形成基准图案的方法技术

本发明专利技术涉及一种形成基准图案的方法。该方法包括：确定初始基准图案的边界点是否位于盘的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图案沿所述盘的外径方向延伸。该方法通过根据初始基准图案的边界点是否处于盘的最外周的道的内侧来延伸初始基准图案，允许将缺陷基准图案补偿为有效基准图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的一般构思涉及形成基准图案(reference pattern)的方法，更具 体而言，涉及在含有缺陷基准图案(defective reference pattern)的盘驱动器 中通过补偿所述缺陷基准图案形成正常基准图案(normal reference pattern ) 的方法。
技术介绍
由于制造期间信息不记录在盘上，因而向盘写入信息或从盘读出信息所 需的位置信息必须通过单独的装置记录在盘上。基准图案首先生成在盘上从而写用于盘的位置信息。生成基准图案的过 程称为伺服道写入(STW)。在制造时发生的STW过程中，盘安装在单独的 伺服图案形成装置中以形成盘所需的基准图案。伺服道具有写入其中的控制盘的位置所需的伺服图案。即，包括道编号、 相邻道之间的节距的位置信息以及跟踪道的中心所需的其它信息存储在伺 服道上。一旦基准图案形成在盘上，则盘被安装在硬盘驱动器(HDD)中。如果 基准图案具有缺陷，则该缺陷盘不能正确用于读或写数据。即，由于过程图 案(process pattern)通过读出HDD中的基准图案而形成，所以使用缺陷基 准图案不能正确形成该过程图案。因而，为了克服该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成基准图案的方法，该方法包括：　确定初始基准图案的边界点是否位于盘的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及　如果所述初始基准图案的边界点确定为位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终 基准图案沿所述盘的外径方向延伸。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：申浩澈，崔浩峻，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]