【技术实现步骤摘要】
一种离子注入机离子源室有毒物质隔离防护装置
[0001]本技术涉及离子注入机离子源拆装维护领域，特别是一种离子注入机离子源室有毒物质隔离防护装置。
技术介绍
[0002]离子注入机利用特定元素和特定能量的离子束，对硅晶片进行扫描，完成芯片制造过程中的掺杂工序。目前已广泛用于各类芯片的制造。离子源是产生特定元素离子的核心装置，安装在离子源室内。离子源的各种组件在使用过程中容易受到沾污，其中的灯丝及各种石墨件属于易耗品，有使用寿命限制。这些因素会导致系统性能衰退，需要通过预防性维护定期进行清理或更换。此时需要拆下离子源进行相关处理操作。拆下离子源后，附着在离子源室内的掺杂剂残留会与空气发生反应，释放出类似砷化氢、磷化氢这样的毒性极强的气体，有可能造成人身伤害和环境污染。为了避免这种情况的发生，除了要求操作人员遵循严格的防护措施外，需要一种易于配置的有毒物质隔离防护装置，以确保维护操作过程中的人员和环境安全，同时对设备的常规运行不造成任何影响。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种离子...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种离子注入机离子源室有毒物质隔离防护装置，其特征在于，包括弯头连接件、离子源室面罩、面罩连接头、收纳管以及分别套设在所述收纳管两端的上部连接头和下部连接头，收纳管内设置有波纹伸缩软管，所述下部连接头上套设有伸缩管连接头，所述波纹伸缩软管的两端分别连接在上部连接头和伸缩管连接头上，所述离子源室面罩安装在伸缩管连接头上，所述弯头连接件可安装在伸缩管连接头上，所述面罩连接头的一端用于连接弯头连接件，面罩连接头的另一端用于安装离子源室面罩，伸缩管连接头上还设置有通气阀门。2.根据权利要求1所述的一种离子注入机离子源室有毒物质隔离防护装置，其特征在于，所述上部连接头上设置有法兰件，上部连接头可通过所述法兰件与废气集中排放共用管路固定连接。...
【专利技术属性】
技术研发人员：闫占忠，张晓宁，王岩，王志军，
申请(专利权)人：北京芯源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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