一种半导体加工用树脂均匀上料设备制造技术

技术编号:37530357 阅读:17 留言:0更新日期:2023-05-12 15:56
本发明专利技术公开了一种半导体加工用树脂均匀上料设备,涉及半导体生产领域,包括移动机构与上料机构,且移动机构的两侧分别设置有两组模具,模具分为下模具与上模具,所述上料机构设置有两组,且两组上料机构位于移动机构的两端,所述移动机构的两端分别连接有加热管,每组所述上料机构的内部开设有挤压柱,所述加热管通过套接在挤压柱的外侧,一组所述上料机构的内部安装有电机。本发明专利技术通过设置的移动机构以及上料机构,能够在上料过程中,使移动机构带动两组加热管在两组上料机构内往复移动,每次移动过程中,都会将一组加热管内的树脂挤出进行上料,另一组加热管将供料机构内的树脂抽出,进行填料,能够在一次往复行程中进行两次上料过程。上料过程。上料过程。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体加工用树脂均匀上料设备


[0001]本专利技术涉及半导体生产领域,具体为一种半导体加工用树脂均匀上料设备。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,半导体在生产过程中,需要为了避免外界环境对其造成干扰,通常需要对半导体进行塑封,现有的塑封材料通常为树脂,根据需求对树脂按照比例混合,随后将熔融的树脂注入模具内,再通过合模进行成型固化,完成加工。
[0003]但是现有的加工过程中,特别是多组半导体同步进行加工时,需要将树脂均匀的涂布在各组半导体元件上,但是现有的树脂上料方式都是采用固定喷头进行喷头,不仅仅不能均匀涂布,且涂布后残留的树脂也会堵塞喷头,使用效率较差,其次,在树脂上料过程中需要使喷头移动到下模具上进行喷涂,移动过程中喷头一次往复形成仅仅只能进行一次上料,使用效率较差。

