一种基片装片台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基片装片台，涉及镀膜技术领域，包括机体和固定安装在所述机体上的控制面板，所述真空筒固定安装在所述机体上；多个溅射靶头，各所述溅射靶头均固定安装在所述真空筒上；转板，所述转板竖向滑动设置在所述真空筒内；多个旋转组件，各所述旋转组件均固定设置在所述转板上。本实用新型专利技术提供的一种基片装片台，通过利用旋转组件对基片进行翻转，使得工作人员无需多次打开真空筒，便能够对基片的双面同时进行磁控溅射镀膜处理，不仅减少了工作人员的工作量，提高了对基片磁控溅射镀膜的效率，尽量避免了由于多次打开真空筒对真空筒中的真空效果造成影响的情况发生，在一定程度上提高了对基片磁控溅射镀膜的效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种基片装片台


[0001]本技术涉及镀膜
，具体涉及一种基片装片台。

技术介绍

[0002]磁控溅射镀膜设备是真空镀膜的其中一种，溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上高压电激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极靶材，使其射出膜料粒子并沉积到基片上形成膜层。
[0003]磁控溅射镀膜设备镀膜出来的产品具有膜层均匀性优越、附着力强、致密性高等优点，广泛运用于不锈钢、水镀五金件、塑胶件、玻璃陶瓷等材质。
[0004]如公告为CN209974876U，名称为《一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备》的中国专利，包括机箱，所述机箱的上端安装有支撑件，所述支撑件的上端一侧安装有真空箱，所述真空箱的上端一侧安装有磁控靶头，所述支撑件上滑动连接有溅射靶台，所述溅射靶台的下端两侧分别焊接有导向轴，所述导向轴滑动连接在支撑件上，两个所述导向轴的下端共同焊接有连接座，所述连接座和机箱的侧壁上共同安装有调节装置。上述专利解决了现有的磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶以及蒸发源由于都是固定安装在真空室内的，使用灵活性较差，导致在镀膜过程中，镀膜产品与溅射把头的距离不便于调节，使得镀膜的溅射范围不便于调节的问题。
[0005]然而当使用磁控镀膜设备对基片进行磁控溅射镀膜时，为了使得基片的双面都能够镀膜上膜层，因此在对基片的一面进行测控溅射镀膜之后，需要将基片翻转至另一面，从而对基片的另一面进行磁控溅射镀膜处理，但是上述专利仅仅解决了镀膜产品与溅射把头之间距离调节的问题，因此当使用上述专利对基片的双面进行磁控溅射镀膜时，需要在基片另一面磁控溅射镀膜完成后，打开真空筒才能够对基片进行翻面，因此不仅增加了工作人员的工作量，降低了对基片磁控溅射镀膜的效率，而且由于反复的打开真空筒，还会对真空筒中的真空效果造成影响，因此在一定程度上降低了对基片磁控溅射镀膜的效果。

