【技术实现步骤摘要】
本专利技术属发光纳米材料的
,特别涉及以正电聚电解质为模板掺杂负电染料的SiO2纳米粒子及其制备方法。
技术介绍
染料掺杂二氧化硅纳米粒子在生物、医学以及光物理化学理论研究等领域具有广泛的应用。将荧光染料在二氧化硅内掺杂可提高其很多性能染料固定在SiO2介质中,可与溶剂、氧气等隔离,提高染料的分散性和光稳定性(Nano Letter 2005,15,113-117);可通过调节SiO2粒子结构来改变染料微环境,提高染料的发光效率和寿命(Chem.Mater.,2008,20,2677-2684);SiO2无毒、具有化学惰性、易表面官能化,可拓展荧光染料的应用范围。 实现染料分子在二氧化硅粒子内部稳定掺杂而不发生染料泄漏,一直是期待解决的技术问题。Van Blaaderen等人使用硅烷偶联剂(Langmuir1992,8,2921-2931;J Colloid Interface Sci.1993,156,1-18;Nano.Lett.2005,5,113-117),利用共价偶联的方式,将染料分子锚定在纳米二氧化硅粒子内,该方法要求染料分子具有可与 ...
【技术保护点】
一种以正电聚电解质为模板掺杂负电染料的SiO↓[2]纳米粒子,具有核壳结构,内核包含带正电的聚电解质团簇,其掺杂有带负电的荧光染料和SiO↓[2],以及可选择的带负电的添加剂,外壳由SiO↓[2]组成,其中,添加剂和荧光染料所带负电荷之和小于聚电解质团簇所带正电荷。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:杨文胜,梁经纶,李军,
申请(专利权)人:无锡中德伯尔生物技术有限公司,吉林大学,
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]
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