一种OVD沉积反应装置及反应系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种OVD沉积反应装置及反应系统，涉及光纤预制棒制造技术领域，一方面，该装置包括两块间隔设置的腔体板和隔离板，两块腔体板形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体；至少一块腔体板的内侧间隔设置有隔离板，并与该腔体板之间形成用于供冷却气体流动的通道，通道靠近进气侧的一端设有挡流罩，用于使从出气侧进入通道的冷却气体从通道排出后向出气侧回流。另一方面，该反应系统包括上述反应装置及喷灯。通过在腔体板上间隔设置隔离板形成供冷却气体流动的通道，以对隔离板和腔体板进行冷却降温，通过设置挡流罩，从而使冷却气体从通道排出后向出气侧回流，以避免玻璃颗粒在隔离板上附着。以避免玻璃颗粒在隔离板上附着。以避免玻璃颗粒在隔离板上附着。

【技术实现步骤摘要】
一种OVD沉积反应装置及反应系统


[0001]本技术涉及光纤预制棒制造
，具体涉及一种OVD沉积反应装置及反应系统。

技术介绍

[0002]光纤预制棒的代表性制法有OVD法(OutsideVaporDeposition)或VAD法(VaporphaseAxialDeposition)。OVD法和VAD法均是通过沉积氢氧焰生成的玻璃微粒，再通过加热形成透明的玻璃。OVD法是在转动的靶棒外部周向形成，VAD法是在转动的靶棒的轴向形成。
[0003]这些制法都是在反应容器内进行沉积。通过氢氧焰生成的玻璃微粒的一部分附着在靶棒上，剩余的未附着的玻璃微粒会被排走。通过增加附着的玻璃微粒，形成沉积疏松体，经过后续脱水烧结后，制成光纤预制棒。
[0004]在现有的OVD制造方法下，氢氧火焰的高温会使反应容器内的温度上升，从而导致沉积反应容器的变形或破裂。同时，未附着在靶棒上的玻璃微粒如果未被排气彻底排走，未附着的玻璃微粒就会附着在反应容器表面，遇到气流紊乱时，附着的粉末就会再次附着在疏松体表面等，导致亮点或异物而影响特性。

