本发明专利技术涉及汽车配件技术领域，尤其是指一种具有反光膜的迎宾踏板的制备方法及通过该制备方法所制得的迎宾踏板，该制备方法包括：A.对基体进行预处理以去除基体表面杂质；B.往基体表面上涂底漆；C.于基体表面采用真空镀膜的方式镀反光膜；D.采用高压离子轰击经镀膜后的基体；E.对经高压离子轰击后的基体镀SiO过渡保护膜；F.对经步骤E处理后的基体镀MgF2保护膜。本发明专利技术通过在基体上镀有反光膜，使得基体无需设置额外电源供电，只需通过反射外界光源即可照亮车内，寿命较长，避免更换踏板的繁琐步骤。琐步骤。琐步骤。
【技术实现步骤摘要】
一种具有反光膜的迎宾踏板的制备方法及迎宾踏板
[0001]本专利技术涉及汽车配件
，尤其是指一种具有反光膜的迎宾踏板的制备方法及迎宾踏板。
技术介绍
[0002]汽车在我们生活、日常出行占据越来越重要的地位。迎宾踏板是一种起保护车体、美化车体作用的汽车配件。现有的迎宾踏板一般采用自带电源的方式来实现保持照明的功能，需要额外电源供电，存在一定的能量损耗；且无法保证持续供明，更换踏板步骤繁琐，寿命较短。
技术实现思路
[0003]本专利技术针对现有技术的问题提供一种具有反光膜的迎宾踏板的制备方法及迎宾踏板，无需专门配备电源，通过具有反光的功能以达到供明效果。
[0004]为了解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：
[0005]本专利技术提供的一种具有反光膜的迎宾踏板的制备方法，包括
[0006]A.对基体进行预处理以去除基体表面杂质；
[0007]B.往基体表面上涂底漆；
[0008]C.于基体表面采用真空镀膜的方式镀反光膜；
[0009]D.采用高压离子轰击经镀膜后的基体；
[0010]E.对经高压离子轰击后的基体镀SiO过渡保护膜；
[0011]F.对经步骤E处理后的基体镀MgF2保护膜。
[0012]进一步的，步骤A具体包括
[0013]A1.采用去离子水对基体进行超声波清洗20
‑
30min；
[0014]A2.采用纯净水清洗基体20
‑
30min；
[0015]A3.采用烘箱对基体进行2
‑
3h烘干。
[0016]进一步的，步骤B具体包括
[0017]B1.采用喷涂或浸入的方式对基体进行涂抹底漆；
[0018]B2.对涂抹底漆后的基体进行烘干，烘干时间为23
‑
25h。
[0019]进一步的，在步骤C中，所述反光膜为铝膜或银膜。
[0020]进一步的，步骤D具体包括
[0021]D1.把基体低压惰性气体环境中；
[0022]D2.对基体加以直流电，该直流电的电压为2000
‑
3500V，电流为4
‑
6A；通过直流电产生稳定的辉光放电；
[0023]D3.经辉光放电产生等离子流以轰击反光膜表面100
‑
200s。
[0024]更进一步的，在步骤D中，所述低压惰性气体所用气体为氮气，气压为4
‑
6Pa。
[0025]进一步的，步骤E具体为：在压强为1*10
‑3‑
10
‑5Pa的环境下，以16
‑
20A/s的速率对
基体进行镀SiO过渡保护膜，执行时间为5
‑
7s。
[0026]进一步的，步骤F采用离子束辅助沉积技术进行镀MgF2保护膜。
[0027]更进一步的，步骤F具体包括
[0028]F1.以基体作为阴极，MgF2作为阳极构成离子束辅助沉积电路；
[0029]F2.调整基体周围的气压至1
‑
3*10
‑2Pa，然后启动离子束辅助沉积电路以在基体表面形成MgF2耐磨保护膜；
[0030]F3.辅助沉积完成后，往真空镀膜设备内充入1Pa的氩气，通过氩离子轰击基体以清理基体表面的不规则凸起，清理时间为10
‑
20min。
[0031]本专利技术还提供了一种迎宾踏板，其采用上述的制备方法制得；
[0032]包括依此设置的基体、底漆、反光膜、过渡保护膜以及耐磨擦保护膜，过渡保护膜的材料为SiO，耐磨擦保护膜的材料为MgF2。
[0033]本专利技术的有益效果：本专利技术通过在基体上镀有反光膜，使得基体无需设置额外电源供电，只需通过反射外界光源即可照亮车内，寿命较长，避免更换踏板的繁琐步骤。
附图说明
[0034]图1为本专利技术的总流程图。
[0035]图2为本专利技术的预处理步骤的具体流程图。
[0036]图3为本专利技术的涂底漆步骤的具体流程图。
[0037]图4为本专利技术的高压离子轰击的具体流程图。
[0038]图5为本专利技术的镀MgF2保护模的具体流程图。
