齿列矫正构件用粘接材料制造技术

本发明专利技术公开了一种齿列矫正构件用粘接材料，其含有（Ａ）聚合性单体、（Ｂ）聚合引发剂及（Ｃ）荧光性色素，其中，在该齿列矫正构件用粘接材料固化时，观测到在４００～８００ｎｍ具有峰的荧光光谱。作为（Ｂ）聚合引发剂，优选使用通过在２成分间进行氢的授受而产生自由基的引发剂、通过分子内裂解而产生自由基种的引发剂。作为（Ｃ）荧光性色素，优选香豆素系色素。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种齿列矫正构件用粘接材料，其是含有下述（Ａ）～（Ｃ）成分的齿列矫正构件用粘接材料：　（Ａ）聚合性单体、　（Ｂ）聚合引发剂、　（Ｃ）荧光性色素，　其特征在于，　测定通过对使该齿列矫正构件用粘接材料刚固化后的厚度１．０±０．１ｍｍ的 固化物照射波长４８０ｎｍ的光而放射出的荧光时，观察到在４００～８００ｎｍ具有峰的荧光光谱，且荧光光谱的最大荧光强度比在同一条件下测得的下述参照用固化性组合物的固化物的最大荧光强度大，　［参照用固化性组合物］　包含　（ａ）２，２’－双（ ４－（２－羟基－３－甲基丙烯酰氧基丙氧基）苯基）丙烷　（ｂ）三乙二醇二甲基丙烯酸酯　（ｃ）樟脑醌　（ｄ）二甲基氨基苯甲酸乙酯　（ｅ）伊红Ｙ　相对于含有（ａ）５９．９质量％、（ｂ）３９．９质量％、（ｃ）０．１质量％、（ｄ）０．１质量 ％的（ａ）～（ｄ）成分的１００质量份配合（ｅ）０．００１质量份而成的固化性组合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：纳村泰弘，清水典佳，安间静香，铃木健，风间秀树，
申请(专利权)人：学校法人日本大学，株式会社德山齿科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]