技术实现思路

[0005]针对现有技术中存在的缺陷，本技术的目的在于提供一种OVD沉积反应装置及反应系统，以解决现有技术中，玻璃微粒易附着在容器表面及高温导致容器破裂的问题。
[0006]为达到以上目的，本技术采取的技术方案是：
[0007]一方面，本申请提供一种OVD沉积反应装置，包括：
[0008]两块间隔设置的腔体板，两块上述腔体板形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体；
[0009]至少一块上述腔体板的内侧间隔设有隔离板，并与该腔体板之间形成用于供冷却气体流动的通道，上述通道靠近上述进气侧的一端设有挡流罩，用于使从上述出气侧进入通道的冷却气体从上述通道排出后向出气侧回流。
[0010]在一些可选的实施例中，上述挡流罩包括弧形板，上述弧形板的一端与形成上述通道的上述腔体板连接，且上述弧形板的开口方向与上述通道的开口相对。
[0011]在一些可选的实施例中，上述挡流罩还包括平板，上述平板与上述弧形板的另一端连接并与上述隔离板平行。
[0012]在一些可选的实施例中，在上述隔离板上沿长度方向间隔开设有多个排气孔。
[0013]在一些可选的实施例中，每个上述排气孔靠近上述挡流罩的一侧设有与上述隔离板连接的挡板，用于使上述通道内的冷却气体从上述排气孔排出时向出气侧回流。
[0014]在一些可选的实施例中，上述挡板为弧形板，上述挡板的开口朝向上述出气侧。
[0015]在一些可选的实施例中，上述挡板两端所在的平面与上述隔离板的夹角为75
°
。
[0016]在一些可选的实施例中，上述隔离板与形成上述通道的腔体板的间距，小于等于上述平板与上述隔离板的间距。
[0017]在一些可选的实施例中，两块上述腔体板在竖直方向上间隔开设，一上述隔离板与位于上方的上述腔体板的内壁间隔连接。
[0018]另一方面，本申请还提供一种OVD沉积反应系统，包括：
[0019]两块间隔设置的腔体板，两块上述腔体板形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体；
[0020]至少一块上述腔体板的内侧间隔设有隔离板，并与该腔体板之间形成用于供冷却气体流动的通道，上述通道靠近上述进气侧的一端设有挡流罩，用于使从上述出气侧进入通道的冷却气体从上述通道排出后向出气侧回流；
[0021]喷灯，其位于上述腔体内，上述喷灯喷出的气流从上述进气侧向上述出气侧流动。
[0022]与现有技术相比，本技术的优点在于：通过在至少一块腔体板的内侧间隔设置隔离板，从而形成供冷却气体流动的通道，以对隔离板和腔体板进行冷却降温，解决了由于沉积反应中喷灯产生的热量对腔体板造成变形或破裂的问题；通过在通道靠近进气侧的一端设置挡流罩，从而使冷却气体从通道排出后向出气侧回流，以避免玻璃颗粒在隔离板上附着，遇到气流紊乱时，附着的粉末就会再次附着在疏松体表面等，导致亮点或异物而影响特性。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0024]图1为本技术一种OVD沉积反应系统的结构示意图；
[0025]图2为本技术实施例中疏松体直径与气体流量的关系线形图。
[0026]图中：1、喷灯；2、隔离板；21、排气孔；22、挡板；3、腔体板；31、挡流罩；311、弧形板；312、平板；4、靶棒。
具体实施方式
[0027]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0028]以下结合附图对本技术一种OVD沉积反应装置及反应系统的实施例作进一步详细说明。
[0029]一方面，如图1所示，本申请提供一种OVD沉积反应装置，包括两块间隔设置的腔体板3和隔离板2，两块上述腔体板3形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体；至少一块上述腔体板3的内侧间隔设置有隔离板2，并与该腔体板3之间形成用于供冷却气体流动的通道，上述通道靠近上述进气侧的一端设有挡流罩31，用于使从上述出气侧进入
通道的冷却气体从上述通道排出后向出气侧回流。
[0030]可以理解，腔体内设有用于沉积光纤预制棒的喷灯1和靶棒4，使用喷灯1在氢氧焰中通入原料气体，例如SiCl4，而生成玻璃微粒，玻璃微粒沉积在靶棒4的表面形成疏松体。原料气体从进气侧进入腔体内，并从出气侧排出废气及多余的玻璃颗粒。因此，为避免喷灯1产生的热量对腔体板3产生影响，设置隔离板2并在隔离板与腔体板3形成的通道内通入冷却气体，从而为腔体板3降温。
[0031]在一些可选的实施例中，两块腔体板3在竖直方向上间隔设置，由于热气上升，因此在位于上方的腔体板3上设置隔离板2。
[0032]在一些可选的实施例中，两块腔体板3的在水平方向上间隔设置，则此时可以在靠近喷灯1的任意一块腔体板3上，或同时在两块腔体板3上设置隔离板2。
[0033]可以理解，不论腔体板3如何放置，应保证靠近喷灯1一侧或受喷灯1的火焰影响的腔体板3设置隔离板2以减少受热影响。
[0034]在本例中，冷却气体为空气或惰性气体，从通道靠近出气侧的开口进入，并从通道靠近进气侧的开口流出，然后在挡流罩31的作用下，冷却气体从通道外向出气侧的方向回流，此时冷却气体的流动方向与喷灯1喷出原料气体的方向相同，从而使冷却气本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OVD沉积反应装置，其特征在于，包括：两块间隔设置的腔体板(3)，两块所述腔体板(3)形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体；至少一块所述腔体板(3)的内侧间隔设有隔离板(2)，并与该腔体板(3)之间形成用于供冷却气体流动的通道，所述通道靠近所述进气侧的一端设有挡流罩(31)，用于使从所述出气侧进入通道的冷却气体从所述通道排出后向出气侧回流。2.如权利要求1所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，所述挡流罩(31)包括弧形板(311)，所述弧形板(311)的一端与形成所述通道的所述腔体板(3)连接，且所述弧形板(311)的开口方向与所述通道的开口相对。3.如权利要求2所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，所述挡流罩(31)还包括平板(312)，所述平板(312)与所述弧形板(311)的另一端连接并与所述隔离板(2)平行。4.如权利要求3所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，在所述隔离板(2)上沿长度方向间隔开设有多个排气孔(21)。5.如权利要求4所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，每个所述排气孔(21)靠近所述挡流罩(31)的一侧设有与所述隔离板(2)连接的挡板(22)，用于使所述通道内的冷却气体从所述排气孔(21)排出...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵辉，
申请(专利权)人：藤仓烽火光电材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：