弹性波装置的制作方法、谐振器以及滤波器制造方法及图纸

本申请提供一种弹性波装置的制作方法，提供一压电晶圆，压电晶圆具有第一区域和第二区域；在压电晶圆上形成第一光刻图形层，部分压电晶圆露出第一光刻图形层；在第一光刻图形层上以及露出的压电晶圆上形成第一金属膜；在第一金属膜上形成第二光刻图形层，位于第二区域内的第一金属膜露出第二光刻图形层；在第二光刻图形层上以及露出第二光刻图形层的第一金属膜上形成第二金属膜；剥离第一光刻图形层以及第二光刻图形层，以在第一区域形成第一电极图案，以及在第二区域形成第二电极图案。因此，通过上述制作方法形成的第二电极图案不存在套刻偏差，保证了形成的弹性波装置的性能。本申请还提供一种谐振器以及一种滤波器。申请还提供一种谐振器以及一种滤波器。申请还提供一种谐振器以及一种滤波器。

【技术实现步骤摘要】
弹性波装置的制作方法、谐振器以及滤波器


[0001]本申请涉及射频
，尤其涉及一种弹性波装置的制作方法、一种谐振器以及一种滤波器。

技术介绍

[0002]弹性波装置利用声
‑
电换能器的特征对压电基片表面上传播的声信号进行处理。弹性波装置具有成本低、体积小和功能多等优点，因此在雷达、通信、导航、识别等领域获得了广泛的应用。
[0003]弹性波装置上具有不同厚度的电极图案，以在弹性波装置内形成声速差，从而将声波能量约束在弹性波装置内部，提高了弹性波装置的品质因数值。现有技术中，形成不同厚度的电极图案需要两次光刻工艺，第一光刻工艺形成厚度1的电极图案，第二光刻工艺形成厚度2的电极图案。但是，第二次光刻工艺的曝光位置与第一次光刻工艺的曝光位置容易出现套刻偏移，形成的两个厚度的电极图案的形状、尺寸与相对位置不同于设计形状、尺寸与相对位置，进而致使弹性波装置不能很好地约束声波能量或不能约束声波能量，降低了弹性波装置的品质因数值以及性能。
[0004]因此，如何解决现有技术中形成弹性波装置的工艺存在的缺陷是亟待解决的问题。

