一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，辅助组件还包括上推杆、圆盘、圆球、第一斜臂、第二斜臂和下推杆，上推杆镶嵌于水袋靠近支架的一端，圆盘安装于支架内部靠近上推杆的一端，圆球摆动于圆盘的内部，第一斜臂和第二斜臂分别摆动于圆球的两侧，下推杆摆动于圆球的下端，由于喷芯的内部通过隔板分隔呈左右内腔，通过密封袋的左右摆动，方便喷芯左右内腔内部的镀金原料能够持续通过喷嘴进入喷头的内部，使得喷嘴和喷芯的贯通处能够对喷头的内部形成持续供料，避免因镀金原料较为粘稠，导致喷头内部出现间歇性供料的情况。导致喷头内部出现间歇性供料的情况。导致喷头内部出现间歇性供料的情况。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置


[0001]本专利技术涉及镀金加工领域，尤其涉及一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置。

技术介绍

[0002]铜箔是一种阴质性电解材料，沉淀于电路板基底层上的一层薄的、连续的金属箔，且用于5G通讯信号传输，是电子通讯设备的必备元器件，铜箔在加工时，需要对表面进行镀金，镀金之前工艺采用镀镍铜箔工艺技术，镀金时采用特殊密闭式喷嘴装置对铜箔表面进行镀金，喷嘴装置与镀金所需原料的管道连接，进而通过喷嘴装置对铜箔形成镀金，针对于喷嘴装置的技术启示；
[0003]对于喷嘴装置的研究发现了以下问题：
[0004]由于镀金原料通常较为粘稠，导致镀金原料于喷嘴装置内部流动性较差，并喷嘴装置为密闭式喷嘴，当镀金原料通过泵体和管道带动进入喷嘴装置内部后，使得镀金原料在通过喷嘴喷洒时易出现间歇性供料的情况，导致喷嘴装置无法对铜箔表面形成连续性镀金的情况；
[0005]目前，现有技术中的CN202110449653.8一种连续电镀线特殊镀金密闭喷嘴装置，公开了喷嘴装置,该专利技术装置外壳中心处设有镂空槽，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，包括喷嘴，其特征在于：该喷嘴的两端贯通有喷头和喷芯，所述喷芯的内部贯穿有隔板，所述喷芯的内部设有辅助连续镀金的辅助组件，辅助组件包括支架，支架安装于隔板的内侧。2.根据权利要求1所述的适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，其特征在于：喷芯的一端与输料管道贯通对接，镀金原料通过喷芯进入喷嘴和喷头的内部，通过喷头对镀金原料进行镀金喷洒；隔板，支架贯穿于隔板的内侧，喷芯内部通过隔板分隔为左右内腔，喷芯内部的左右内腔均与喷嘴贯通；支架，支架内部呈中空状设置，支架整体呈三角状设置，所述支架的顶部镶嵌有水袋，水袋呈半圆弧状设置，半圆弧角度为180
°
，水袋的两侧延伸至喷芯的左右内腔内部，并水袋两侧长度相差1
‑
3cm。3.根据权利要求2所述的适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，其特征在于：所述辅助组件还包括上推杆、圆盘、圆球、第一斜臂、第二斜臂和下推杆，上推杆镶嵌于水袋靠近支架的一端，圆盘安装于支架内部靠近上推杆的一端，圆球摆动于圆盘的内部，第一斜臂和第二斜臂分别摆动于圆球的两侧，下推杆摆动于圆球的下端。4.根据权利要求3所述的适用于连续镀金的特殊密闭式喷嘴装置，其特征在于：所述上推杆远离水袋的一端与圆球间隔1cm以下，上推杆靠近圆球的一端呈半圆环状；圆盘，圆盘呈凹状，圆盘靠近圆球的一端贯穿有孔洞，下推杆贯穿并延伸至圆盘的外侧，圆盘的两侧开设有轨道，轨道分别分布于圆盘内部...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨文峰，
申请(专利权)人：烟台晨煜电子有限公司，
类型：发明
国别省市：