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本发明涉及一种形成基准图案的方法。该方法包括：确定初始基准图案的边界点是否位于盘的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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