技术实现思路

[0005]鉴于上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种弹性波装置的制作方法、一种谐振器以及一种滤波器，其旨在解决现有技术中形成弹性波装置的工艺存在的缺陷导致弹性波装置的品质因数值降低的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种弹性波装置的制作方法，所述弹性波装置的制作方法包括：
[0007]提供一压电晶圆，所述压电晶圆至少具有第一区域和第二区域；
[0008]在所述压电晶圆上形成具有第一镂空图案和第二镂空图案的第一光刻图形层，所述第一镂空图案位于所述第一区域，所述第二镂空图案位于所述第二区域，所述第一镂空图案以及所述第二镂空图案使得部分所述压电晶圆露出所述第一光刻图形层；
[0009]在所述第一光刻图形层上以及露出所述第一光刻图形层的所述压电晶圆上形成具有第一厚度的第一金属膜；
[0010]在所述第一金属膜上形成具有开窗的第二光刻图形层，所述开窗位于所述第二区域，使得位于所述第二区域内的所述第一金属膜露出所述第二光刻图形层；
[0011]在所述第二光刻图形层上以及露出所述第二光刻图形层的所述第一金属膜上形成具有第二厚度的第二金属膜；
[0012]剥离所述第一光刻图形层以及所述第二光刻图形层，以在所述第一区域形成具有第一厚度的第一电极图案，以及在所述第二区域形成具有第三厚度的第二电极图案，其中，
所述第三厚度为所述第一厚度与所述第二厚度之和。
[0013]综上所述，本申请实施例提供的弹性波装置的制作方法包括：提供一压电晶圆，所述压电晶圆至少具有第一区域和第二区域；在所述压电晶圆上形成第一光刻图形层，部分所述压电晶圆露出所述第一光刻图形层；在所述第一光刻图形层上以及露出所述第一光刻图形层的所述压电晶圆上形成具有第一厚度的第一金属膜；在所述第一金属膜上形成第二光刻图形层，位于所述第二区域内的所述第一金属膜露出所述第二光刻图形层；在所述第二光刻图形层上以及露出所述第二光刻图形层的所述第一金属膜上形成具有第二厚度的第二金属膜；剥离所述第一光刻图形层以及所述第二光刻图形层，以在所述第一区域形成具有第一厚度的第一电极图案，以及在所述第二区域形成具有第三厚度的第二电极图案，其中，所述第三厚度为所述第一厚度与所述第二厚度之和。因此，通过上述制作方法形成的所述第二电极图案不存在套刻偏差，保证了形成的弹性波装置的性能，同时，上述制作方法可以避免光刻胶涂覆不均匀的问题，保证了形成的弹性波装置的性能的一致性。而且，上述的制作方法只有一次剥离，降低了所述第一电极图案与所述第二电极图案被腐蚀的程度，极大程度地保证了形成的弹性波装置的性能。
[0014]在示例性实施方式中，所述在所述压电晶圆上形成具有第一镂空图案和第二镂空图案的第一光刻图形层，包括：
[0015]在所述压电晶圆上依次形成第一光刻胶层、支撑层以及第二光刻胶层；
[0016]在所述第二光刻胶层上形成第一光刻图形；
[0017]以所述第一光刻图形作为基础，在所述支撑层以及所述第一光刻胶层上形成第二光刻图形；
[0018]去除所述第二光刻胶层，形成由所述第一光刻胶层和所述支撑层构成的第一光刻图形层，其中，位于所述第一区域内的所述第二光刻图形形成第一镂空图案，位于所述第二区域内的所述第二光刻图形形成第二镂空图案。
[0019]在示例性实施方式中，所述在所述第一金属膜上形成具有开窗的第二光刻图形层，包括：
[0020]在所述第一金属膜上形成所述第二光刻图形层；
[0021]在所述第二光刻图形层上形成所述开窗。
[0022]在示例性实施方式中，所述第二光刻图形包括相间隔设置的多个光刻胶结构，所述光刻胶结构面对所述压电晶圆一端的宽度小于所述光刻胶结构背对所述压电晶圆一端的宽度。
[0023]在示例性实施方式中，所述第一光刻胶层的厚度大于所述第三厚度。
[0024]在示例性实施方式中，所述支撑层的厚度为30nm至100nm。
[0025]在示例性实施方式中，所述第二光刻胶层40的厚度小于所述第一光刻胶层的厚度。
[0026]在示例性实施方式中，第二光刻胶层的厚度为200nm至500nm。
[0027]在示例性实施方式中，第二光刻图形层的上表面高于位于第一光刻图形层上的第一金属膜的上表面。
[0028]在示例性实施方式中，所述第一电极图案为谐振器的叉指换能器，所述第二电极图案为所述谐振器的反射栅。
[0029]在示例性实施方式中，所述第一电极图案至少包括第一谐振器的叉指换能器，所述第二电极图案至少包括第二谐振器的叉指换能器。
[0030]基于同样的专利技术构思，本申请实施例还提供一种谐振器，所述谐振器包括叉指换能器和位于所述叉指换能器两侧的反射栅，所述叉指换能器的电极厚度和所述反射栅的电极指厚度不同，所述叉指换能器和所述反射栅由上述的弹性波装置的制作方法所形成。
[0031]综上所述，本申请实施例提供谐振器包括叉指换能器以及反射栅，所述叉指换能器和所述反射栅由上述的弹性波装置的制作方法所形成。因此，所述反射栅不存在套刻偏差，保证了所述谐振器的性能，同时，上述制作方法可以避免光刻胶涂覆不均匀的问题，保证了形成的谐振器的性能的一致性。而且，上述的制作方法只有一次剥离，降低了所述第一电极图案与所述第二电极图案被腐蚀的程度，极大程度地保证了形成的谐振器的性能。
[0032]基于同样的专利技术构思，本申请实施例还提供一种滤波器，所述滤波器包括由上述的弹性波装置的制作方法形成弹性波装置。
[0033]综上所述，本申请实施例提供的滤波器包括由上述的弹性波装置的制作方法形成弹性波装置。所述弹性波装置包括第一电极图案与第二电极图案，所述第二电极图案不存在套刻偏差，保证了所述谐振器的性能，同时，上述制作方法可以避免光刻胶涂覆不均匀的问本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种弹性波装置的制作方法，其特征在于，包括：提供一压电晶圆，所述压电晶圆至少具有第一区域和第二区域；在所述压电晶圆上形成具有第一镂空图案和第二镂空图案的第一光刻图形层，所述第一镂空图案位于所述第一区域，所述第二镂空图案位于所述第二区域，所述第一镂空图案以及所述第二镂空图案使得部分所述压电晶圆露出所述第一光刻图形层；在所述第一光刻图形层上以及露出所述第一光刻图形层的所述压电晶圆上形成具有第一厚度的第一金属膜；在所述第一金属膜上形成具有开窗的第二光刻图形层，所述开窗位于所述第二区域，使得位于所述第二区域内的所述第一金属膜露出所述第二光刻图形层；在所述第二光刻图形层上以及露出所述第二光刻图形层的所述第一金属膜上形成具有第二厚度的第二金属膜；剥离所述第一光刻图形层以及所述第二光刻图形层，以在所述第一区域形成具有第一厚度的第一电极图案，以及在所述第二区域形成具有第三厚度的第二电极图案，其中，所述第三厚度为所述第一厚度与所述第二厚度之和。2.如权利要求1所述的弹性波装置的制作方法，其特征在于，所述在所述压电晶圆上形成具有第一镂空图案和第二镂空图案的第一光刻图形层，包括：在所述压电晶圆上依次形成第一光刻胶层、支撑层以及第二光刻胶层；在所述第二光刻胶层上形成第一光刻图形；以所述第一光刻图形作为基础，在所述支撑层以及所述第一光刻胶层上形成第二光刻图形；去除所述第二光刻胶层，形成由所述第一光刻胶层和所述支撑层构成的第一光刻图形层，其中，位于所述第一区域内的所述第二光刻图形形成第一镂空图案，位于所述第二区域内的所述第二光刻图形形成第二镂空图案。3.如权利要求1所述的弹性波装置的制作方法，其特征在于，所述在所述第一金属膜上形成具有开窗的第二光刻图形层，包括：在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹家强，王华磊，杜波，倪建兴，
申请(专利权)人：锐石创芯重庆科技有限公司，
类型：发明
国别省市：