技术实现思路

[0006]本技术的目的是提供一种基片装片台，以解决现有技术中的上述不足之处。
[0007]为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种基片装片台，包括机体和固定安装在所述机体上的控制面板，还包括：真空筒，所述真空筒固定安装在所述机体上；多个溅射靶头，各所述溅射靶头均固定安装在所述真空筒上；转板，所述转板竖向滑动设置在所述真空筒内；多个旋转组件，各所述旋转组件均固定设置在所述转板上，所述旋转组件包括：两个转动设置在所述转板上的横板，两所述横板之间共线逆向滑动设置有夹板，各所述夹板与两所述横板之间均设置有弹性件；所述转板上设置有用于驱动两所述夹板进行转动的驱动组件。
[0008]进一步地，所述旋转组件还包括固定安装在所述转板上的第一支撑板和第二支撑板，两所述横板分别转动连接在第一支撑板和第二支撑板上。
[0009]进一步地，所述弹性件为压簧，所述压簧的两端分别与横板和夹板固定连接。
[0010]进一步地，所述驱动组件包括固定连接在所述第一支撑板上的支架，所述支架上固定安装有第一电机，所述第一电机的输出端与两所述横板的其中一个固定连接。
[0011]进一步地，两所述夹板彼此相靠近的一侧均开设有卡槽，所述卡槽的内部固定安装有防护垫，所述防护垫为橡胶垫；两所述夹板远离卡槽的一侧均固定安装有拉杆，所述拉杆的截面呈“T”形。
[0012]进一步地，所述真空筒的内部固定安装有多个电动伸缩杆，多个所述电动伸缩杆的输出端固定连接有升降环，所述转板转动设置在所述升降环内。
[0013]进一步地，所述升降环的底面固定连接有多个连杆，多个所述连杆的底端固定连接有三叉板，所述三叉板上固定连接有第二电机，所述第二电机的输出端与所述转板固定连接。
[0014]进一步地，所述真空筒的侧壁固定安装有观察窗。
[0015]在上述技术方案中，本技术提供一种基片装片台，具备以下有益效果：当在对基片进行磁控溅射镀膜处理时，打开真空筒，使得旋转组件上的两个夹板能够对待需要进行磁控溅射镀膜的基片进行夹持，接着调节转板的高度，使得基片与溅射靶头之间能够调节至适当的距离，然后利用磁控靶头对基片的一面进行镀膜处理，当基片的一面在镀膜处理完成之后，利用驱动组件，使得两横板能够在驱动组件的作用下进行转动，从而对两夹板之间的基片进行翻转，从而使得溅射靶头能够对基片的另一面进行磁控溅射镀膜，通过利用旋转组件对基片进行翻转，使得工作人员无需多次打开真空筒，便能够对基片的双面同时进行磁控溅射镀膜处理，不仅减少了工作人员的工作量，提高了对基片磁控溅射镀膜的效率，尽量避免了由于多次打开真空筒对真空筒中的真空效果造成影响的情况发生，在一定程度上提高了对基片磁控溅射镀膜的效果。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本技术实施例提供的整体的结构示意图；
[0018]图2为本技术实施例提供的图1中真空筒的内部结构示意图；
[0019]图3为本技术实施例提供的图2的部分拆解结构示意图；
[0020]图4为本技术实施例提供的图3中转板的部分结构示意图；
[0021]图5为本技术实施例提供的图4的局部结构示意图；
[0022]图6为本技术实施例提供的图5中A处的结构示意图；
[0023]图7为本技术实施例提供的图5中B处的结构示意图；
[0024]图8为本技术实施例提供的图4的底部结构示意图。
[0025]附图标记说明：
[0026]1、机体；2、控制面板；3、真空筒；4、溅射靶头；5、观察窗；61、电动伸缩杆；62、升降环；63、转板；64、旋转组件；641、第一支撑板；642、第二支撑板；643、横板；644、夹板；645、弹性件；646、第一电机；647、支架；648、卡槽；649、拉杆；65、第二电机；66、三叉板；67、连杆。
具体实施方式
[0027]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面将结合附图对本技术作进一步的详细介绍。
[0028]请参阅图1
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8，本技术实施例提供的一种基片装片台，包括机体1和固定安装在机体1上的控制面板2，还包括：真空筒3，真空筒3固定安装在机体1上；多个溅射靶头4，各溅射靶头4均固定安装在真空筒3上；转板63，转板63竖向滑动设置在真空筒3内；多个旋转组件64，各旋转组件64均固定设置在转板63上，旋转组件64包括：两个转动设置在转板63上的横板643，两横板643之间共线逆向滑动设置有夹板644，各夹板644与两横板643之间均设置有弹性件645；转板63上设置有用于驱动两夹板644进行转动的驱动组件；当在对基片进行磁控溅射镀膜处理时，打开真空筒3，使得旋转组件64上的两个夹板644能够对待需要进行本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基片装片台，包括机体(1)和固定安装在所述机体(1)上的控制面板(2)，其特征在于，还包括：真空筒(3)，所述真空筒(3)固定安装在所述机体(1)上；多个溅射靶头(4)，各所述溅射靶头(4)均固定安装在所述真空筒(3)上；转板(63)，所述转板(63)竖向滑动设置在所述真空筒(3)内；多个旋转组件(64)，各所述旋转组件(64)均固定设置在所述转板(63)上，所述旋转组件(64)包括：两个转动设置在所述转板(63)上的横板(643)，两所述横板(643)之间共线逆向滑动设置有夹板(644)，各所述夹板(644)与两所述横板(643)之间均设置有弹性件(645)；所述转板(63)上设置有用于驱动两所述夹板(644)进行转动的驱动组件。2.根据权利要求1所述的一种基片装片台，其特征在于，所述旋转组件(64)还包括固定安装在所述转板(63)上的第一支撑板(641)和第二支撑板(642)，两所述横板(643)分别转动连接在第一支撑板(641)和第二支撑板(642)上。3.根据权利要求1所述的一种基片装片台，其特征在于，所述弹性件(645)为压簧，所述压簧的两端分别与横板(643)和夹板(644)固定连接。4.根据权利要求2所述的一种基片装片台，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾骏，王德苗，顾为民，冯斌，李东滨，
申请(专利权)人：杭州比凡科电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：