一种低色差的气体复合镀膜方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种低色差的气体复合镀膜方法及装置，涉及镀膜技术领域，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室内侧设置有用于安装基材使用的承载台，所述真空镀膜室的内壁设置有镀膜组件，其特征在于：还包括脱附处理组件；所述脱附处理组件具有两个工作状态；第一工作状态：所述脱附处理组件成闭合状态对基材进行密封内置，以配合对基材中吸附的杂质气体进行解析脱附。本发明专利技术通过，通过脱附处理组件实现对需要进行镀膜加工的基材进行内置密封，然后对基材中吸附杂质气体进行解析脱附，当解析脱附完成后，脱附处理组件张开使得基材呈裸露状态，可以对基材直接进行镀膜加工处理，防止镀膜时基材析出杂质气体对基材上薄膜的纯度和颜色有造成影响。有造成影响。有造成影响。

【技术实现步骤摘要】
一种低色差的气体复合镀膜方法及装置


[0001]本专利技术涉及镀膜
，具体为一种低色差的气体复合镀膜方法及装置。

技术介绍

[0002]公知的，随着科技的发展，在对工件表面进行镀膜时，尤其是一些特殊的、加工精度高的产品进行镀膜时，会选择真空镀膜的方式，以形成沉积层分布较为均匀的工件，真空镀膜为在真空状态下进行的镀膜，具体包括很多种类，如真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
[0003]如申请公布号为CN115466928A，申请公布日为2022年12月13日，名称为《复合镀膜设备、复合镀膜方法以及镀膜工件》的专利技术专利，其公开的复合镀膜设备具体结构包括腔体，内部具有镀膜空间；工件架，转动设置于腔体，所述工件架位于镀膜空间内；电弧靶模块；所述电弧靶模块设置于所述腔体侧壁，所述电弧靶模块用于产生电弧阴极等离子体；磁控靶模块；所述磁控靶模块设置于所述腔体侧壁，所述磁控靶模块用于产生磁控溅射等离子体；控制器，所述控制器用于控制所述电弧靶模块与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低色差的气体复合镀膜装置，包括真空镀膜室(1)，所述真空镀膜室(1)内侧设置有用于安装基材(31)使用的承载台(3)，所述真空镀膜室(1)的内壁设置有镀膜组件(13)，其特征在于：还包括脱附处理组件(4)；所述脱附处理组件(4)具有两个工作状态；第一工作状态：所述脱附处理组件(4)成闭合状态对基材(31)进行密封内置，以配合对基材(31)中吸附的杂质气体进行解析脱附；第二工作状态：所述脱附处理组件(4)成张开状态，以使得基材(31)裸露进行镀膜加工。2.根据权利要求1所述的一种低色差的气体复合镀膜装置，其特征在于，所述脱附处理组件(4)包括设置在承载台(3)上的组合夹套机构(41)以及脱附基座(42)；所述脱附基座(42)用于安装基材(31)，且脱附基座(42)上具有抽气通道，所述组合夹套机构(41)用于对脱附基座(42)上的基材(31)进行内置密封或张开裸露。3.根据权利要求2所述的一种低色差的气体复合镀膜装置，其特征在于，所述组合夹套机构(41)包括安装座(411)，且安装座(411)上对称转动连接有两个夹持爪(412)，所述夹持爪(412)内壁固定有套座(413)，且套座(413)的内壁安装有加热器(415)。4.根据权利要求2所述的一种低色差的气体复合镀膜装置，其特征在于，所述脱附基座(42)包括设置在承载台(3)上的安装基座(421)，所述基材(31)固定在安装基座(421)的顶部，所述安装基座(421)的顶部位于基材(31)的外侧开设有抽气孔(422)。5.根据权利要求4所述的一种低色差的气体复合镀膜装置，其特征在于，所述安装基座(421)内侧设置有导气管(423)与抽气孔(422)连通，且导气管(423)通过另一端通过连接管(424)延伸至承载台(3)的底部，所述真空镀膜室(1)的底部设置有真空泵(5)，且真空泵(5)与连接管(424)连通。6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：李守安，周继贤，邢长丰，李小康，胡永伟，何宗阳，
申请(专利权)人：滁州嘉美精密工业有限公司，
类型：发明
国别省市：