本发明专利技术提供一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，辅助组件还包括上推杆、圆盘、圆球、第一斜臂、第二斜臂和下推杆，上推杆镶嵌于水袋靠近支架的一端，圆盘安装于支架内部靠近上推杆的一端，圆球摆动于圆盘的内部，第一斜臂和第二斜臂分别摆动于圆球的两侧，下推杆摆动于圆球的下端，由于喷芯的内部通过隔板分隔呈左右内腔，通过密封袋的左右摆动，方便喷芯左右内腔内部的镀金原料能够持续通过喷嘴进入喷头的内部，使得喷嘴和喷芯的贯通处能够对喷头的内部形成持续供料，避免因镀金原料较为粘稠，导致喷头内部出现间歇性供料的情况。导致喷头内部出现间歇性供料的情况。导致喷头内部出现间歇性供料的情况。
【技术实现步骤摘要】
一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置
[0001]本专利技术涉及镀金加工领域，尤其涉及一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置。
技术介绍
[0002]铜箔是一种阴质性电解材料，沉淀于电路板基底层上的一层薄的、连续的金属箔，且用于5G通讯信号传输，是电子通讯设备的必备元器件，铜箔在加工时，需要对表面进行镀金，镀金之前工艺采用镀镍铜箔工艺技术，镀金时采用特殊密闭式喷嘴装置对铜箔表面进行镀金，喷嘴装置与镀金所需原料的管道连接，进而通过喷嘴装置对铜箔形成镀金，针对于喷嘴装置的技术启示；
[0003]对于喷嘴装置的研究发现了以下问题：
[0004]由于镀金原料通常较为粘稠，导致镀金原料于喷嘴装置内部流动性较差，并喷嘴装置为密闭式喷嘴，当镀金原料通过泵体和管道带动进入喷嘴装置内部后，使得镀金原料在通过喷嘴喷洒时易出现间歇性供料的情况，导致喷嘴装置无法对铜箔表面形成连续性镀金的情况；
[0005]目前，现有技术中的CN202110449653.8一种连续电镀线特殊镀金密闭喷嘴装置，公开了喷嘴装置,该专利技术装置外壳中心处设有镂空槽，镂空槽内设有产品通道，产品通道底部设有安全隔板，安全隔板下方安装有电镀开口区；装置外壳的顶部分别设有第一进液口、第二进液口及第三进液口，第一进液口、第二进液口及第三进液口下方连接有导液管，导液管位于产品通道正上方；
[0006]本专利技术主要能够解决喷嘴装置无法对铜箔表面形成连续性镀金的问题。
技术实现思路
[0007]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，以解决上述
技术介绍
中描述问题。
[0008]本专利技术一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置的目的与功效，由以下具体技术手段达成：一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，包括喷嘴，该喷嘴的两端贯通有喷头和喷芯，所述喷芯的内部贯穿有隔板，所述喷芯的内部设有辅助连续镀金的辅助组件，辅助组件包括支架，支架安装于隔板的内侧。
[0009]进一步的，所述喷芯的一端与输料管道贯通对接，镀金原料通过喷芯进入喷嘴和喷头的内部，通过喷头对镀金原料进行镀金喷洒。
[0010]进一步的，所述支架贯穿于隔板的内侧，喷芯内部通过隔板分隔为左右内腔，喷芯内部的左右内腔均与喷嘴贯通。
[0011]进一步的，所述支架内部呈中空状设置，支架整体呈三角状设置，所述支架的顶部镶嵌有水袋，水袋呈半圆弧状设置，半圆弧角度为180
°
，水袋的两侧延伸至喷芯的左右内腔内部，并水袋两侧长度相差1
‑
3cm。
[0012]进一步的，所述辅助组件还包括上推杆、圆盘、圆球、第一斜臂、第二斜臂和下推杆，上推杆镶嵌于水袋靠近支架的一端，圆盘安装于支架内部靠近上推杆的一端，圆球摆动于圆盘的内部，第一斜臂和第二斜臂分别摆动于圆球的两侧，下推杆摆动于圆球的下端。
[0013]进一步的，所述上推杆远离水袋的一端与圆球间隔1cm以下，上推杆靠近圆球的一端呈半圆环状。
[0014]进一步的，所述圆盘呈凹状，圆盘靠近圆球的一端贯穿有孔洞，下推杆贯穿并延伸至圆盘的外侧，圆盘的两侧开设有轨道，轨道分别分布于圆盘内部的上下两端，第一斜臂和第二斜臂分别于轨道内部滑动。
[0015]进一步的，所述圆球于圆盘的内部呈左右摆动，第一斜臂处于圆球一侧的上方，第二斜臂处于圆球另一侧的下方，第一斜臂和第二斜臂均呈倾斜35
°
。
[0016]进一步的，所述支架内部靠近下推杆的一端安装有圆管，所述圆管的内部滑动有滑块，所述滑块的两端滑动连接有连杆，所述连杆远离滑块的一端摆动有外框架，所述外框架远离连杆的一端镶嵌有密封袋，所述密封袋的内部滚动有滚珠。
[0017]进一步的，所述圆管呈半圆环状，半圆环角度为180
°
，圆管呈凹状设置，滑块半圆环角度为45
°
，滑块的一端与下推杆连接，滑块与圆管的内壁滑动贴合。
[0018]进一步的，所述连杆依次延伸至圆管和支架的外侧，连杆远离滑块的一端处于外框架一端的两侧，连杆呈倾斜摆动时，外框架呈同步摆动。