技术实现思路

[0004]基于此,本专利技术的目的是提供一种半导体加工用树脂均匀上料设备,以解决树脂不能均匀上料、残留的树脂堵塞喷头、树脂上料效率较差的技术问题。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种半导体加工用树脂均匀上料设备,包括移动机构与上料机构,且移动机构的两侧分别设置有两组模具,模具分为下模具与上模具,所述上料机构设置有两组,且两组上料机构位于移动机构的两端,所述移动机构的两端分别连接有加热管,每组所述上料机构的内部开设有挤压柱,所述加热管通过套接在挤压柱的外侧,一组所述上料机构的内部安装有电机,且电机的输出端连接有螺杆,所述螺杆贯穿挤压柱延伸至加热管的内部,且螺杆延伸至另一组上料机构内部,所述移动机构套接在螺杆外侧并与螺杆传动连接,所述移动机构的两侧皆连接有延伸板,且延伸板延伸至下模具与上模具之间设置有喷头,所述移动机构两端位于加热管的内部开设有对称的管道,且每组管道皆与延伸板接通,且管道中安装有流向机构,所述移动机构侧面靠近下模具的位置连接有控制机构,控制机构对流向机构进行控制。
[0006]通过采用上述技术方案,能够方便的对下模具内的半导体均匀喷涂树脂,且喷涂过程中,通过螺杆对树脂进行搅拌,当半导体喷涂完毕后,能够关闭喷头,且不会干扰移动机构继续移动。
[0007]本专利技术进一步设置为,所述下模具靠近移动机构侧面边缘位置开设有对称的斜面,所述上模具向下的投影面积小于下模具向下的投影面积。
[0008]通过采用上述技术方案,能够方便上模具向下移动,不与延伸板之间发生干涉碰撞。
[0009]本专利技术进一步设置为,所述上料机构的顶端连接有供料机构,且供料机构包括储料罐、送料管以及控制阀,送料管延伸至挤压柱的内部并与加热管内部接通,所述上料机构
的内部位于挤压柱外侧开设有插槽,所述加热管通过插槽与上料机构限位连接。
[0010]通过采用上述技术方案,能够方便对加热管内提供树脂,且根据控制阀的闭合改变输入到加热管中的树脂比例。
[0011]本专利技术进一步设置为,所述移动机构内部的管道为Y型管,所述Y型管的主管与喷头接通,Y型管的每组侧管内皆连接有单向阀,且单向阀的流动方向朝向主管,且两组侧管之间连接有双向电磁阀,所述双向电磁阀包括隔板、弹簧、电磁铁连接杆以及封头,封头通过连接杆与隔板连接,封头延伸至Y型管各组管道的位置,并与Y型管的主管对齐,且封头的形状与主管的开口相匹配。
[0012]通过采用上述技术方案,能够通过Y型管对输入的树脂进行分流,在需要喷涂时,使树脂进入到主管内,通过喷头喷出,不需要喷涂时,闭合主管,使树脂穿过双向电磁阀。
[0013]本专利技术进一步设置为,控制机构共设置有两组,分别安装在移动机构的两侧位于移动机构与下模具之间,每组控制机构包括两组定位杆,每组定位杆皆固定在移动机构侧面的边缘位置,所述定位杆的端部连接有接滚轮,所述定位杆通过滚轮与下模具的外壁贴合,所述定位杆与移动机构之间连接有复位弹簧,且移动机构的外侧连接有保护套对定位杆限位。
[0014]通过采用上述技术方案,能够方便的通过控制机构对喷涂树脂的时间进行控制,从而减少树脂的浪费。
[0015]本专利技术进一步设置为,所述移动机构的两侧位于各组双向电磁阀的下方皆连接有单片机,所述单片机与双向电磁阀接通,每组单片机的底端皆连接有两组控制导线,且每组控制导线皆延伸至定位杆的侧面连接有开关,所述定位杆通过挤压开关对单片机提供信号,两组定位杆同时挤压开关,单片机控制双向电磁阀关闭,封头打开Y型管,一组定位杆挤压开关,单片机控制双向电磁阀打开,封头闭合Y型管。
[0016]通过采用上述技术方案,能够方便的对双向电磁阀进行控制,从而控制树脂的流向。
[0017]本专利技术进一步设置为,每组所述定位杆的顶端皆连接有接电推杆,所述接电推杆通过导线与供电机构连接。
[0018]通过采用上述技术方案,能够通过接电推杆对其他机构进行供电。
[0019]本专利技术进一步设置为,所述每组所述延伸板的底端安装有密封板,所述密封板的内部开设有下料槽,且密封板位于延伸板中间位置时下料槽与喷头对齐,且下料槽边缘位置开设有刮板,所述密封板的两侧皆连接有卡合斜板,所述卡合斜板与接电推杆对齐,所述密封板的内部安装有加热板,所述加热板的输出端连接有接电头,所述接电头安装在卡合斜板远离密封板的端部,所述加热板通过接电头与接电推杆接通电源。
[0020]通过采用上述技术方案,能够在喷头使用完毕后,通过密封板对喷头进行刮除,且刮除后,通过密封板对喷头进行密封,密封时,通过加热板对喷头进行加热,使树脂不会在喷头处凝固。
[0021]综上所述,本专利技术主要具有以下有益效果:本专利技术通过设置的移动机构、加热管以及上料机构,能够在上料过程中,通过移动机构带动两组加热管在上料机构内移动,从而对加热管内的树脂进行挤压,使树脂通过管道进入到喷头内,从喷头喷涂在下模具上的半导体元件上,且树脂进入到加热管内时,随着
螺杆的转动,能够对树脂进行搅拌混合,实现树脂的均匀上料,有效解决了树脂不能均匀上料的问题。
[0022]本专利技术通过设置的移动机构、下模具、定位杆以及刮板,能够在移动机构移动到下模具边缘的斜面位置时,定位杆在弹簧的推动下靠近密封板,定位杆上方的接电推杆通过卡合斜板推动密封板在套环内移动,使下料槽与喷头偏离,此时刮板对喷头进行清理,当达到移动机构的极限位置时,密封板完全位于喷头下方,对喷头进行密封,且同时通过接电推杆将加热板与电源接通,使加热板能够对喷头进行加热,避免树脂凝固,有效解决了残留的树脂堵塞喷头的问题。
[0023]本专利技术通过设置的移动机构以及上料机构,能够在上料过程中,使移动机构带动两组加热管在两组上料机构内往复移动,每次移动过程中,都会将一组加热管内的树脂挤出进行上料,另一组加热管将供料机构内的树脂抽出,进行填料,能够在一次往复行程中进行两次上料过程,提高了使用效率,有效解决了树脂上料效率较差的问题。
附图说明
[0024]图1为本专利技术的结构示意图;图2为本专利技术的俯本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体加工用树脂均匀上料设备,包括移动机构(1)与上料机构(5),且移动机构(1)的两侧分别设置有两组模具,模具分为下模具(2)与上模具(3),其特征在于:所述上料机构(5)设置有两组,且两组上料机构(5)位于移动机构(1)的两端,所述移动机构(1)的两端分别连接有加热管(4),每组所述上料机构(5)的内部开设有挤压柱(502),所述加热管(4)通过套接在挤压柱(502)的外侧,一组所述上料机构(5)的内部安装有电机(503),且电机(503)的输出端连接有螺杆(504),所述螺杆(504)贯穿挤压柱(502)延伸至加热管(4)的内部,且螺杆(504)延伸至另一组上料机构(5)内部,所述移动机构(1)套接在螺杆(504)外侧并与螺杆(504)传动连接,所述移动机构(1)的两侧皆连接有延伸板(101),且延伸板(101)延伸至下模具(2)与上模具(3)之间设置有喷头(102),所述移动机构(1)两端位于加热管(4)的内部开设有对称的管道,且每组管道皆与延伸板(101)接通,且管道中安装有流向机构,所述移动机构(1)侧面靠近下模具(2)的位置连接有控制机构,控制机构对流向机构进行控制。2.根据权利要求1所述的半导体加工用树脂均匀上料设备,其特征在于:所述下模具(2)靠近移动机构(1)侧面边缘位置开设有对称的斜面,所述上模具(3)向下的投影面积小于下模具(2)向下的投影面积。3.根据权利要求1所述的半导体加工用树脂均匀上料设备,其特征在于:所述上料机构(5)的顶端连接有供料机构(501),且供料机构(501)包括储料罐、送料管以及控制阀,送料管延伸至挤压柱(502)的内部并与加热管(4)内部接通,所述上料机构(5)的内部位于挤压柱(502)外侧开设有插槽(505),所述加热管(4)通过插槽(505)与上料机构(5)限位连接。4.根据权利要求1所述的半导体加工用树脂均匀上料设备,其特征在于:所述移动机构(1)内部的管道为Y型管(103),所述Y型管(103)的主管与喷头(102)接通,Y型管(103)的每组侧管内皆连接有单向阀(9),且单向阀(9)的流动方向朝向主管,且两组侧管之间连接有双向电磁阀(8),所述双向电磁阀(8)包括隔板、弹簧、电磁铁连接杆以及封头(801),封头(801)通过连接杆与隔板连接,封头(801)延伸至Y型管(103)各组管道的位置,并...

【专利技术属性】
技术研发人员:俞俊华
申请(专利权)人:芜湖信华机械有限公司
类型:发明
国别省市:

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