一种拉晶设备用真空机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种拉晶设备用真空机构，涉及拉晶设备技术领域，包括拉晶真空装置本体，所述拉晶真空装置本体设置有单晶炉，所述单晶炉设置有真空发生装置，所述单晶炉右侧设置有输送管，所述输送管右端设置有装料体，所述装料体内部设置有隔热层，所述装料体内壁设置有加热板，所述隔热层内部设置有反应炉，所述装料体设置有进料口，当固定硅进料堵住时，由于重力的推挤，会使得斜板下移，从而带动转杆移动，此时在短杆的作用下，转杆转动，带动凸块转动，当凸块打击滑块时，使得滑块移动，从而带动抵杆移动，抵杆会抵触摆杆，使得摆杆摆动，从而摆杆会抵触摆动板，使得摆动板摆动，此时会对硅体打击，使得硅震动，从而可以疏通。从而可以疏通。从而可以疏通。

【技术实现步骤摘要】
一种拉晶设备用真空机构


[0001]本技术涉及拉晶设备
，具体为一种拉晶设备用真空机构。

技术介绍

[0002]半导体行业市场规模较大，产业链较长，技术门槛较高且应用广泛，是现代电子信息产业的基础。半导体行业的产业链主要包括上游半导体材料、中游半导体元件以及下游应用领域。上游材料半导体材料是一类具有半导体性能(导电能力介于导体与绝缘体之间)、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。
[0003]在现有的设备中，在放置固体硅进入设备时，如果一次倒太多，会导致进料口堵塞，使得人员疏通不方便，增加员工的工作量，且会降低工作效率。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本技术提供了一种拉晶设备用真空机构，解决了上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种拉晶设备用真空机构，包括拉晶真空装置本体，所述拉晶真空装置本体设置有单晶炉，所述单晶炉设置有真空发生装置，所述单晶炉右侧设置有输送管，所述输送管右端设置有装料体，所述装料体内部设置有隔热层，通过隔热层的设置，使得在加热固体硅时，避免加热装置对晶体的污染，所述装料体内壁设置有加热板，所述隔热层内部设置有反应炉，所述装料体设置有进料口，所述进料口开设有空腔，所述进料口设置有连动组件与疏通组件，所述连动组件包括：连接板、斜板、滑板、转杆、短杆、第一弹簧，所述斜板设置有凹槽，所述斜板开设有空腔，所述疏通组件包括：r/>[0008]滑块，所述滑块滑动连接在斜板的空腔内壁上，滑块移动时可以带动抵杆移动，抵杆移动时会抵触摆杆，使得摆杆摆动，从而可以使摆杆抵触摆动板，当摆动板摆动时，可以疏通堵住的固定硅；
[0009]稳定板，所述稳定板固定在斜板的空腔内壁上，稳定板主要稳定第二弹簧与抵杆；
[0010]第二弹簧，所述第二弹簧一端与滑块固定连接，所述第二弹簧远离滑块的一端与稳定板固定连接；
[0011]抵杆，所述抵杆一端与滑块固定连接，所述抵杆远离滑块的一端贯穿稳定板，且抵杆与稳定板滑动连接；
[0012]摆杆，所述摆杆贯穿斜板且摆杆与斜板铰接，支撑杆主要起到稳定摆动板的作用；
[0013]第一扭簧，所述第一扭簧一端与摆杆固定连接，所述第一扭簧远离摆杆的一端与斜板固定连接；
[0014]凸块，所述凸块固定在转杆的表面；
[0015]支撑杆，所述支撑杆一端与斜板凹槽内壁固定连接；
[0016]摆动板，所述摆动板铰接在支撑杆远离斜板的一端，摆动板摆动时，可以疏通堵住的固体硅；
[0017]第二扭簧，所述第二扭簧一端与摆动板固定连接，所述第二扭簧远离摆动板的一端与支撑杆固定连接；
[0018]限位块，所述限位块一端与支撑杆固定连接，所述限位块远离支撑杆的一端与摆动板贴合，限位块配合第二扭簧使得摆动板只能朝一个方向翻转，使得不会因为固体硅过多导致压动摆动板产生偏移。
[0019]优选的，所述连动组件设置有连接板，连接板配合斜板可以稳定固体硅的正常进料，所述连接板开设有空腔，所述连接板的空腔内壁滑动连接有滑板，滑板移动时可以带动转杆移动，所述滑板顶部固定有第一弹簧，所述第一弹簧顶部与连接板的空腔内壁顶部固定连接，所述滑板底部转动连接有转杆，转杆在斜板移动时移动，当转杆移动时通过短杆的配合，可以使得转杆转动，从而可以带动凸块转动，使得凸块可以打击滑块，使得滑块移动。
[0020]优选的，所述连动组件与疏通组件均设置有两组，且两组连动组件与疏通组件均以进料口的中心线为对称轴对称设置。
[0021]优选的，所述装料体底部固定有支撑腿。
[0022]优选的，所述转杆与表面开设有弧形滑槽，所述连接板空腔内壁固定有短杆。
[0023]优选的，所述短杆滑动连接在转杆的弧形滑槽内，所述转杆底部贯穿有斜板且转杆与斜板的空腔内壁转动连接。
