【技术实现步骤摘要】
压印母板和压印母板的制作方法
[0001]本专利技术涉及纳米压印
,尤其涉及一种压印母板和压印母板的制作方法。
技术介绍
[0002]纳米压印工艺是通过纳米压印胶辅助将图案转移到基材的微纳加工工艺,其中母模板为纳米压印工艺中的基础。但是母模板的非结构区高度通常与结构区高度相当,在通过柔性材料进行图案转移的过程中,在结构区边缘形成空隙,压印胶材无法完全填充该空隙,形成一个凹陷的纳米压印缺陷,导致纳米压印的良率降低。
技术实现思路
[0003]基于此,针对目前在通过柔性材料进行图案转移的过程中,在对应结构区的侧边形成压印胶无法完全填充的空隙,导致纳米压印良率降低的问题,有必要提供一种压印母板和压印母板的制作方法,旨在能够减少空隙的产生,提高纳米压印的良率。
[0004]为实现上述目的,本专利技术提出一种压印母板,所述压印母板包括:
[0005]母板,所述母板的表面设置结构区和非结构区,所述非结构区设于所述结构区的侧边,所述结构区设置结构件;和
[0006]缓冲结构,所述缓冲结构设于所
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种压印母板,其特征在于,所述压印母板包括:母板,所述母板的表面设置结构区和非结构区,所述非结构区设于所述结构区的侧边,所述结构区设置结构件;和缓冲结构,所述缓冲结构设于所述非结构区。2.如权利要求1所述的压印母板,其特征在于,所述缓冲结构包括凹槽,所述凹槽设于所述结构区的相对两侧。3.如权利要求2所述的压印母板,其特征在于,所述缓冲结构还包若干缓冲件,若干所述缓冲件间隔设置于所述凹槽内。4.如权利要求3所述的压印母板,其特征在于,若干所述缓冲件周期性的分布于所述凹槽内。5.如权利要求2所述的压印母板,其特征在于,所述凹槽的槽底面至所述凹槽的槽口为高度方向,所述缓冲结构包括渐变式缓冲件,所述渐变式缓冲件的高度由所述非结构区至所述结构区的方向降低。6.如权利要求5所述的压印母板,其特征在于,所述缓冲结构还包括若干分隔件,若干所述分隔件间隔设置于所述渐变式缓冲件的表面。7.如权利要求6所述的压印母板,其特征在于,所述分隔件周期性的分布于所述凹槽内。8.如权利要求4所述的压印母板,其特征在于,所述缓冲件的周期性分布包括在长度方向上的延伸、以及在长度和宽度两个方...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡璐,王威翔,李莹,张玉良,韩兴君,郭培亮,饶轶,
申请(专利权)人:歌尔股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。