一种高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂、制备方法、用途及包含其的研磨液技术

本发明专利技术提供一种高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂、制备方法、用途及包含其的研磨液。本发明专利技术研磨助剂采用分散剂

【技术实现步骤摘要】
一种高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂、制备方法、用途及包含其的研磨液


[0001]本专利技术涉及研磨液技术，尤其涉及一种高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂、制备方法、用途及包含其的研磨液。

技术介绍

[0002]砷化镓(GaAs)作为第二代半导体其价格昂贵而素有“半导体贵族”之称。砷化镓是当代国际公认的继“硅”之后最成熟的化合物半导体材料，具有高频率、高电子迁移率、高输出功率、低噪音以及线性度良好等优越特性，是光电子和微电子工业最重要的支撑材料之一。以砷化镓为代表的第二代半导体，广泛应用于制造高频、高速、大功率、低噪声、耐高温、抗辐照等集成电路领域，已经发展成为现代电子信息产品”和“信息高速公路”关键技术，5G芯片市场非常好，产品供不应求。
[0003]砷化镓，作为化合物半导体的一种，其生产流程与大多数化合物半导体碳化硅、磷化铟等相似，都包括多晶合成、单晶生长后再经过切割、磨边、研磨、抛光、清洗等多道工艺，其中研磨工艺对砷化镓衬底片质量至关重要，由于砷化镓硬度较低，脆性高，研磨中的高硬度磨料和大颗粒极容易造成砷化镓表面划痕本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂，其特征在于，包括重量配比如下的各组分：2.根据权利要求1所述高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂，其特征在于，所述分散剂为马来酸
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丙烯酸共聚物、马来酸
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烯烃共聚物、聚乙烯吡咯烷酮
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乙烯咪唑共聚物、马来酸
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丙烯酸均聚物和聚乙烯亚胺聚氧乙烯醚中的一种或几种；和/或，所述防沉剂为羟乙基纤维素、碱溶胀型聚氨酯、碱溶性丙烯酸聚合物和聚乙烯醇中的一种或几种；和/或，所述电荷斥力剂为含有多氨基结构的阳离子络合剂。3.根据权利要求1所述高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂，其特征在于，所述润湿剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇乙氧基化合物TERIC168、烷基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和辛基酚聚氧乙烯醚中的一种或几种；和/或，所述消泡剂选自二甲基硅氧烷、乙二醇醚化聚二甲基硅氧烷、丙二醇醚化聚二甲基硅氧烷和炔二醇聚二甲基硅氧烷中的一种或几种。4.根据权利要求1所述高润湿、高分散、高悬浮、易清洗的研磨助剂，其特征在于，所述两亲性溶剂是具有亲油基团和亲水基团的水溶性溶剂。5.一种权利要求1
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4任意一项所述高...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯军，李传强，褚雨露，单晓倩，
申请(专利权)人：大连奥首科技有限公司，
类型：发明
国别省市：