一种提高压印均匀性的纳米压印设备制造技术

本发明专利技术涉及纳米压印技术领域，具体涉及一种提高压印均匀性的纳米压印设备。包括软膜基材吸附单元和压印衬底固定单元，软膜基材吸附单元和压印衬底固定单元之间设置有点胶单元，纳米压印设备还包括去静电单元和用于纳米压印材料固化的曝光单元；软膜基材吸附单元包括吸附板和软膜基材，压印衬底固定单元包括设于软膜基材吸附单元正下方的压印衬底吸附盘和压印衬底；点胶单元包括上点胶嘴和下点胶嘴，分别点胶到软膜和压印衬底上；去静电单元包括去离子风扇，曝光单元包括UV灯。本发明专利技术通过准确控制纳米压印胶层的厚度，并控制胶层的均匀性，实现复制软膜和压印产品的过程的设备，提高模板使用寿命，降低生产成本，快速实现量产。快速实现量产。快速实现量产。

【技术实现步骤摘要】
一种提高压印均匀性的纳米压印设备


[0001]本专利技术涉及纳米压印
，具体涉及一种提高压印均匀性的纳米压印设备。

技术介绍

[0002]纳米压印技术是科学家周郁在1995年专利技术的一种成本低廉，分辨率高的光刻技术。纳米应用技术被誉为“改变世界的十大新兴技术”之一，该技术受到科研学者的广泛关注。纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术，通过纳米压印胶，将模板上的微纳结构转移到待加工基片上。通常使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为纳米压印模板，再以此模板进行纳米压印。模板制作周期较长并且制作成本昂贵，因此，为防止使用过程中模板过早的损坏，在实际生产过程中，首先需要将硅片或其他硬模板上的结构复制到工作模板上，使用工作模板进行纳米压印生产产品，以提高模板使用寿命，降低生产成本，快速实现量产。
[0003]有的晶圆表面的纳米结构深度超过10微米，例如微透镜诊疗，匀光片等。因为旋涂用的胶体要满足良好的流动性，保证结构填充完整，一般会添加溶剂导致其无法填充较深的纳米结构，所以无法旋涂匀胶的方式获得均匀微米级别的胶层，这种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高压印均匀性的纳米压印设备，其特征在于：所述纳米压印设备包括软膜基材吸附单元(1)和压印衬底固定单元(2)，软膜基材吸附单元(1)和压印衬底固定单元(2)之间设置有点胶单元(3)，所述纳米压印设备还包括去静电单元(4)和用于纳米压印材料固化的曝光单元(5)；所述软膜基材吸附单元(1)包括吸附板(11)和软膜基材(9)，吸附板(11)下表面通过真空吸附固定软膜基材(9)，所述吸附板(11)下表面设有与真空泵(27)连接的真空连接孔Ⅰ(111)，吸附板(11)下表面还设有用于软膜基材真空固定的真空气路Ⅰ(112)，所述软膜基材吸附单元(1)还包括设于压印衬底固定单元(2)正上方的透明石英板(113)；所述吸附板(11)的四角中至少有三个角设有激光测距传感发射器Ⅰ(114)；所述压印衬底固定单元(2)包括设于软膜基材吸附单元(1)正下方的压印衬底吸附盘(21)和压印衬底(8)，压印衬底吸附盘(21)将压印衬底(8)真空吸附固定；所述衬底固定单元(2)设有至少三个支撑杆Ⅰ(214)，支撑杆Ⅰ(214)远离压印衬底吸附盘(21)的一端设有激光测距传感接收器(215)，所述激光测距传感发射器Ⅰ(114)发射激光并由激光测距传感接收器(215)接收；所述点胶单元(3)包括上点胶嘴(31)和下点胶嘴(32)，分别将纳米压印材料点胶到软膜基材(9)和压印衬底上(8)；所述点胶单元(3)还包括将纳米压印材料分流到上点胶嘴(31)、下点胶嘴(32)的分流过滤装置(33)；所述去静电单元(4)包括设于软膜基材吸附单元(1)和压印衬底固定单元(2)之间的去离子风扇(41)，去离子风扇(41)倾斜一定角度将去离子风吹向软膜基材(9)和压印衬底(8)，去除软膜基材(9)和压印衬底(8)的静电；所述曝光单元(5)包括UV灯(51)。UV灯(51)可发出紫外光将纳米压印材料固化。2.根据权利要求1所述的一种提高压印均匀性的纳米压印设备，其特征在于：所述软膜基材吸附单元(1)还包括带动吸附板(11)上下移动的升降机构Ⅰ，所述升降机构Ⅰ包括连接块Ⅰ(12)和升降杆Ⅰ(13)，升降机构Ⅰ通过升降电机Ⅰ(14)提供动力，所述吸附板(11)通过连接块Ⅰ(12)与升降杆Ⅰ(13)连接。3.根据权利要求1所述的一种提高压印均匀性的纳米压印设备，其特征在于：所述压印衬底吸附盘(21)的上表面设有与真空泵(27)连接的真空连接孔Ⅱ(211)，压印衬底吸附盘(21)的上表面还设有至少两组...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，彭华，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：