一种暂态基板制造方法及显示装置制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种暂态基板制造方法及显示装置制造方法。暂态基板制造方法包括：提供一衬底；在所述衬底上形成支撑层；对所述支撑层进行区域划分，形成间隔设置的第一区域和第二区域，其中，在区域划分过程中，根据待转移的发光二极管芯片所需的固定力大小，来调节相邻两个所述第一区域和/或相邻两个所述第二区域之间的距离；对所述第一区域进行刻蚀，以在所述第二区域上形成间隔设置的多个支撑模块。可根据待转移的发光二极管芯片所需的固定力大小，来调节相邻两个所述第一区域和/或相邻两个所述第二区域之间的距离，来调节键合面的大小，并通过调节键合面的大小，控制发光二极管芯片的电极与暂态基板之间的固定力。的电极与暂态基板之间的固定力。的电极与暂态基板之间的固定力。

【技术实现步骤摘要】
一种暂态基板制造方法及显示装置制造方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种暂态基板制造方法及显示装置制造方法。

技术介绍

[0002]在微型发光二极管(Micro Light Emitting Diode，Micro
‑
LED)是新兴的显示技术，相对比常规的显示技术，以Micro LED技术为核心的显示具有响应速度快，自主发光、对比度高、使用寿命长、光电效率高等特点。Micro
‑
LED的制造过程中，需要将生长基板上的LED芯片转移并粘接在暂态基板上，然后利用转移基板将LED芯片由暂态基板转移至背板上，暂态基板与LED芯片的粘接力影响着LED芯片的转移良率，而暂态基板上固定力与所使用的胶材性能相关，不便于控制LED芯片与暂态基板的粘附力。

技术实现思路

[0003]鉴于上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供暂态基板制造方法及显示装置制造方法，旨在解决不便于控制暂态基板的固定力大小的技术问题。
[0004]本专利技术提供一种暂态基板制造方法，包括：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种暂态基板制造方法，其特征在于，包括：提供一衬底；在所述衬底上形成支撑层；对所述支撑层进行区域划分，形成间隔设置的第一区域和第二区域，其中，在区域划分过程中，根据待转移的发光二极管芯片所需的固定力大小，来调节相邻两个所述第一区域和/或相邻两个所述第二区域之间的距离；对所述第一区域进行刻蚀，以在所述第二区域上形成间隔设置的多个支撑模块。2.根据权利要求1所述的暂态基板制造方法，其特征在于，在所述第二区域上形成间隔设置的多个支撑模块之后的步骤包括：在所述衬底上形成黏附层，所述支撑模块与所述黏附层在第一方向上的长度相同，所述第一方向包括远离所述衬底的方向。3.根据权利要求1所述的暂态基板制造方法，其特征在于，在所述衬底上形成支撑层的步骤包括：在所述衬底上依次形成一牺牲层和一金属层。4.根据权利要求3所述的暂态基板制造方法，其特征在于，对所述第一区域进行刻蚀，以在所述第二区域上形成间隔设置的多个支撑模块的步骤包括：在所述金属层上形成一光刻胶层，对所述第一区域对应的光刻胶层进行显影，以在所述第二区域上形成间隔设置的多个光刻胶单元；以所述光刻胶单元为掩膜，对所述第一区域上的所述金属层以及所述牺牲层进行刻蚀，以在所述第二区域上形成间隔设置的多个所述支撑模块。5.根据权利要求4所述的暂态基板制造方法，其特征在于，所述光刻胶层为正性光刻胶层，对所述第一区域进行曝光和显影，控制形成的所述光刻胶单元的尺寸和/或间距。6.根据权利要求4所述的暂态基板制造方法，其特征在于，所述光刻胶层为负性光刻胶层，对所述第二区域进行曝光并对所述第一区域进行显影，控制形成的所述光刻胶单元的尺寸和/或间距。7.根据权利要求1所述的暂态基板制造方法，其特征在于，多个所述支撑模块等距间隔设置在所述衬底上。8.一种显示装置制造方法，其特征在于，包括：提供一生长基板，所述生长基板上设置有多个待转移的发光二极管芯片；提供一暂态基板，在所述暂态基板的衬底上形成支撑层，对所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王斌，萧俊龙，汪楷伦，汪庆，范春林，
申请(专利权)人：重庆康佳光电技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：