磁头检查方法、磁头检查装置、及磁头制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的磁头检查装置在制造工序中途的尽可能早的阶段进行薄膜磁头的写入轨道宽度的检查。将记录信号（励磁用信号）从焊盘输入到长形条状态的薄膜磁头，并使用在相当于磁头的悬浮高度的位置进行扫描移动的磁力显微镜（ＭＦＭ）、扫描式霍尔探针显微镜（ＳＨＰＭ）或者扫描式磁阻效应显微镜（ＳＭＲＭ），来直接观察由薄膜磁头所包含的记录头（元件）而产生的磁场的情况，由此是对所产生的磁场形状进行测定而不是对记录头（元件）的物理形状进行测定，从而可非破坏性地实施磁性的有效轨道宽度的检查。可在长形条状态下通过使用磁力显微镜来进行有效轨道宽度的测定，所述有效轨道宽度本是使用自旋支架且仅在ＨＧＡ状态或者模拟ＨＧＡ状态下才能被检查出。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对薄膜^兹头(thin film magnetic head)进行;险查的》兹 头检查方法、磁头检查装置、及磁头制造方法，本专利技术特别是涉及一种可 对光学显微镜(light microscope)所无法检查的薄膜》兹头的轨道宽度 (track width)进行检查的。
技术介绍
近年来，随着硬盘驱动器(Hard Disk Drive, HDD)的面记录密度 (surface recording density)的急剧增加，薄膜义兹头的写入轨道宽度也变 得小型化，从而对利用薄膜磁头所包含的记录头(元件)而写入到磁盘上的 写入轨道宽度准确地进行检查的技术的重要性正不断增加。以往，是利用光学显微镜来实施薄膜磁头所包含的记录头(元件)的形 状测定的，但随着轨道宽度的小型化，写入轨道宽度达到了光学系统分辨 率(resolution)或光学系统分辨率以下，由此，难以利用光学显微镜来测 定记录头(元件)的形状。因此，最近正在使用一种扫描式电子显微镜 (Scanning Electron Microscope, SEM)来讦、替光学显孩M竟，而实施i己录头 (元件)的形状测定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁头检查方法，对从晶圆上切下的长形条状态的磁头的特性进行检查，所述磁头检查方法的特征在于，　在所述磁头的记录头部中已供给了励磁用信号的状态下，使磁力显微镜的悬臂机构的磁性探针，在保持在距离所述磁头的记录部表面相当于磁头相对磁盘的悬 浮高度的位置的状态下，沿着所述磁头的记录头部的表面而扫描移动，并对表示所述悬臂机构的激振状态的信号进行检测，且根据所述信号来测定出所述磁头的有效轨道宽度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中込恒夫，德富照明，
申请(专利权)人：株式会社日立高科技，
类型：发明
国别省市：JP[日本]