以正电聚电解质为模板掺杂负电染料的SiO2纳米粒子及其制备方法技术

技术编号:3749550 阅读:629 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
以正电聚电解质为模板掺杂负电染料的SiO2纳米粒子,具有核壳结构,内核包含带正电的聚电解质团簇,其掺杂有带负电的荧光染料和SiO2,以及可选择的带负电的添加剂,外壳由SiO2组成,其中,添加剂和荧光染料所带负电荷之和小于聚电解质团簇所带正电荷。所述SiO2纳米粒子的制备方法包括:经聚电解质与荧光染料的复合物溶液制备;有机硅源水解缩合形成SiO2纳米粒子;有机硅源包覆。本发明专利技术可广泛的应用于各种带有负电基团的荧光染料在二氧化硅中的掺杂,可实现多种染料的同时掺杂,实现染料掺杂量、产物粒径及形貌的控制,制得的SiO2纳米粒子为球形,粒径均匀,表面官能化容易,形成的胶体稳定性好,为生物医学、理论研究等提供更多选择。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属发光纳米材料的
,特别涉及以正电聚电解质为模板掺杂负电染料的SiO2纳米粒子及其制备方法。
技术介绍
染料掺杂二氧化硅纳米粒子在生物、医学以及光物理化学理论研究等领域具有广泛的应用。将荧光染料在二氧化硅内掺杂可提高其很多性能染料固定在SiO2介质中,可与溶剂、氧气等隔离,提高染料的分散性和光稳定性(Nano Letter 2005,15,113-117);可通过调节SiO2粒子结构来改变染料微环境,提高染料的发光效率和寿命(Chem.Mater.,2008,20,2677-2684);SiO2无毒、具有化学惰性、易表面官能化,可拓展荧光染料的应用范围。 实现染料分子在二氧化硅粒子内部稳定掺杂而不发生染料泄漏,一直是期待解决的技术问题。Van Blaaderen等人使用硅烷偶联剂(Langmuir1992,8,2921-2931;J Colloid Interface Sci.1993,156,1-18;Nano.Lett.2005,5,113-117),利用共价偶联的方式,将染料分子锚定在纳米二氧化硅粒子内,该方法要求染料分子具有可与硅烷偶联剂反应的官能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种以正电聚电解质为模板掺杂负电染料的SiO↓[2]纳米粒子,具有核壳结构,内核包含带正电的聚电解质团簇,其掺杂有带负电的荧光染料和SiO↓[2],以及可选择的带负电的添加剂,外壳由SiO↓[2]组成,其中,添加剂和荧光染料所带负电荷之和小于聚电解质团簇所带正电荷。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨文胜梁经纶李军
申请(专利权)人:无锡中德伯尔生物技术有限公司吉林大学
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]

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