【技术实现步骤摘要】
适用于臭氧水罐体内的曝气装置
[0001]本技术涉及半导体
,特别涉及一种适用于臭氧水罐体内的曝气装置。
技术介绍
[0002]现有的适用于臭氧水罐体内曝气的方法主要有以下两种:
[0003]一是使用材料为钛的微孔曝气头,该曝气头以工业纯钛粉(纯度≥99.6899%)为主要原料,经过高温真空烧结而成,孔隙度达到35~50%。该微孔钛曝气头可将臭氧气体均匀扩散,形成臭氧小气泡,增加气液接触面积。
[0004]二是使用以三元乙丙橡胶(EPDM)为基片,并在基片上镀聚四氟乙烯(PTFE)膜层的曝气盘。EPDM基片弹性系数高,曝气系统工作时,基片鼓起;曝气系统关闭后,基片回落到底座上并密闭。
[0005]以上两种方案存在的缺点:
[0006]由于钛的微孔曝气头由钛粉经过高温真空烧结而成,长时间的臭氧曝气后会有少量钛粉脱落和钛金属析出,污染臭氧水。
[0007]以三元乙丙橡胶(EPDM)为基片,并在基片上镀聚四氟乙烯(PTFE)膜层的曝气盘在工作时,由于基片边缘固定处被反复拉伸,容易造成镀 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种适用于臭氧水罐体内的曝气装置,其特征在于,包含:托架,所述托架的底部设有进气口,所述托架安装在外部的臭氧水罐的底部;第一微孔盘,所述第一微孔盘与所述托架相连,所述第一微孔盘上设有均匀分布的若干第一气孔;第二微孔盘,所述第二微孔盘与所述托架相连,且位于所述第一微孔盘的顶部,所述第二微孔盘上设有均匀分布的若干第二气孔,所述若干第二气孔与所述若干第一气孔相互错位设置。2.如权利要求1所述适用于臭氧水罐体内的曝气装置,其特征在于,所述托架上设有第一台阶和第二台阶,所述第一台阶与所述第一微孔盘相连,所述第二台阶与所述第二微孔盘相连。3.如权利要求1所述适用于臭氧水罐体内的曝气装置,其特征在于,所述第二气孔和所述第一气孔的孔径大小一致。4.如权利要求1或3所述适用于臭氧水罐体...
【专利技术属性】
技术研发人员:吕南,赵阳,蔡昆伦,
申请(专利权)人:赛芈科技上海有限公司,
类型:新型
国别省市:
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