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本发明涉及纳米压印技术领域，具体涉及一种提高压印均匀性的纳米压印设备。包括软膜基材吸附单元和压印衬底固定单元，软膜基材吸附单元和压印衬底固定单元之间设置有点胶单元，纳米压印设备还包括去静电单元和用于纳米压印材料固化的曝光单元；软膜基材吸附单...
该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。

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