【技术实现步骤摘要】
一种Mg3Sb2晶体材料的制备方法
[0001]本专利技术属于半导体材料
,具体涉及一种Mg3Sb2晶体材料的制备方法。
技术介绍
[0002]Mg3Sb2化合物具有原料丰富、环境友好、能带结构复杂和低晶格热导率等特征,作为极具潜力的室温热电材料而被广泛关注。尽管Mg3Sb2材料为非立方结构,但当前大部份的热电材料研究结果都是在多晶材料中实现的,而各个方向上的物理性质及单晶材料的输运性能尚未深究。由于镁元素具有高熔点、高蒸气压和腐蚀性的特点,成功合成足够大的Mg3Sb2单晶非常困难,现有报道生长的单晶的方法主要是缓慢降温法,仅能得到解理面薄片,对各向异性输运性能研究提出了挑战。依据Mg
‑
Sb和Mg
‑
Bi的相图,结合镁元素的物理化学性质,传统溶液法在制备Mg3Sb2基晶体过程中通常存在熔融温度高、镁元素易挥发且蒸气压大、镁元素易与石英坩埚反应、所获得晶体尺寸小等问题。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是提供一种Mg3Sb2晶体材料的制备方法,使用坩埚下降法 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种Mg3Sb2晶体材料的制备方法,其特征在于,所述Mg3Sb2晶体材料的化学式为Mg3Sb2Y
x
(0≤x≤0.03),采用坩埚下降法在助熔剂的协助作用下生长得到,包括以下步骤:步骤1、原料配料:选取原料纯度大于99.99%的高纯单质元素Mg、Sb、Bi、Y为起始原料,按照目标晶体组分与助熔剂的摩尔比Mg3Sb2Y
x
:(Sb/Bi)=1:1~5的化学计量比配料,目标晶体组分和助熔剂的总质量为100
‑
300g;步骤2、装料封装:将称量好单质原料按照Mg、Sb、Bi、Y依次放入直径为10
‑
50mm的高纯氮化硼坩埚中,再将坩埚放置于直径大于高纯氮化硼坩埚直径2
‑
5mm的石英管中,抽真空至10
‑3‑
10
‑1Pa后,使用氢氧火焰枪进行封装;步骤3、高温熔化:将封装的石英管放入垂直布里奇曼生长炉中,将炉子温度设置为800
‑
900℃,升温速率为50
‑
200℃/h,保温5
‑
15h,保证充分熔化均匀;步骤4、晶体生长:当所有原料充分熔化后,开启下降机制,使石英管以0.2
‑
0.5mm/h的速度向下移动,当溶质在溶剂中达到饱和,晶体在坩埚内通过自发成核不断长大,获得Mg3Sb2单晶材料。2.根据权利要求1所述Mg3Sb2晶体材料的制备方法,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:林思琪,金敏,杨淼森,王相虎,李荣斌,
申请(专利权)人:上海电机学院,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。