[0039]图6为本专利技术所制得的迎宾踏板的结构示意图。
[0040]附图标记：1—基体，2—底漆，3—反光膜，4—过渡保护膜，5—耐磨擦保护膜。
具体实施方式
[0041]为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例与附图对本专利技术作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本专利技术的限定。以下结合附图对本专利技术进行详细的描述。
[0042]如图1至图6所示，本专利技术提供的一种具有反光膜的迎宾踏板的制备方法，包括
[0043]A.对基体1进行预处理以去除基体1表面杂质；
[0044]B.往基体1表面上涂底漆2；
[0045]C.于基体1表面采用真空镀膜的方式镀反光膜3；
[0046]D.采用高压离子轰击经镀膜后的基体1；
[0047]E.对经高压离子轰击后的基体1镀SiO过渡保护膜4；
[0048]F.对经步骤E处理后的基体1镀MgF2保护膜。
[0049]具体的，经本专利技术所制得的迎宾踏板，其具体结构为：包括依此设置的基体1、底漆2、反光膜3、过渡保护膜4以及耐磨擦保护膜5，过渡保护膜4的材料为SiO，耐磨擦保护膜5的材料为MgF2。
[0050]即通过本专利技术所制得的迎宾踏板，其具有反光功能，能够在天色暗时把外界灯光照射在反光膜3上的光线进行反射，从而达到了与迎宾踏板自身进行发光相类似的效果，减少了电源，达到了有利于可持续发展、无需更换电源而浪费时间的效果；此外，为了避免反
光膜3被磨损，因此本专利技术还设置过渡保护膜4和保护膜覆盖在反光膜3上，在保证反光膜3本身反光效果不被影响的前提下，能够提升迎宾踏板的耐磨性能，从而保证了迎宾踏板的使用寿命。
[0051]在本实施例中，步骤A具体包括
[0052]A1.采用去离子水对基体1进行超声波清洗20
‑
30min；
[0053]A2.采用纯净水清洗基体120
‑
30min；
[0054]A3.采用烘箱对基体1进行2
‑
3h烘干。
[0055]即在步骤A中，主要通过清洗去离子水、纯净水先后清洗基体1后进行烘干，达到了有效去除基体1表面杂质的效果，避免表面杂质影响到后续的镀膜效果。
[0056]在本实施例中，步骤B具体包括
[0057]B1.采用喷涂或浸入的方式对基体1进行涂抹底漆2；
[0058]B2.对涂抹底漆2后的基体1进行烘干，烘干时间为23
‑
25h。
[0059]通过上底漆2后对底漆2进行一天时间的烘干，能够保证底漆2中的水分全部蒸发，以确保基体1处于干燥状态进行后续的动作动作。本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有反光膜的迎宾踏板的制备方法，其特征在于：包括A.对基体进行预处理以去除基体表面杂质；B.往基体表面上涂底漆；C.于基体表面采用真空镀膜的方式镀反光膜；D.采用高压离子轰击经镀膜后的基体；E.对经高压离子轰击后的基体镀SiO过渡保护膜；F.对经步骤E处理后的基体镀MgF2保护膜。2.根据权利要求1所述的具有反光膜的迎宾踏板的制备方法，其特征在于：步骤A具体包括A1.采用去离子水对基体进行超声波清洗20
‑
30min；A2.采用纯净水清洗基体20
‑
30min；A3.采用烘箱对基体进行2
‑
3h烘干。3.根据权利要求1所述的具有反光膜的迎宾踏板的制备方法，其特征在于：步骤B具体包括B1.采用喷涂或浸入的方式对基体进行涂抹底漆；B2.对涂抹底漆后的基体进行烘干，烘干时间为23
‑
25h。4.根据权利要求1所述的具有反光膜的迎宾踏板的制备方法，其特征在于：在步骤C中，所述反光膜为铝膜或银膜。5.根据权利要求1所述的具有反光膜的迎宾踏板的制备方法，其特征在于：步骤D具体包括D1.把基体低压惰性气体环境中；D2.对基体加以直流电，该直流电的电压为2000
‑
3500V，电流为4
‑
6A；通过直流电产生稳定的辉光放电；D3.经辉光放电产生等离子流以轰击反光膜表面100
‑
200s...
【专利技术属性】
技术研发人员：王文涛，张亮旗，王世权，张帆，
申请(专利权)人：江苏赛诺高德新能源材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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