本发明专利技术涉及高纯气（或电子气）中痕量气态杂质分析方法和装置。１、传统制冷方法只能测定到－６０－－７０℃。本发明专利技术采用的浸渍制冷方法和降低镜面的降温速率，以增加“结露”的灵敏度。具有测试灵敏度高、消耗液氮低和制造的露点测试仪器成本低的特点。最低能测试到露点为－１２０－－１３０℃（＜０．０００１３ＰＰＭ）。方法适用于电子气中有害杂质水的分析。２、常规的气相色谱方法所用的检测器，其分析灵敏度一般只有几十ＰＰＭ－０．１ＰＰＭ。本发明专利技术采用的浓缩取样方法于气相色谱分析中，对信息技术领域的硅烷等电子气中有害杂质氧、碳等化合物进行分析。一般测试的灵敏度达到０．１－０．０００１ＰＰＭ。
【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种与传统制冷方法不同的测试高纯气体中痕量水的露点分析方法。其特征在于用液氮浸渍，冷却传冷捧，最终使镜面冷却的制冷方法。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：尹恩华，
申请(专利权)人：尹恩华，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。