一种OVD沉积反应装置及反应系统制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种OVD沉积反应装置及反应系统，涉及光纤预制棒制造技术领域，一方面，该装置包括两块间隔设置的腔体板和隔离板，两块腔体板形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体；至少一块腔体板的内侧间隔设置有隔离板，并与该腔体板之间形成用于供冷却气体流动的通道，通道靠近进气侧的一端设有挡流罩，用于使从出气侧进入通道的冷却气体从通道排出后向出气侧回流。另一方面，该反应系统包括上述反应装置、喷灯、沉积量检测装置及控制装置。通过在腔体板上间隔设置隔离板形成供冷却气体流动的通道，以对隔离板和腔体板进行冷却降温，通过设置挡流罩，从而使冷却气体从通道排出后向出气侧回流，以避免玻璃颗粒在隔离板上附着。离板上附着。离板上附着。

【技术实现步骤摘要】
一种OVD沉积反应装置及反应系统


[0001]本专利技术涉及光纤预制棒制造
，具体涉及一种OVD沉积反应装置及反应系统。

技术介绍

[0002]光纤预制棒的代表性制法有OVD法(OutsideVaporDeposition)或VAD法(VaporphaseAxialDeposition)。OVD法和VAD法均是通过沉积氢氧焰生成的玻璃微粒，再通过加热形成透明的玻璃。OVD法是在转动的靶棒外部周向形成，VAD法是在转动的靶棒的轴向形成。
[0003]这些制法都是在反应容器内进行沉积。通过氢氧焰生成的玻璃微粒的一部分附着在靶棒上，剩余的未附着的玻璃微粒会被排走。通过增加附着的玻璃微粒，形成沉积疏松体，经过后续脱水烧结后，制成光纤预制棒。
[0004]在现有的OVD制造方法下，氢氧火焰的高温会使反应容器内的温度上升，从而导致沉积反应容器的变形或破裂。同时，未附着在靶棒上的玻璃微粒如果未被排气彻底排走，未附着的玻璃微粒就会附着在反应容器表面，遇到气流紊乱时，附着的粉末就会再次附着在疏松体表面等，导致亮点或异物而影响特性。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OVD沉积反应装置，其特征在于，包括：两块间隔设置的腔体板(3)，两块所述腔体板(3)形成带有进气侧和出气侧且用于沉积光纤预制棒的腔体；至少一块所述腔体板(3)的内侧间隔设有隔离板(2)，并与该腔体板(3)之间形成用于供冷却气体流动的通道，所述通道靠近所述进气侧的一端设有挡流罩(31)，用于使从所述出气侧进入通道的冷却气体从所述通道排出后向出气侧回流。2.如权利要求1所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，所述挡流罩(31)包括弧形板(311)，所述弧形板(311)的一端与形成所述通道的所述腔体板(3)连接，且所述弧形板(311)的开口方向与所述通道的开口相对。3.如权利要求2所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，所述挡流罩(31)还包括平板(312)，所述平板(312)与所述弧形板(311)的另一端连接并与所述隔离板(2)平行。4.如权利要求3所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，在所述隔离板(2)上沿长度方向间隔开设有多个排气孔(21)。5.如权利要求4所述的OVD沉积反应装置，其特征在于，每个所述排气孔(21)靠近所述挡流罩(31)的一侧设有与所述隔离板(2)连接的挡板(22)，用于使所述通道内的冷却气体从所述排气孔(21)排出时向出气侧回流。6.如权利要求5所述的OVD沉积反应装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵辉，
申请(专利权)人：藤仓烽火光电材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：