[0024](三)有益效果
[0025]本技术提供了一种拉晶设备用真空机构。具备以下有益效果：
[0026](1)、该拉晶设备用真空机构设置有疏通组件，当固定硅进料堵住时，由于重力的推挤，会使得斜板下移，从而带动转杆移动，此时在短杆的作用下，转杆转动，带动凸块转动，当凸块打击滑块时，使得滑块移动，从而带动抵杆移动，抵杆会抵触摆杆，使得摆杆摆动，从而摆杆会抵触摆动板，使得摆动板摆动，此时会对硅体打击，使得硅震动，从而可以疏通。
[0027](2)、该拉晶设备用真空机构设置有连动组件，当硅体推积过多时，会使得斜板下移，从而会带动转杆移动，转杆移动时，在短杆的作用下，会使得转杆转动，从动带动凸块转动，使得凸块可以打击滑块，从而可以疏通硅体。
附图说明
[0028]图1为本技术正视结构示意图；
[0029]图2为本技术正视剖视结构示意图；
[0030]图3为本技术图2中A放大结构示意图；
[0031]图4为本技术图3中B放大结构示意图；
[0032]图5为本技术图3中C放大结构示意图；
[0033]图6为本技术图3中D放大结构示意图。
[0034]图中：1、拉晶真空装置本体；2、单晶炉；3、真空发生装置；4、输送管；5、装料体；6、加热板；7、隔热层；8、反应炉；9、支撑腿；10、进料口；11、连动组件；110、连接板；111、斜板；
112、滑板；113、转杆；114、短杆；115、第一弹簧；12、疏通组件；120、摆动板；121、滑块；122、第二弹簧；123、稳定板；124、抵杆；125、摆杆；126、第一扭簧；127、第二扭簧；128、限位块；129、凸块；1200、支撑杆。
具体实施方式
[0035]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0036]请参阅图1
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6，本技术提供一种技术方案：一种拉晶设备用真空机构，包括拉晶真空装置本体1，拉晶真空装置本体1设置有单晶炉2，单晶炉2设置有真空发生装置3，单晶炉2右侧设置有输送管4，输送管4右端设置有装料体5，装料体5内部设置有隔热层7，通过隔热层7的设置，使得在加热固体硅时，避免加热装置对晶体的污染，装料体5内壁设置有加热板6，隔热层7内部设置有反应炉8，装料体5设置有进料口10，进料口10开设有空腔，进料口10设置有连动组件11与疏通组件12，连动组件11包括：连接板110、斜板111、滑板112、转杆113、短杆114、第一弹簧115，斜板111设置有凹槽，斜板111开设有空腔，疏通组件12包括滑块121，滑块121滑动连接在斜板111的空腔内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种拉晶设备用真空机构，包括拉晶真空装置本体(1)，其特征在于：所述拉晶真空装置本体(1)设置有单晶炉(2)，所述单晶炉(2)设置有真空发生装置(3)，所述单晶炉(2)右侧设置有输送管(4)，所述输送管(4)右端设置有装料体(5)，所述装料体(5)内部设置有隔热层(7)，所述装料体(5)内壁设置有加热板(6)，所述隔热层(7)内部设置有反应炉(8)，所述装料体(5)设置有进料口(10)，所述进料口(10)开设有空腔，所述进料口(10)设置有连动组件(11)与疏通组件(12)，所述连动组件(11)包括：连接板(110)、斜板(111)、滑板(112)、转杆(113)、短杆(114)、第一弹簧(115)，所述斜板(111)设置有凹槽，所述斜板(111)开设有空腔，所述疏通组件(12)包括：滑块(121)，所述滑块(121)滑动连接在斜板(111)的空腔内壁上；稳定板(123)，所述稳定板(123)固定在斜板(111)的空腔内壁上；第二弹簧(122)，所述第二弹簧(122)一端与滑块(121)固定连接，所述第二弹簧(122)远离滑块(121)的一端与稳定板(123)固定连接；抵杆(124)，所述抵杆(124)一端与滑块(121)固定连接，所述抵杆(124)远离滑块(121)的一端贯穿稳定板(123)，且抵杆(124)与稳定板(123)滑动连接；摆杆(125)，所述摆杆(125)贯穿斜板(111)且摆杆(125)与斜板(111)铰接；第一扭簧(126)，所述第一扭簧(126)一端与摆杆(125)固定连接，所述第一扭簧(126)远离摆杆(125)的一端与斜板(111)固定连接；凸块(129)，所述凸块(129)固定在转杆(113)的表面；支撑杆(1200...

【专利技术属性】
技术研发人员：李魏，周子新，张帆，付聪，
申请(专利权)人：四川拓景科技有限公司，
类型：新型
国别省市：