；241：喷射口；250：水提供部；251：连接部；252：环形水路；253：环形提供口；254：圆弧状水路；255：圆弧状提供口；331：中心部；332：端部；600：超声波振动。
具体实施方式
[0020]图1所示的旋转清洗机构1具有：旋转工作台10，其对作为被清洗物的晶片100进行保持；超声波水喷射装置20，其对旋转工作台10所保持的晶片100喷射清洗水；以及控制器7，其控制旋转清洗机构1的动作。
[0021]晶片100例如是圆形的半导体晶片，在图1中朝向上侧的晶片100的上表面101作为被清洗面。图1中朝向下侧的晶片100的下表面102例如通过粘贴未图示的保护带而被保护。
[0022]旋转工作台10具有多孔部件11以及对多孔部件11进行支承的框体13。多孔部件11与未图示的吸引源连通，由此能够通过作为多孔部件11的上表面的保持面12对晶片100进行吸引保持。旋转工作台10通过配置于下方的旋转工作台旋转机构14而能够在水平面内如箭头401所示那样旋转。
[0023]超声波水喷射装置20与高频电源39连接，并且安装于能够在旋转工作台10的上方旋转的水提供管16的前端。水提供管16沿水平方向延伸，与水提供源19连接。水提供源19具有泵等，构成为将纯水等清洗水提供至水提供管16。
[0024]另外，在水提供管16的后端侧连结有能够通过旋转电动机17而旋转的旋转轴18。并且，水提供管16具有从旋转轴18的上端至少到达旋转工作台10的中心的长度。
[0025]因此，在旋转清洗机构1中，水提供管16伴随基于旋转电动机17的旋转轴18的旋转(箭头402)进行旋转，由此配设于水提供管16的前端的超声波水喷射装置20能够在旋转工作台10所保持的晶片100上从晶片100的外周缘移动至晶片100的中心。
[0026]超声波水喷射装置20是喷射传播超声波振动而得的超声波水的装置。如图2所示，超声波水喷射装置20具有：壳体21，其具有供经由水提供管16而从水提供源19提供的清洗
水500临时积存的存水部即第二室222；喷射口241，其喷射清洗水500；穹顶状的超声波振动板30，其配置于壳体21的第二室222的上部；以及水提供部250，其具有向壳体21的第二室222提供水的环形提供口253。
[0027]壳体21具有：筒状部22；圆锥筒状的喷嘴部23，其一体地形成于筒状部22的下方；顶板24，其封住筒状部22的上部；以及固定件25，其用于将顶板24固定于筒状部22。
[0028]壳体21内被超声波振动板30划分成上下两部分即比超声波振动板30靠上侧的第一室221和比超声波振动板30靠下侧的第二室222。在筒状部22中的与第二室222对应的部位形成有水提供部250，在水提供部250上经由水提供管16而连接有水提供源19。因此，从水提供源19提供的清洗水500临时积存于壳体21的筒状(圆锥筒状)的存水部即第二室222内。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超声波水喷射装置，其喷射传播超声波振动而得的超声波水，其中，该超声波水喷射装置具有：筒状的存水部，其临时积存从水提供源提供的水；喷射口，其从该存水部的下部喷射该水；穹顶状的超声波振动板，其配置于该存水部的上部，与该喷射口对置，该超声波振动板的下侧成为凹球面；以及水提供部，其具有提供口，该提供口从该超声波振动板的外周朝向中心沿着该凹球面而向该存水部提供水，从该提供口向该存水部提供比从该喷射口喷出的水的量多的量的水，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱晓明，
申请(专利权)人：株式会社迪思科，
类型：发明
国别省市：