[0019]进一步的，所述外框架呈圆环状，密封袋处于喷嘴和喷芯的贯通处，滚珠于密封袋的内部呈左右滚动。
[0020]有益效果：
[0021]1.镀金原料进入喷芯的左右内腔内部，由于水袋的两侧延伸至喷芯的左右内腔内部，因此镀金原料进入喷芯内部时，镀金原料能够冲击至水袋的两侧，由于水袋两侧长度相差1
‑
3cm，使得镀金原料同时冲击至水袋的两侧时，水袋的两侧能够利用长度差，增加与镀金原料的接触面积差，进而水袋的一侧能够于支架的一端变形，随后镀金原料通过喷嘴进入喷头的内部，通过喷头对镀金原料进行镀金喷洒；
[0022]2.水袋的一侧于支架的一端变形时，水袋靠近上推杆的一侧呈倾斜膨胀，使得水袋另一侧的上推杆同步呈倾斜滑动，由于上推杆远离水袋的一端与圆球间隔1cm以下，上推杆能够快速挤压至圆球的一端，圆球于圆盘的内部呈倾斜摆动；
[0023]3.圆球倾斜摆动时，圆球一侧的第一斜臂于圆盘的轨道内部滑动，而第二斜臂同步于圆盘另一侧的轨道内部滑动，此时第一斜臂和第二斜臂滑动方向相反，导致圆球两侧重量差进一步增加；
[0024]4.利用圆球两侧的重量差，同时圆球整体摆动于圆盘的内部，因此圆球重量较大的一端能够辅助圆球于圆盘的内部回位摆动，使得圆球的另一侧能够向上摆动，重复上述步骤，使得圆球能够于圆盘的内部呈左右往复摆动，从而圆球一端的下推杆能够于支架的内部呈左右摆动；
[0025]5.下推杆呈左右摆动时，下推杆辅助滑块于圆管内部左右滑动，滑块于圆管的内部滑动时，滑块一侧的连杆向圆管的外侧滑动，而滑块另一侧的连杆向圆管的内部滑动，滑块一侧的连杆能够挤压至外框架的一端，使得外框架的一端于支架的内部呈倾斜摆动，此时外框架一侧的密封袋同步摆动，密封袋与喷嘴和喷芯的贯通处之间产生间隔，利用密封
袋处于喷嘴和喷芯的贯通处，使得镀金原料能够通过喷嘴和喷芯的贯通处进入喷头的内部；
[0026]6.通过滑块的左右摆动，滑块另一侧的连杆能够向圆管外侧滑块，而滑块一侧的连杆能够向圆管的内部回位，使得外框架能够呈反向摆动，外框架一端的密封袋能够同步呈反向摆动，由于喷芯的内部通过隔板分隔呈左右内腔，通过密封袋的左右摆动，方便喷芯左右内腔内部的镀金原料能够持续通过喷嘴进入喷头的内部，使得喷嘴和喷芯的贯通处能够对喷头的内部形成持续供料，避免因镀金原料较为粘稠，导致喷头内部出现间歇性供料的情况。
附图说明
[0027]图1为本专利技术整体结构示意图。
[0028]图2为本专利技术喷嘴截面结构示意图。
[0029]图3为本专利技术图2中A处放大结构示意图。
[0030]图4为本专利技术圆球摆动结构示意图。
[0031]图5为本专利技术连杆组件结构示意图。
[0032]图6为本专利技术图5中滑块滑动示意图。
[0033]图7为本本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，包括喷嘴，其特征在于：该喷嘴的两端贯通有喷头和喷芯，所述喷芯的内部贯穿有隔板，所述喷芯的内部设有辅助连续镀金的辅助组件，辅助组件包括支架，支架安装于隔板的内侧。2.根据权利要求1所述的适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，其特征在于：喷芯的一端与输料管道贯通对接，镀金原料通过喷芯进入喷嘴和喷头的内部，通过喷头对镀金原料进行镀金喷洒；隔板，支架贯穿于隔板的内侧，喷芯内部通过隔板分隔为左右内腔，喷芯内部的左右内腔均与喷嘴贯通；支架，支架内部呈中空状设置，支架整体呈三角状设置，所述支架的顶部镶嵌有水袋，水袋呈半圆弧状设置，半圆弧角度为180
°
，水袋的两侧延伸至喷芯的左右内腔内部，并水袋两侧长度相差1
‑
3cm。3.根据权利要求2所述的适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，其特征在于：所述辅助组件还包括上推杆、圆盘、圆球、第一斜臂、第二斜臂和下推杆，上推杆镶嵌于水袋靠近支架的一端，圆盘安装于支架内部靠近上推杆的一端，圆球摆动于圆盘的内部，第一斜臂和第二斜臂分别摆动于圆球的两侧，下推杆摆动于圆球的下端。4.根据权利要求3所述的适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，其特征在于：所述上推杆远离水袋的一端与圆球间隔1cm以下，上推杆靠近圆球的一端呈半圆环状；圆盘，圆盘呈凹状，圆盘靠近圆球的一端贯穿有孔洞，下推杆贯穿并延伸至圆盘的外侧，圆盘的两侧开设有轨道，轨道分别分布于圆盘内部...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨文峰，
申请(专利权)人：烟台晨煜电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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